Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Anisotr.doc
Скачиваний:
0
Добавлен:
01.05.2025
Размер:
2.38 Mб
Скачать

Содержание

Введение…………………………………………………………………………...

Глава 1. Термоионное осаждение……………….…………………..

1.1.Осаждение пленочных покрытий………………………..…………..

1.2.Основные типы систем термоионного осаждения………………….

Глава 2. Осаждение пленок методами катодного

распыления в плазме газового разряда

и ионным лучом…………………………………………………...…………

2.1.Принципы методов и конструктивные особенности……………….

2.2.Основные преимущества методов катодного распыления по

сравнению с термическим испарением ……………...……..………

Глава 3. Особенности формирования пленок

многокомпонентных материалов………………………………..

3.1.Распыление бинарных соединений содержащих

летучие компоненты……………………………………………….....

3.2.Распыление бинарных соединений не содержащих летучие

компоненты………………………………………...…………………

3.3.Особенности распыления многокомпонентных соединений

на примере железо-иттриевого граната ЖИГ)……………………...

3.4.Выводы……………………………………….......................................

Литература……………………………………………………………………

4

7

7

8

14

14

23

24

25

32

39

43

44

Владимир Владимирович Слепцов

Вера Матвеевна Елинсон

Валентин Михайлович Пролейко

Александр Михайлович Баранов

Анизотропные низкотемпературные ионно-плазменные методы формирования пленок и пленочных структур

Редактор А.Н. Прохорова

Лицензия ЛР№ 020447 от 17.04.1997.

Подписано в печать Формат 6084 1/16

Бумага офсетная. Печать на ризографе.

Усл. печ. л. 3. Уч.-изд. л. 1,9.

Тираж Заказ №

Издательско-типографический центр «МАТИ» - Российского государственного технологического университета им. К.Э. Циолковского.

Типография ИЦ «МАТИ» - Российского государственного

технологического университета им. К.Э. Циолковского.

109240, Москва, Берниковская наб., 14

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]