
- •Конспект лекций по дисциплине
- •Тема 2: Проектирование полупроводниковых ис на биполярных транзисторах Конструкции биполярных транзисторов
- •Многоэмиттерный транзистор
- •Многоколлекторный транзистор
- •Транзисторы типа p-n-p
- •Составные транзисторы
- •Торцевые транзисторы
- •Транзисторы с повышенным пробивным напряжением
- •Транзисторы для быстродействующих и сверхбыстродействующих цифровых ис
- •Интегральные диоды
- •Интегральные резисторы
- •Интегральные конденсаторы
- •Конструктивно-технологические варианты изоляции элементов микросхем друг от друга
- •Функционально-интегрированные элементы бис
- •Контакты к кремнию
- •Коммутационные проводники
- •Контактные площадки и внешние выводы микросхем
- •Вспомогательные элементы интегральных схем
- •Тема 3: Проектирование п/п имс на мдп транзисторах. Конструкции мдп -транзисторов.
- •Вспомогательные элементы мдп микросхем.
- •Конструкции кмдп бис.
- •Тема 4: Проектирование п/п биполярно- полевых имс.
- •Конструктивные варианты исполнения биполярного и полевого транзисторов в одном кристалле.
- •Функционально-интегрированные биполярно-полевые структуры.
- •Биполярно-полевые структуры с мдп транзисторами.
- •Мдп элементы полупроводниковых пзу.
- •Тема 5. Проектирование гибридных (гис) и больших гибридных имс и микросборок.
- •Подложки.
- •Конструкции пленочных резисторов.
- •Резисторы сложной формы.
- •Конструкции подгоняемых резисторов.
- •Тонкопленочные конденсаторы.
- •Материалы, используемые в конструкции конденсаторов
- •Конструкции подгоняемых конденсаторов
- •Конструкции пленочных индуктивностей
- •Распределенные lc- структуры
- •Навесные компоненты гис
- •Конструкции элементов коммутации
- •Тема 7: Общие вопросы конструирования п/п и гибридных имс. Конструктивные меры защиты интегральных схем от воздействия дестабилизирующих факторов.
- •Конструктивные меры улучшения теплового режима микросхем.
Контактные площадки и внешние выводы микросхем
Контактные площадки – это металлизированный участок на кристалле, служащий для присоединения внешних выводов или контроля электрических параметров. Контактные площадки располагаются, как правило, по периметру полупроводникового кристалла, а тестовые контактные площадки могут располагаться в любом месте. Контактные площадки представляют собой расширенные области коммутационных пленок проводников и формируются одновременно с разводкой.
С
целью предотвращения замыканий контактных
площадок на подложку при нарушении
целостности окисной пленки в процессе
присоединения внешних выводов под
каждой контактной площадкой формируется
изолирующая область.
Для соединения контактных площадок с выводами корпуса или с контактными площадками коммутационных плат используют гибкие проволочные, жесткие и паучковые выводы. Гибкие выводы изготавливаются из золотой или алюминиевой проволоки диаметром 25-50 мкм. Золотая проволока позволяет получать высокочастотное соединение методом термокомпрессии или пайки. Для алюминиевых проволочек используют только ультразвуковую пайку. Алюминиевая проволока имеет низкую механическую прочность. Жесткие выводы имеют шариковую, столбиковую и балочную конструкции.
1-монокристаллический кремний; 7- слой золота;
2-пленка SiO2; 8- слои припоя;
3- алюминиевый проводник;, 9- медный шарик (столбик);
4-защитный слой боросиликатного стекла; 10-слой никеля;
5-контактный и адгезионные слои; 11- слой золота.
6- буферные слои;
Столбик и шарик могут изготавливаться из свинца, а его внутренняя часть – припой. Такие выводы называются мягкими. Под действием температуры припой расплавляется, образуя соединения с контактными площадками коммутационных плат. При сборке кристалл с шариковыми или столбиковыми выводами устанавливается лицевой стороной к контактным площадкам коммутационных плат.
Высота шариковых или столбиковых выводов: 35÷40 мкм.
Недостаток: отсутствие возможности контроля качества сборки и затрудненный отвод тепла в кристалле.
Этих недостатков лишены конструкции балочных и паучковых выводов. Балочные выводы имеют толщину 10÷15 мкм; ширину примерно 100 мкм и длину за пределами кристалла 150÷200 мкм. Балочные выводы позволяют простой визуальный контроль качества сборки, при этом упрощается технологический процесс монтажа кристалла при сборке, однако усложняется технологический процесс разделением полупроводниковой пластины на кристаллы.
Паучковые выводы изготавливаются из тонкой (25÷75 мкм) медной или алюминиевой фольги с золотым или никелевым покрытием. Способ изготовления – металлическим или локальным травлением. Для автоматизации процесса сборки и увеличения механической прочности, удобства тестирования паучковые выводы наносят на гибкую ленту из лавсана, полиамида или полиэфира толщиной 40÷120 мкм с перфорацией как у фотопленки.
Для
контроля параметров микросхемы на
внешних концах паучковых выводов
делаются контактные площадки. Перед
или под контактными площадками
протравливаются отверстия для
присоединения к коммутационной плате.
Перед установкой кристалла на
коммутационную плату производится
обрезка выводов по этим вытравленным
отверстиям. Соединении паучковых выводов
с кристаллом может производиться через
промежуточные, шариковые или столбиковые
выводы, либо на концах паучковых выводов
вытравливается выступ в сторону
кристалла.
Обычно внешние выводы микросхемы расположены на лицевой стороне кристалла. Это не удобно по многим причинам: снижается степень интеграции, брак или снижается надежности при монтаже. Затруднен монтаж и сборка, поэтому в некоторых конструкциях используются варианты создания выводов на нерабочие части кристалла путем формирования проводящих каналов через толщу кристалла. Каналы создаются либо методом термомиграции, либо прожигаются лазером. Если используется лазер, то в начале прожигается отверстие, а потом оно заполняется жидким металлом засчет капиллярного эффекта. Причем лазером можно создавать отверстия не только в полупроводниковом кристалле, но и в изолирующей подложке.
а) создание отверстий термолигированием;
б) и в) создание отверстий лазером.