- •1.Электроника.
- •18.Импульсные свойства диода.
- •13.Пробой p-n перехода
- •14.Лавинный пробой.
- •Тепловой пробой.
- •9.Диффузионная емкость
- •10. Барьерная ёмкость
- •44.Светодиоды
- •41Фотовентильный режим.
- •39. Фоторезистор.
- •40. Основные характеристики и параметры работы фоторезисторов.
- •19. Туннельные диоды.
- •35. Приборы с зарядовой связью.
- •36. Полевые транзисторы.
- •37. Статические характеристики полевых транзисторов.
- •31. Комплиментарные мдп транзисторы.
- •30. Мдп транзисторы (моп).
- •33. Параметра мдп транзисторов.
- •29. Работа тр-ра в импульсном режиме.
- •14. Лавинный пробой.
- •15. Шумы в полупроводниковых приборах.
- •17. Стабилитроны.
- •3. Электронно-дырочный переход
- •27. Статические характеристики в схемах транзистора с об
- •28. Статические характеристики с оэ
- •25. Схема включения и режимы работы биполярных транзисторов
- •23. Параметры биполярного транзистора
- •Коэффициент инжекции
- •24.Коэффициент переноса
- •12. Особенности реальной вах p-n перехода.
- •8.Инжекция и экстракция неосновных нз.
- •45.Полупроводниковые лазеры.
- •2. Переход металл - полупроводник
- •22. Принцип работы биполярного транзистора
- •26. Модель Эберса-Мола
- •20. Принцип работы туннельного диода
- •16.Вентильныев(выпрямительные) диоды
- •7.Гетеропереходы.
- •6.Конакт м/у п/п одного типа проводимости.
- •21. Биполярные транзисторы.
- •5. Свойства p-n перехода
13.Пробой p-n перехода
Под
«пробоем» понимают резкое
тока в p-n
переходе при больших обратных напряж-ях
в нем (см. рис.).
а-тунельный
пробой,б- лавинный пробой, в - тепловой
пробой.Uтп.,
Uлп.,
Uт.тп.
- напряж тун-го, лав-го и тепл-го пробоев.Uкр
- крит напряж пробоя.
Сущ 3 осн вида пробоя: тун, лав и тепл.
Первые 2 связаны с
напряженности эл поля в переходе. Тепл
пробой обусловлен
рассеваемой мощности в p-n
переходе. На тун и лав пробоях основан
принцип работы стабилитронов,
лавинно-пролетных диодов, лавинных
транзисторов и т. д. Туннельный пробой
в обратно смещенном p-n
переходе связан с туннелированием нз
сквозь тонкий потенц барьер (см. рис.)
При этом макс заполненной зоне 1 соот-ет абс-но «пустая» зона 1'. Если п/п-к будет насыщен дефектами крист решетки, энерг уровни кот располаг-ся в ЗЗ(запрещ зона), и если эти уровни перекрывают всю Eg , то электрон зоны 1 среди хаоса энерг уровней ЗЗ всегда может найти напр-ие, в обл кот вел-на энергии эл-на будет =энергии энерг уровней зап зоны. Поэтому эл-н может, легко перескакивая с одного уровня на другой пройти ЗЗ, не взаимодействуя с ней. Этот процесс и наз-ся туннелированием. Если переход достаточно тонкий, то уже при небольшом обратном смещении возникает эл поле достаточное для тун эффекта напряженности.
14.Лавинный пробой.
Происходит в достаточно толстых p-n переходах при высоких обратных напряжениях (десятки, сотни В), когда возникает ударная ионизация и лавинный процесс умножения носителей заряда. Носители заряда ускоряются электрическим полем p-n перехода при Ln << d, Lp << d.
Данные неравенства свидетельствуют о том, что электроны способны пролетать без взаимодействия. Следовательно приобрести энергию достаточную для разрыва ковалентной связи матричных атомов например кремния. В результате такой ионизации рождается электроннодырочная пара и процесс ударной ионизации продолжается с участием этой новой пары носителей заряда. При достаточно большой напряженности электрического поля в переходе, когда исходная пара носителей заряда в среднем порождает больше одной пары носителей заряда, переходит в лавинный пробой и начинает существовать самостоятельно, например как пробой в газе, вплоть до выгорания полупроводника. В твердых телах процесс лавинного умножения происходит не по всей площади прибора, а в локальных областях и всегда в области неоднородности электрического поля. Неоднородное электрическое поле возникает на дефектах структуры полупроводников. В сильно нарушенных структурах кристалла часто возникают микроплазмы, которые формируются лавинным пробоем, однако напряженности электрического поля хватает только на разгон электрона непосредственно в области дефекта. Выходя за пределы дефекта, он сразу теряет энергию. Наиболее распространенными дефектами в области которых возникают микроплазмы являются дисокации. Микроплазмы по своей природе нестабильны, что приводит к флуктуации тока и появлению характерных шумов в лавинном пробое. Это всегда отрицательно сказывается на работе таких электронных приборов как стабилитроны, лавинно-пролетные диоды и т. д. Обратная ветвь ВАХ при лавинном пробое соответствует кривой б). Установлено, что в диодах со слабо легированной базой при выполнении неравенства Тлп. < Ттп. наблюдается лавинный пробой. В диодах с высоколегированной базой при выполнении неравенства ил.п. > Uт.п. наблюдается туннельный пробой. В реальных кремниевых приборах при напряжении пробоя Uп > 20 В происходит только лавинный пробой. При 5 < Uп < 20 смешанный пробой, при котором токопрохождение определяется лавинным и туннельным процессами одновременно. При Uп < 5 В только туннельный.
