
- •Конспект лекций по дисциплине
- •Тема 2: Проектирование полупроводниковых ис на биполярных транзисторах Конструкции биполярных транзисторов
- •Многоэмиттерный транзистор
- •Многоколлекторный транзистор
- •Транзисторы типа p-n-p
- •Составные транзисторы
- •Торцевые транзисторы
- •Транзисторы с повышенным пробивным напряжением
- •Транзисторы для быстродействующих и сверхбыстродействующих цифровых ис
- •Интегральные диоды
- •Интегральные резисторы
- •Интегральные конденсаторы
- •Конструктивно-технологические варианты изоляции элементов микросхем друг от друга
- •Функционально-интегрированные элементы бис
- •Контакты к кремнию
- •Коммутационные проводники
- •Контактные площадки и внешние выводы микросхем
- •Вспомогательные элементы интегральных схем
- •Тема 3: Проектирование п/п имс на мдп транзисторах. Конструкции мдп -транзисторов.
- •Вспомогательные элементы мдп микросхем.
- •Конструкции кмдп бис.
- •Тема 4: Проектирование п/п биполярно- полевых имс.
- •Конструктивные варианты исполнения биполярного и полевого транзисторов в одном кристалле.
- •Функционально-интегрированные биполярно-полевые структуры.
- •Биполярно-полевые структуры с мдп транзисторами.
- •Мдп элементы полупроводниковых пзу.
- •Тема 5. Проектирование гибридных (гис) и больших гибридных имс и микросборок.
- •Подложки.
- •Конструкции пленочных резисторов.
- •Резисторы сложной формы.
- •Конструкции подгоняемых резисторов.
- •Тонкопленочные конденсаторы.
- •Материалы, используемые в конструкции конденсаторов
- •Конструкции подгоняемых конденсаторов
- •Конструкции пленочных индуктивностей
- •Распределенные lc- структуры
- •Навесные компоненты гис
- •Конструкции элементов коммутации
- •Тема 7: Общие вопросы конструирования п/п и гибридных имс. Конструктивные меры защиты интегральных схем от воздействия дестабилизирующих факторов.
- •Конструктивные меры улучшения теплового режима микросхем.
Тема 5. Проектирование гибридных (гис) и больших гибридных имс и микросборок.
ГИС представляют собой микросхемы, в которых в качестве части пассивных и активных элементов используются дискретные бескорпусные ЭРЭ и ИМС. Основная часть пассивных элементов и коммутационных соединений выполнены в виде пленок на поверхности диэлектрической подложки.
Разновидностью ГИС являются совмещенные микросхемы, в которых все активные элементы и часть пассивных выполнены по полупроводниковой технологии в толще кристалла, а часть пассивных элементов и коммутационные соединения – по тонкопленочной технологии на поверхности кремневой пластины.
ГИС – изделие широкого применения. Микросборка (МСб) – это ГИС частного применения, изготавливаемая на предприятии с целью улучшения показателей микроминиатюризации конкретной ЭВА. В отличие от ГИС в МСб могут использоваться корпусные ЭРЭ и микросхемы. Корпуса для МСб могут выбираться из стандартного ряда или проектироваться специально.
Тонкопленочные ГИС применяются при изготовлении ИС, в которых число пассивных компонентов намного превышает число активных или в случае, когда для работы микросхемы важна высокая точность пассивных элементов. Поэтому ГИС чаще всего используются при проектировании линейных и аналоговых ИС.
В большинстве логических схем число пассивных компонентов невелико, и они играют вспомогательную роль и к ним не предъявляются требования повышенной точности. Поэтому логические ИС чаще всего производят по полупроводниковой технологии.
Низкая цена оборудования для производства тонкопленочных ГИС и меньшая сложность проектирования ГИС обусловили широкое применение на предприятиях МСб и заказных и полузаказных совмещенных ГИС на основе БМК (базово-материальные кристаллы).
Подложки.
Подложки служат диэлектрическим и механическим основанием для пленочных и навесных элементов, а также теплоотводом. Поэтому к подложкам предъявляются следующие требования:
высокий коэффициент теплопроводности;
высокая механическая прочность, обеспечивающая целостность подложки, как при производстве, так и при эксплуатации;
высокая химическая инертность к реактивам и осаждаемым материалам;
стойкость к высоким температурам;
способность к хорошей механической обработке.
Для маломощных ГИС в качестве подложки применяются бесщелочные боросиликатные стекла С41-1 и С48-3 и ситаллы. Ситаллы по сравнению со стеклами имеют более высокую теплопроводность и механическую прочность.
Для мощных ГИС применяют керамику (поликор), а для особо мощных бериллиевую керамику.
Подложки должны иметь высокую чистоту поверхности, большая шероховатость приводит к значительному снижению надежности тонкопленочных элементов. Поэтому шероховатость должна отвечать 14 классу.
Керамика имеет значительную шероховатость, что снижает надежность и воспроизводимость пленочных элементов. Поэтому для повышения класса чистоты применяют глазурирование керамики слоем бесщелочного стекла, однако, это приводит к значительному снижению теплопроводности.
Если требуется обеспечить очень хороший теплоотвод, то применяют алюминиевые подложки, покрытые слоем диэлектрика или эмалированные стальные подложки.
Габаритные размеры подложек стандартизованы: 60х48 мм, 100х100мм или 50х50мм. Толщина подложки 0,35…1,6мм. Размеры имеют только минусовые допуски – приблизительно 0,1…0,3мм.