- •Рецензенты:
- •Глава 1. Термоионное осаждение
- •1.1. Осаждение пленочных покрытий
- •1.2. Основные типы систем термоионного осаждения
- •Глава 2. Осаждение пленок методами катодного распыления в плазме газового разряда и ионным лучом
- •2.1. Принципы методов и конструктивные особенности
- •2.2. Основные преимущества методов катодного распыления по сравнению с термическим испарением
- •Глава 3. Особенности формирования пленок многокомпонентных материалов
- •3.1. Распыление бинарных соединений, содержащих летучие
- •VAlN109, моль/ccм2
- •VAl106, моль/ccм2
- •3.2. Распыление бинарных соединений, не содержащих летучие компоненты
- •3.3. Особенности распыления многокомпонентных соединений
- •Литература
- •Содержание
Содержание
Введение…………………………………………………………………………...
Глава 1. Термоионное осаждение……………….………………….. 1.1.Осаждение пленочных покрытий………………………..………….. 1.2.Основные типы систем термоионного осаждения………………….
Глава 2. Осаждение пленок методами катодного распыления в плазме газового разряда и ионным лучом…………………………………………………...………… 2.1.Принципы методов и конструктивные особенности………………. 2.2.Основные преимущества методов катодного распыления по сравнению с термическим испарением ……………...……..………
Глава 3. Особенности формирования пленок многокомпонентных материалов……………………………….. 3.1.Распыление бинарных соединений содержащих летучие компоненты………………………………………………..... 3.2.Распыление бинарных соединений не содержащих летучие компоненты………………………………………...………………… 3.3.Особенности распыления многокомпонентных соединений на примере железо-иттриевого граната ЖИГ)……………………... 3.4.Выводы……………………………………….......................................
Литература……………………………………………………………………
|
4
7 7 8
14 14
23
24
25
32
39 43
44 |
Владимир Владимирович Слепцов
Вера Матвеевна Елинсон
Валентин Михайлович Пролейко
Александр Михайлович Баранов
Анизотропные низкотемпературные ионно-плазменные методы формирования пленок и пленочных структур
Редактор А.Н. Прохорова
Лицензия ЛР№ 020447 от 17.04.1997.
Подписано в печать Формат 6084 1/16
Бумага офсетная. Печать на ризографе.
Усл. печ. л. 3. Уч.-изд. л. 1,9.
Тираж Заказ №
Издательско-типографический центр «МАТИ» - Российского государственного технологического университета им. К.Э. Циолковского.
Типография ИЦ «МАТИ» - Российского государственного
технологического университета им. К.Э. Циолковского.
109240, Москва, Берниковская наб., 14
