
- •1. Поняття про розсіювання електронів. Пружне розсіювання. Наслідки непружного розсіювання.
- •2. Втрати енергії електроном пучка. Поняття про область взаємодії.
- •3. Суть методу Монте-Карло. Вплив атомного номеру та енергії пучка на розміри та форму області взаємодії.
- •4. Довжина пробігу електронів згідно Бете та Канайє-Окаяме.
- •5. Поняття про відбиті електрони, ймовірність їх утворення, коефіцієнт відбиття.
- •6. Залежність коефіцієнта відбиття від атомного номера, енергії пучка та кута нахилу.
- •7. Вторинні електрони.
- •8. Безперервне рентгенівське випромінювання.
- •9. Механізм утворення характеристичного рентгенівського випромінювання. Закон Мозлі.
- •11. Блок-схема рем.
- •12. Електронно-оптична та детекторна система.
- •13. Побудова зображення. Збільшення. Глибина фокуса. Спотворення зображення.
- •14. Детектор типу сцинтилятор-фотоперемножувач.
- •15. Твердотільний детектор.
- •16. Поняття про контраст, рівняння яскравості та порогове рівняння, їх аналіз.
- •18. Ідеальне або гаусівське зображення.
- •19. Дифракційний принцип формування зображення.
- •20. Конструкція пем.
- •21. Якість зображення. Сферична аберація. Ізотропна та анізотропна коми.
- •22. Астигматизм та викривлення поля зору. Дисторсія. Хроматична аберація.
- •23. Режими роботи пем. (дифракція, мікродифракція, світлопольний режим, темнопольний режим).
- •24. Скануючий тунельний мікроскоп.
- •25. Скануючий атомно-силовий мікроскоп.
7. Вторинні електрони.
Рисунок 1.13 – Загальний енергетичний розподіл електронів, які емітують із твердого тіла
Ділянки 2 і 3 відповідають відбитим електронам, але у випадку ділянки 2 – лише тим, що втратили більше 40% своєї енергії. При низьких енергіях (менше 50 еВ) кількість емітованих електронів різко збільшується. Поява максимуму на 1-ій ділянці пов’язана із вторинною електронною емісією.
Вторинні електрони виникають унаслідок взаємодії первинного пучка, що має велику енергію, зі слабозв’язаними електронами провідності. Вони можуть утворюватися падаючим електронним пучком у момент падіння його на зразок, а також електронами, що покидають мішень.
Рисунок 1.14 – Можливі варіанти утворення вторинних електронів [2]: 1 - падаючий пучок; 2 - траєкторії електронів пучка у мішені; 3 - вторинні електрони, утворені при вході у мішень електрона пучка; 4 - вторинні електрони, утворені при виході з мішені відбитого електрона
Вторинні електрони, утворені відбитими електронами, проявляються на зображенні як шум.
Рисунок 1.15 – Характер залежності коефіцієнта вторинної електронної емісії від кута нахилу пучка
8. Безперервне рентгенівське випромінювання.
Гальмування електронів первинного пучка у кулонівському полі атома призводить до виникнення безперервного спектра гальмівного рентгенівського випромінювання з енергіями квантів від нуля до енергії пучка.
Довжина хвилі рентгенівського кванта обернено пропорційна енергії, яку втратив електрон, що збуджує квант, тому довжини хвилі квантів з максимальною енергією (Е0) будуть мати мінімальне значення; довжина хвилі (min), яка отримала назву короткохвильової межі, і є сталою для певної енергії пучка.
Рисунок 1.16 – Розподіл інтенсивності безперервного рентгенівського випромінювання
Аналіз залежностей, наведених на рисунку, показує:
- величина min змінюється залежно від енергії пучка (прискорюючої напруги), причому вона зміщується у бік більш короткої хвилі зі збільшенням Е0;
- інтенсивність безперервного рентгенівського випромінювання досягає максимуму при 1,5min, який зміщується у бік великих довжин хвиль при зменшенні Е0;
- інтенсивність рентгенівського випромінювання збільшується зі зростанням енергії пучка.
(1.20) зі зростанням енергії кванта Е його інтенсивність падає, а при збільшенні атомного номера матеріалу мішені – зростає.
Безперервне рентгенівське випромінювання створює фон у спектрах рентгенівського мікроаналізу. Інтенсивність фону має велике значення для визначення межі чутливості приладу. Задача дослідника і конструктора полягає в тому, щоб досягти малої величини фону. У деяких випадках, наприклад, при рентгенівському мікроаналізі біологічних об’єктів, інтенсивність фону має і корисну інформацію.
9. Механізм утворення характеристичного рентгенівського випромінювання. Закон Мозлі.
Характеристичне рентгенівське випромінювання утворюється при переході атома зі збудженого у стаціонарний стан.
Рисунок 1.17 – Схема процесу збудження та релаксації атома: 1 - первинний електрон; 2 - вилучений електрон; 3 - перехід електрона; 4 - рентгенівський квант
Закон Мозлі. Мозлі встановив зв’язок між частотою лінії рентгенівського випромінювання та атомним номером мішені
де
=2,06·10-16с-1
– стала Рідберга;
– коефіцієнт, характерний для певної
серії випромінювання (для К-серії
=1, для L-серії
=7,5);
– головне квантове число.
Рисунок 1.18 – Діаграма енергетичних рівнів атома
Ураховуючи те, що на оболонці не може бути більше 2n2 електронів, та принцип заборони Паулі (у даному енергетичному стані не може бути двох електронів з однаковим набором квантових чисел), К-оболонка не має підоболонок, L-оболонка має три підоболонки (L1 містить 2 електрони, L2 – 2 , L3 – 4 ), M-оболонка має п’ять підоболонок (M1 – 2, M2 – 2, M3 – 4, M4 – 4, M5 – 6), N-оболонка має сім підоболонок (N1 – 2, N2 – 2, N3 – 4, N4 – 4, N5 – 6, N6 – 6, N7 – 8).
Часто закон Мозлі записують у лінеаризованій формі
,
де С
– константа, яка має різне значення для
кожної серії випромінювання.
Закон Мозлі читається наступним чином: корінь квадратний з частоти є лінійною функцією атомного номера елемента.
Визначивши довжину хвилі рентгенівського випромінювання або частоту, можна за допомогою закону Мозлі точно встановити атомний номер елемента.
10. Оже-електрони
Ефект вилучення електронів із внутрішніх оболонок отримав назву оже-ефекту.
Рисунок 1.23 – Схема утворення оже-електрона: 1 - електрон пучка, 2, 3, 4 - електрони внутрішніх оболонок атома
Енергія оже-електрона, як і енергія характеристичного рентгенівського випромінювання, залежить від конкретного сорту атома. Описане явище використовується для елементного аналізу твердого тіла у приладах, які називаються електронними оже-спектрометрами
Оже-сигнал є дуже чутливим до забруднення на поверхні зразка, тому оже-аналіз потрібно проводити у вакуумі порядку 10- 7Па, який створюється за допомогою безмасляної системи відкачки.