Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Калиненко_All_Aml.doc
Скачиваний:
8
Добавлен:
01.04.2025
Размер:
10.68 Mб
Скачать

4.5.Анализ переходного процесса в транзисторном ключе

Займемся теперь непосредственно расчетом различных этапов, воспользовавшись уравнением заряда в базе:

или (4.1)

Разделив переменные и проинтегрировав обе части уравнения можно получить решение этого уравнения относительно заряда в базе (учитывая начальное значение Q(0) и конечное Q()=Iб):

Q(t) = Iб – [Iб - Q(0)]e (4.2)

и относительно времени

(4.3)

Уравнение (4.2) позволяет определить величину избыточного заряда в базе для любого момента времени, если известно значение этого заряда в начале этапа. Если же, кроме того известна величина избыточного заряда в конце этапа, то длительность этого этапа можно определить с помощью выражения (4.3).

1. Задержка фронта (стадия подготовки). Задержка обусловлена перезарядкой барьерных емкостей Сэ и Ск под действием входного сигнала. В исходном состоянии, когда ключ заперт, на базе транзистора имеется положительное смещение Uб0, близкое к напряжению Еб. Когда входной сигнал принимает отрицательное значение –Еб1, через резистор Rб протекает начальный входной ток I0 = Еб/Rб, где Еб = Uб0 + Еб1.

Так как напряжение на емкости не может измениться скачком, то транзистор остается закрытым вплоть до полного разряда этой емкости. В начальный момент ток разряда этой емкости равен I(0). Однако по мере изменения потенциала базы Uб часть входного тока ответвляется в цепь Ск, Rк, а сам входной ток уменьшается. Если Rк достаточно мало, то можно считать, что емкости Сэ и Ск включены в параллель (С= Сэ + Ск). В этом наихудшем случае получаем простейшую RC цепь, в которой емкость С перезаряжается от напряжения +Uб0 до –Еб1 по закону U(t)=U()-[U()-U(0)]e-t/:

Uc(t) = Uб(t) = - Еб1 + (Eб1 + Uб0) ,

где =Rбэ + Ск). Так как к концу задержки напряжение на базе транзистора равно нулю, то, приравняв выражение для Uc(t) нулю, найдем время разряда емкостей, которое и есть время задержки фронта.

. (4.4)

Если отпирающий заряд достаточно сильный, (т.е. Еб1Uб0 ), то логарифм можно ра зложить в ряд. Тогда tз = Rбэ + Ск) Uб0 / Еб1 = (Сэ + Ск)Uб0/Iб1.

Второй причиной, обуславливающей задержку, является конечное время пролета неосновными носителями базовой области. Задержка проявляется в сдвиге переходной характеристики и не влияет на форму фронта.

2. Формирование фронта. Предположим, что в момент времени t=0 на вход транзисторного ключа подается единичный входной сигнал в виде ступеньки тока. Причем этот ток достаточен для насыщения транзистора. Коллекторный ток нарастает в этом случае так же, как в усилительном каскаде по экспоненциальному закону, стремясь к предельному значению, равному Iб1 Ек/Rк. Однако, достигнув величины тока Iкн, ток Iк больше не может возрастать и формирование переднего фронта заканчивается.

В момент поступления входного сигнала заряд в базе транзистора был равен нулю. В конце формирования фронта транзистор входит в насыщения и заряд в области базы будет равен Qб гр, который был определен выше. Зная начальный заряд в области базы и заряд в области в конце формирования фронта с помощью выражения 4.3 можно определить длительность фронта:

(4.5)

При сильном отпирающем сигнале, когда Iб1  Iкн фронт импульса будет изменяться по линейному закону и его длительность можно найти, разлагая в ряд логарифм выражения (4.5). Тогда:

(4.6)

Выражения (4.5) и (4.6) показывают, что длительность фронта уменьшается с увеличением с увеличением отпирающего тока базы Iб1. При прочих равных условиях длительность фронта меньше у транзисторов с меньшим временем жизни и большим значением , в частности, у дрейфовых транзисторов.

Выражения для длительности фронта получено без учета емкости коллекторного перехода. Если ее учесть, то переходной процесс в транзисторе будет проходить с постоянной времени кэ=бк(1+)Rк и выражения для расчета длительности фронта будет иметь вид:

,

а в случае сильного сигнала (Iб1>>Iкн):

tф ≈ ( + CкRк)Iкн/Iб1.

Если отпирающий ток базы меньше базового граничного тока, то транзистор не войдет в режим насыщения. В этом случае заряд в области базы будет меньше граничного значения, и изменение коллекторного тока будет происходить по закону:

Iк(t) = Iб1(1 – ).

В этом случае длительность фронта определяется также как и длительность фронта экспоненциально нарастающего импульса

tф = 2,2 кэ.

3. Накопление носителей. Этап включения транзисторного ключа завершается в момент времени t1. Начиная с этого момента токи транзистора Iэ, Iк и Iб и напряжения на электродах транзистора остаются практически постоянными. В области базы происходит накопление избыточного заряда неравновесных носителей. Напряжение на коллекторном переходе Uкб становится положительным и, увеличиваясь, стремится к своему установившемуся для данного режима значению. Так как оба перехода смещены в прямом направлении, то происходит инжекция дырок в базовую область как через эмиттерный, так и через коллекторный переход. В этих условиях эффективное время жизни дырок в базовой области транзистора изменится, и будет отличаться от времени жизни дырок в базе для этапа включения. Это отличие вызвано тем, что в режиме насыщения в сплавных транзисторах возрастает скорость поверхностной рекомбинации, что приводит к уменьшению времени жизни.

С достаточной для инженерных расчетов точностью можно считать бн =(1÷0,5)б. Здесь бн – эффективное время жизни неосновных носителей в базе в режиме насыщения.

Запишем решение уравнения (4.1) для этапа накопления, полагая, что Q(0) = Q(tфр). Тогда выражение (4.2) может быть записано следующим образом:

.

Следует заметить, что граница перехода от постоянной времени б к постоянной бн условна, так как практически постоянная времени изменяется постепенно. Согласно последнему выражению избыточный заряд в базе транзистора асимптотически стремится к величине Q() = бнIб1.

Отношение величины накопленного заряда в базе к его предельному значению называют степенью накопления.

.

При достаточно сильном входном сигнале, когда можно пренебречь первым слагаемым в круглой скобке, получим

,

Время, необходимое для того, чтобы S стала равным 0,95, условно считается временем накопления. Время накопления практически не зависит от схемы включения транзистора и определяется только эффективным временем жизни в режиме насыщения.

В транзисторных ключах, встречаемых в автоматике и вычислительной технике, встречаются два режима работы транзистора: режим полного и режим неполного накопления избыточного заряда. Режим неполного накопления — это режим, при котором длительность импульса соизмерима с бн. В случае неполного накопления заряд в базе удобно определять через степень накопления транзистора.

Таким образом, зная величины входного базового тока, граничного тока базы и время включения можно определить накопленный заряд в базе к моменту окончания импульса тока базы. По величине накопленного заряда можно рассчитать и время рассасывания.

4. Этап рассасывания носителей. Рассмотрим теперь переходные процессы при запирании транзисторного ключа. В момент времени t=t3 снимается отпирающий и подается запирающий импульс тока в базу транзистора. Ток базы скачком изменяется на величину Iб = Iб1 – Iб2 и становится равным Iб2 = –Еб2/Rб. На ту же величину изменяется и ток эмиттера. Величина запирающего тока Iб20, т.к. он имеет противоположное направление – втекает в базу. С подачей запирающего импульса тока базы Iб в транзисторном ключе начинаются процессы его запирания, которые состоят из следующих этапов: этапа рассасывания избыточного заряда неравновесных носителей и этапа выключения.

Рассмотрим вначале этап рассасывания. После подачи на вход транзисторного ключа запирающего сигнала коллекторный ток транзистора некоторое время продолжает оставаться неизменным и приблизительно равным Iкн. Причиной – является заряд, накопленный в области базы за время этапа накопления.

Граничным условием этапа накопления, являющегося начальным условием этапа рассасывания в общем случае будет

Q(tи) = бнIб1S = Q(0).

Тогда из (4.2) можно получить закон изменения избыточного заряда базы для схемы ОЭ на этапе рассасывания

.

В полученном выражении время t отсчитывается от момента поступления входного запирающего сигнала. В конце этапа рассасывания заряд в области базы достигает значения, соответствующего границе области насыщения с активной области, где Q(tрас) = бнIкн/.

Полагая, что заряд в области базы достигает этого значения в момент времени tрас, получим из 4.3:

.

Отметим, что ток Iб2 отрицателен, поскольку запирает транзистор, поэтому для абсолютных значений токов tрас определяется следующим образом:

(4.7)

При полном накоплении заряда (S =1)

,

т.е. при полном накоплении tрас становится больше. Из полученного выражения следует, что с увеличением запирающего тока Iб2 время рассасывания уменьшается. По этой причине для уменьшения времени рассасывания и следовательно увеличения быстродействия транзисторного ключа всегда стремятся использовать запирающий сигнал.

5. Этап формирования среза импульса. Физические процессы, происходящие в транзисторе на этапе формирования среза импульса, достаточно сложны и их строгий математический анализ представляет определенные трудности. Найдем приближенные соотношения для случая, когда Iб2Iкн. (В противном случае будет большая погрешность). Воспользуемся методом заряда в базе транзистора.

Начальным условием для формирования среза импульса является

Q(0) = Q(tрас) = бIкн/.

Запишем решение (4.2) для этапа формирования среза импульса

Q(t) = бIб2б (Iб2 – Iкн/) .

Формирование среза импульса происходит в активной области работы транзистора. Если Iвх = Iб2 = 0, то длительность среза импульса можно определить условно. Если же Iвх имеет отрицательное значение, т.е. входной ток на данном этапе запирающий, то длительность среза импульса можно найти из решения (2) при значении граничного условия Q(tср) = 0.

Тогда

.

С учетом того, что запирающий ток Iб2 отрицателен, для абсолютных величин токов выражение для tср запишется следующим образом:

(4.8)

Здесь следует иметь ввиду, что заряд дырок в области базы не может быть отрицательным и равным (–бIб2), т.к. заряд дырок всегда положительный. Процесс формирования tср заканчивается при Q = 0.

С учетом емкости коллекторного перехода в выражении для tср вместо постоянной времени б следует использовать постоянную времени кэ.

При отсутствии запирающего тока базы время формирования среза tср = 2,2 кэ.

Полученные расчетные соотношения для различных этапов переключения транзисторного ключа с помощью метода заряда позволяют определить длительности отдельных этапов или определить тип транзистора и параметры входных сигналов для получения заданного быстродействия.