3.5.2. Организация рабочего места, обеспечивающая снижение воздействия на пользователя электромагнитных полей

К конструкциям мониторов предъявляются следующие требования: мощность экспозиционной дозы рентгеновского излучения в любой точке на расстоянии 0,05 м от экрана и корпуса монитора при любых положе­ниях регулировочных устройств не должна превышать 0,1 мбэр/час.

- уровень ультрафиолетового излучения на рабочем месте пользовате­ля в длинноволновой области (400-315 нм) должен быть не более 10 Вт/м, в средневолновой области (315-280 нм) не более 0,01 Вт/м и отсутствовать в коротковолновой области (280-200 нм).

напряженность электромагнитного поля на рабочем месте пользова­теля по электрической составляющей должна быть не более 10 В/м и по маг­нитной составляющей не более 0,3 А/м.

Одним из самых важных защитных мероприятий является установка заземленных защитных экранов, которые имеют соответствующий коэффици­ент пропускания света и обладают следующими эффектами [3.2., 3.2.1.]:

хорошо изолируют яркие видимые лучи, которые могут воздейство­вать на операторов, и устраняют отраженные лучи, затрудняющие смотрение;

Результаты измерения напряженности переменного электромагнитного поля дисплея SIEMENS NIXDORF

1-5 Гц... 2 кГц

50 В/м

20 В/м 2,5 В/м _>

(на расстоянии 50 см от дисплея по окружности)

' 1.0 В/м

Напряженность магнитной составляющей ЭМП

Напряженность электрической составляющей ЭМП

N - норма по СанПин 2.2.2.542-96 О - со стороны пользователя

Рис 3.17

Результаты измерения напряженности переменного электромагнитного поля дисплея hyundai

(Корея, на расстоянии 50 см дисплея по окружности)

1-5 Гц ...2 кГц II-2...400 кГц

Напряженность магнитной состаляющей ЭМП

Напряженность электрической составляющей эмп

N - норма по СанПин 2.2.2.542-96 О - со стороны пользователя (линия взгляда)

Рис 3.18.

устраняют статические заряды, которые могут вызвать раздражение

кожи;

останавливают неприятное дрожание букв на экране; изолируют ультрафиолетовые, ионизирующие радиационные лучи (рентгеновские, электромагнитные).

Для представления о возможностях различных фильтров параметры некоторых из них приведены в табл. 3.9.

Таблица 3.9.

		Xenum А, В	Русский Щит	[iryoStar	Polaroid (пленоч­ный)	Тайвань (Ken do, Agg и т п )	Тайвань (Ken do, Agg и т.п.) + Плазма М
Коэфф. пропускания ви­димой части спектра 380 .. 780 нм, %		25 ... 35	37 ... 40	60	37	32 ... 37	23 31
Коэфф пропус­кания УФ излуче­ния, %	290 320 нм	1.0	2,0		■	0	0
	290 . 280 нм	12	12. 15		7	10 20	4 6
Коэфф пропускания ИК излучения 760 . 2500 нм		20	25. .28		76	65..70	10. 15
Поверхностное сопро­тивление Rs, (Ом/м2)		80	40	100	нет	нет	7 .10
Ослабление электриче­ского поля, %		95	98	95	нет	нет	100
Коэфф отражения внеш­ней поверхности экрана, %		0,5 0,8	0,8... 1,3	0,6	2	4,5.. 5,2	0,7.. 1,0
Ослабле­ние ЭМ поля	0,01. 10 МГц		-			нет	40 дБ
	до 30 МГц	1/Rs	21 дБ	1/R.s	-	нет	30 дБ
	до 1000 МГц	1/Rs		1/Rs		нет	15 дБ

Необходимо отметить, что фильтры не полностью поглощают маг­нитное поле, пропуская переменное поле частотой 50 - 60 Гц, хотя и частично экранируя его. При этом фильтры (особенно фильтры полной защиты total shield) существенно ослабляют или устраняют другие поля. Использующийся фильтр должен быть обязательно заземлен - фильтры, не предусматривающие заземления крайне неэффективны. Фильтр позволяет практически полностью избавиться от статических полей.

Разработка организации рабочего места проведена на основании [3.2., 3.8., 3.20.].

Сравнительная характеристика защитных экранов для ПЭВМ (по материалам рекламных проспектов)

Рациональное размещение рабочих мест, оснащённых ПЭВМ выпол­нено следующим образом: расстояние от стены до ПЭВМ 1500 мм; расстоя­ние между рабочими столами с мониторами 3000 мм; расстояние между боко­выми поверхностями монитора 2000 мм; расстояние от экрана монитора до пользователя 600 мм.

Предусматривается установка экранов и фильтров для защиты от вредного воздействия электромагнитных излучений: фильтры (экраны) на ви­деомониторы типа "Polaroid" и класса "Полная защита" ("Синко", "Эргон").

На рис. 3.19. и 3.20. представлены общая рекомендуемая схема рас­положения рабочих мест с ПЭВМ и организация рабочих мест с ПЭВМ.

На рис. 3.21. представлена общая компоновка автономных рабочих мест пользователей ПЭВМ с экранной защитой.