Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
компановка без рисунков и без библиографии.docx
Скачиваний:
3
Добавлен:
01.05.2025
Размер:
247.56 Кб
Скачать

Главные тензорезистивные коэффициенты равномерно слаболеги­рованных слоёв кремния

Тип

проводимости

Удельное объемное

сопротивление, Ом·см

Концентрация

примесей, м-3

Тензорезистивный коэффициент π, 10-11 м2

n

11,7

4∙1020

-102,2

53,4

-13,6

р

7,8

1,7∙1021

6,6

-1,1

138,1

Коэффициенты можно перевести в коэффициент тензочувствительности материала ( ), если учесть, например, что тогда = 102,2

Рассмотренные случаи ограничиваются декартовой системой координат, ориентированной в направлении кристаллографических осей. Разумеется, применяемые полупроводниковые элементы мож­но расположить в монокристалле под любым углом. В этом случае так же возникают тензорезистивные эффекты, однако значения тензорезистивных коэффициентов должны быть пересчитаны с учётом направляющих косинусов, определяющих положение продольной оси ТР в новой системе координат.

9. Факторы, определяющие величину главных тензорезистивных коэффициентов

Для большинства практических применений основной интерес представляют концентрационные и температурные зависимости только коэффициентов π44 (для p-типа) и π11 (для n-типа).

Значения главных тензорезистивных коэффициентов зависят от ряда факторов: материала полупроводника, типа про­водимости, удельного сопротивления, температуры и от механического напряжения или деформации.

1. Тензорезистивные коэффициенты зависят от деформации. Для слаболегированного кремниевого ТР n-типа проводимо­сти при одноосном растяжении относительное изменение сопротивления нелиней­но зависит от деформации:

Чтобы нелинейность зависимости ΔR/R не превышала 1%, деформация должна быть меньше 5·10-5. Тензочувствительность ТР, определяемая как

будет уменьшаться при больших уровнях деформации.

Для р-кремния при сильном легировании (1026 1/м3) тензочувствительность остается постоянной вплоть до деформации порядка 2,5·10-3. При большей деформации тен­зочувствительность ТР p-типа, в отличие от n-типа, будет несколько увеличиваться. На рис. 11. представлены графики зависимости предельной деформации , вызывающей однопроцентное изменение тензочувствительности в функции степени легирования тензорезисторов: для одноосного растяжения тензорезисторов типа, ориентированных вдоль оси [111] и тензорезисторов типа, ориентированных вдоль оси [100].

Рис.11. Зависимость предельной деформации , вызывающей 1% - ое изменение тензочувствительности, от концентрации примесей N для n- и p-типов кремния

2. Температурно-концентрационные зависимости коэффициента π44 для равномерно легированного кремния p-типа приведены на рис. 12.

Рис.12. Зависимость главного тензорезистивного коэффициента от температуры и концентрации примесей для равномерно легированного кремния p-типа проводимости

На рис. 13 приведены температурно-концентрационные зависимости коэффициента π44 для диффузионных ТР, выполненных из кремния p-типа проводимости. В диффузионных слоях тензорезистивные коэффициенты определяются концентрацией примесей на поверхности образца и практически не зависят от за­кона распределения примесей. С помощью зависимостей, показанных на рис. 13, можно рассчитать чувствительность диффузионных ТР и температурную зависимость чувствительности для различных значений поверхностной концентрации примесей.

Рис.13. Зависимость от температуры и поверхностной концентрации примесей главных тензорезистивных коэффициентов для диффузионных слоёв кремния p-типа проводимости (а) и для n-типа проводимости (б)

По мере увеличения концентрации примесей необ­ходимость учёта главных тензорезистивных коэффициентов (π12 и π11 для р-типа и π12 и π44 для n-типа) возрастает. Например, по мере нарастания поверхностной концен­трации примесей значение коэффициента π44 (для n-типа кремниевого диффузионного слоя) становится не только соизмеримым, но и больше соответствующих значений коэффициента π11 (рис. 14).

Рис.14. Зависимость коэффициента π44 от поверхностной концентрации примесей для диффузионных слоёв кремния n-типа проводимости