
- •Содержание
- •1. Электронно-дырочный переход
- •1.1. Электронно-дырочный переход в условиях равновесия.
- •1.2. Электронно - дырочный переход при постоянном смещении.
- •1.3. Пробой p-n перехода.
- •1.4. Емкостные свойства p-n перехода.
- •1.5.Омический контакт.
- •2. Основные типы полупроводниковых диодов.
- •2.1. Выпрямительные плоскостные диоды.
- •2.2. Параметры выпрямительных диодов.
- •2.3. Условные обозначения выпрямительных диодов.
- •2.4. Выпрямительные кремниевые диоды.
- •2.5. Высокочастотные диоды.
- •2.6. Кремниевые стабилитроны (опорные диоды).
- •2.7. Условные обозначения кремниевых стабилитронов.
- •2.9. Варикапы.
- •2.10. Импульсные диоды.
- •2.12. Туннельный диод
- •2.13. Параметры туннельных диодов.
- •2.14. Обращённый диод.
2.12. Туннельный диод
Туннельным диодом называется такой, принцип действия которого основан на туннельном эффекте. В отличие от обычного диода, туннельный хорошо проводит ток в обратном направлении, а на прямой ветви его вольтамперной характеристики имеется падающий участок с отрицательным дифференциальным сопротивлением. Явление туннельного эффекта заключается в том, что электрон, обладающий энергией меньшей, чем высота потенциального барьера, может все же пройти сквозь барьер, если по другую сторону от барьера имеется такой же свободный энергетический уровень. Таким образом, туннельный переход электронов происходит без изменения их энергии.
Для широких электронно-дырочных переходов с низкой напряженностью электрического поля вероятность туннельного перехода электронов мала. Так, например, для германия при напряженности поля в переходе 106 В/м вероятность туннельного перехода электрона за 1 с составляет 10-100. При напряженности поля 107 В/м через переход за счет туннельного эффектна будет проходить 1 электрон в 1 с , а при напряженности 108 В/м - 1012 электронов в секунду.
Приведенные цифры говорят о том, что туннельный переход электронов в существенной степени определяется напряженностью поля в электронно-дырочном переходе.
Повышением концентрации примесей в р и n областях диода можно увеличить напряженность поля в p-n переходе (за счет уменьшения его ширины ) до величины, при которой туннельный переход электронов резко увеличивается. Поэтому туннельные диоды изготавливаются на основе сильно легированных полупроводников таких, как германий, кремний, арсенид галлия. При этом толщина p-n перехода туннельного диода составляет около 10-8 м, а напряженность поля получается порядка (6 7)107 В/м.
Сильнее легирование p и n областей приводит к тому, что примесные локальные уровни размываются в зоны, перекрывающиеся с ближайшими разрешенными зонами (акцепторные уровни размываются в зону, перекрывающуюся с валентной зоной, а донорные - в зону, перекрывающуюся с зоной проводимости).
Т
акое
слияние зон происходит при некоторой
критической концентрации примесей.
Например, для германия значение
критической концентрации составляет
2 ∙ 1025
м-3,
а для кремния
– около 6 ∙
1025
м-3.
Уровень Ферми в этом случае лежит внутри разрешенных зон и располагается приблизительно на расстоянии 3T от их границ. Таким образом, зонная диаграмма p-n перехода, образованного двумя сильно легированными полупроводниками принимает вид, показанный на рис.2.21.
Из рисунка видно, что напротив разрешенных уровней валентной зоны p полупроводника располагаются разрешенные уровни зоны проводимости n полупроводника. Там же упрощенно показано, что электроны стремятся занять более низкие энергетические уровни, и поэтому верхние уровни валентной зоны p области оказываются в основном занятыми дырками, а уровни, лежащие вблизи дна зоны проводимости n области, оказываются в основном занятыми электронами.
На рис. 2.22. приведена вольтамперная характеристика туннельного диода. При отсутствии внешнего напряжения имеются одинаковые условия для туннельного перехода электронов слева направо и справа налево; в состоянии термодинамического равновесия ток равен нулю (рис. 2.22 а). Если на туннельный диод подано прямое напряжение, то часть заполненных уровней зоны проводимости n области оказываются против почти пустых уровней валентной зоны p области. В этом случае начинает преобладать туннельный переход электронов из зоны проводимости n области в валентную зону p области. Причем туннельный ток имеет значительно большую величину, чем обычный диффузионный ток (рис.2.22.б). С увеличением прямого напряжения результирующий туннельный ток будет расти, так как будет возрастать переход электронов из n в p область: увеличивается число заполненных уровней в зоне проводимости n полупроводника, перекрывающихся с незаполненными уровнями валентной зоны p полупроводника. При этом обратный туннельный переход электронов уменьшается.
При некотором напряжении на диоде суммарный туннельный ток достигнет максимума (рис. 2.22,в), а затем будет уменьшаться в связи с уменьшением перекрытия энергетических зон и числа уровней, на которые могут переходить электроны за счет туннельного эффекта. На вольтамперной характеристике туннельного диода появляется падающий участок с отрицательным дифференциальным сопротивлением (рис. 2.22,г).
Когда под воздействием прямого смещения энергетический уровень потолка валентной зоны р области совпадает с энергетическим уровнем дна зоны проводимости n области, туннельный ток обратится в ноль (рис. 2.22,д). Однако при этом через диод течет ток, обусловленный диффузией. Последний быстро увеличивается с ростом прямого напряжения, и на вольтамперной характеристике наблюдается минимум (рис.2.22,д).
Если к диоду приложить обратное напряжение (рис. 2.22,ж), то вследствие увеличения туннельного перехода электронов из валентной зоны р области в зону проводимости n области будет быстро нарастать обратный ток. Поэтому туннельный диод обладает высокой проводимостью при обратном включении.