- •Микромеханические тензорезистивные преобразователи
- •Аналогия между процессами получения, обработки и преобразования сигналов в биологических и технических система
- •1. Физические эффекты как основа построения сенсоров
- •Преобразователи различных видов энергии
- •2. Кристаллическая решетка кремния
- •3. Индексы миллера
- •4. Математическое описание упругих свойств кремния
- •Механические параметры кремния
- •Характеристики упругости кремния
- •6. Виды легирования тензорезисторов
- •7. Тензорезистивный эффект и его математическое описание
- •8. Главные тензорезистивные коэффициенты
- •Главные тензорезистивные коэффициенты равномерно слаболегированных слоёв кремния
- •9. Факторы, определяющие величину главных тензорезистивных коэффициентов
- •10. Произвольная ориентация тензорезисторов, расположенных на плоскостях (001), (011), (111) кристалла
- •Пьезорезистивные коэффициенты в зависимости от ориентации на плоскости и от типа проводимости
- •11. Полупроводниковые тензорезисторы в мостовых схемах постоянного тока
- •12. Метрологические характеристики мостовых тензорезистивных преобразователей
- •13. Технологические процессы производства микропреобразователей
- •14. Чувствительные элементы тензореобразователей
- •15. Интегральный измерительный преобразователь давления (иипд)
- •16. Измерительный преобразователь ускорения
- •17. Конструирование интегральных измерительных преобразователей
- •Расчёт прогиба и механических напряжений для кремниевой мембраны круглой формы
- •Расчёт прогиба и механических напряжений в кремниевой мембране квадратной формы
- •Конструирование интегральных тензорезисторов
Главные тензорезистивные коэффициенты равномерно слаболегированных слоёв кремния
Тип проводимости |
Удельное объемное сопротивление, Ом·см |
Концентрация примесей, м-3 |
Тензорезистивный коэффициент π, 10-11 м2/Н |
||
|
|
|
|||
n |
11,7 |
4∙1020 |
-102,2 |
53,4 |
-13,6 |
р |
7,8 |
1,7∙1021 |
6,6 |
-1,1 |
138,1 |
Коэффициенты
можно
перевести в коэффициент тензочувствительности
материала (
),
если учесть, например, что
тогда
= 102,2
Рассмотренные случаи ограничиваются декартовой системой координат, ориентированной в направлении кристаллографических осей. Разумеется, применяемые полупроводниковые элементы можно расположить в монокристалле под любым углом. В этом случае так же возникают тензорезистивные эффекты, однако значения тензорезистивных коэффициентов должны быть пересчитаны с учётом направляющих косинусов, определяющих положение продольной оси ТР в новой системе координат.
9. Факторы, определяющие величину главных тензорезистивных коэффициентов
Для большинства практических применений основной интерес представляют концентрационные и температурные зависимости только коэффициентов π44 (для p-типа) и π11 (для n-типа).
Значения главных тензорезистивных коэффициентов зависят от ряда факторов: материала полупроводника, типа проводимости, удельного сопротивления, температуры и от механического напряжения или деформации.
1. Тензорезистивные коэффициенты зависят от деформации. Для слаболегированного кремниевого ТР n-типа проводимости при одноосном растяжении относительное изменение сопротивления нелинейно зависит от деформации:
Чтобы нелинейность зависимости ΔR/R не превышала 1%, деформация должна быть меньше 5·10-5. Тензочувствительность ТР, определяемая как
будет уменьшаться при больших уровнях деформации.
Для
р-кремния
при сильном легировании (1026
1/м3)
тензочувствительность остается
постоянной вплоть до деформации порядка
2,5·10-3.
При большей деформации
тензочувствительность
ТР p-типа,
в отличие от n-типа,
будет несколько увеличиваться. На рис.
11. представлены графики зависимости
предельной деформации
,
вызывающей однопроцентное изменение
тензочувствительности в функции степени
легирования тензорезисторов: для
одноосного растяжения тензорезисторов
типа, ориентированных вдоль оси [111] и
тензорезисторов
типа,
ориентированных вдоль оси [100].
Рис.11. Зависимость предельной деформации , вызывающей 1% - ое изменение тензочувствительности, от концентрации примесей N для n- и p-типов кремния
2. Температурно-концентрационные зависимости коэффициента π44 для равномерно легированного кремния p-типа приведены на рис. 12.
Рис.12. Зависимость главного тензорезистивного коэффициента от температуры и концентрации примесей для равномерно легированного кремния p-типа проводимости
На рис. 13 приведены температурно-концентрационные зависимости коэффициента π44 для диффузионных ТР, выполненных из кремния p-типа проводимости. В диффузионных слоях тензорезистивные коэффициенты определяются концентрацией примесей на поверхности образца и практически не зависят от закона распределения примесей. С помощью зависимостей, показанных на рис. 13, можно рассчитать чувствительность диффузионных ТР и температурную зависимость чувствительности для различных значений поверхностной концентрации примесей.
Рис.13. Зависимость от температуры и поверхностной концентрации примесей главных тензорезистивных коэффициентов для диффузионных слоёв кремния p-типа проводимости (а) и для n-типа проводимости (б)
По мере увеличения концентрации примесей необходимость учёта главных тензорезистивных коэффициентов (π12 и π11 для р-типа и π12 и π44 для n-типа) возрастает. Например, по мере нарастания поверхностной концентрации примесей значение коэффициента π44 (для n-типа кремниевого диффузионного слоя) становится не только соизмеримым, но и больше соответствующих значений коэффициента π11 (рис. 14).
Рис.14. Зависимость коэффициента π44 от поверхностной концентрации примесей для диффузионных слоёв кремния n-типа проводимости
