23. Избирательное смачива­ние. Способы определения краевого угла смачивания. Инверсия смачиваемости поверхности.

при нанесении на пов-ть 2х жид нераств друг в друге, м/у ними обр краевой угол, хар-й относ. спос-ть этих жид.смач-ть данное тело. Для срав­нит.оценки смач.пов.сопост-е проводят по ср-ю с водой (с пол.жид-ми)

инверсия: закл.в качеств-м из­мен-и смач-ти пов-ти за счет адс-и ПАВ

Избир-е см-е: добыча нефти, офсетная печать,изгот-е пиг­ментов для масл.красок, фло­тация (обогащение руд, цв.Ме)

24. Молекулярно-кинитиче­ские свойства дисперсных систем: броуновское движе­ние, диффузия.Броуновское движение проявляется в хао­тическом движении частиц дисперсной фазы под дейст­вием ударов молекул раство­рителя, находящихся в состоя­нии интенсивного молеку­лярно-теплового движения. Смещением или сдвигом час­тицы называется расстояние между проекциями начальной и конечной точек траектории на оси смещения. Диффузия – это процесс самопроизволь­ного выравнивания концен­трац. В сис-ме, приводящий к установлению равенства хим. Потенциала во всех точках системы. Движу­щая сила - бро­уновское движе­ние.Количеств хар-ка диффу­зии-диффузион поток-это колво моль веще­ства,переносимого диффузи­ейза ед времени через ед пло­щади пов-ти, перпенд распо­лож к поверхности. 1 закон Фика [D]=м2\с

,

25. Седиментация суспензий и седиментационный анализ дисперсных систем.

Процесс оседания частиц дис­персной фазы в жидкой или газовой дисперсионной среде под действием силы тяжести есть седиментация суспензий . По мере увеличения ск-ти осе­дания возникает сила трения пропор. Ск-ти час­тицы.F_тр=BU. Частица дви­жется с постоянной скоро­стью, если сила трения урав­новешена силой тяжести. V=2g(p-p₀)r²/9η-закон седи­ментации, условия соблюде­ния данного закона:

1)Независимость оседания частиц(разб.системы)

2)Ламинарность

3) Дисперсность r=10^-7/10^-5

4) Сферическая форма частиц

Седиментационный анализ ос­нован на различных скоростях оседания частиц разного раз­мера, с помощью его можно найти средний радиус час­тицы, описывается ур-ями: m=(Q/H)*Uτ, где Q-общая масса, H-первоначальная вы­сота столба суспензнии m=2Q_д(p-p₀)r²τ/9ηH, а также уравнением Сведберга-Одена m=q_i+(dm/dτ)τ СМОТРЕТЬ ГРАФИК ТЕМА 3.5!!! Диффе­ренциальные кривые распре­деления показывают распреде­ление масс частиц по их раз­мерам,а функция распределе­ния представляет собой долю частиц в интервале(r+dr)

26. Седиментационно-диффу­зионное равновесие. Седимен­тационная устойчивость.

, , где -плотность частицы, - плот­ность дисп.среды, концентрация частич у дна сосуда, когда h=0, -концентрация частиц на вы­соте h от дна сосуда, V-объем частицы. Седим.устойчивость- способность системы протои­востоять действию силы тяже­сти. Чем больше размеры час­тицы,тем быстрее скорости оседания частиц.

30Агрегативная устойчи­вость дисп сист.Факторы аг­рег устойчив:

1ТД факторы(уменьш ):а)электростатический(ДЭС) связан с образ ДЭС (уменьш ) и возникновением потенц барьера отталкива­ния.б)адсорб-сольватный - уменьш  из-за взаимод час­тиц с растворителем. Пов-ть частиц лиофильна по своей природе или из-за адсорбции стабилиз неэлектролитов.Для эмульсий-порошки.

в)энтропийный-большую роль играет в высокодисперсных сист SU

2Кинетич факторы (Vкоагуляции):а)структурно-меж-возник при адсорбции ПАВ и ВМС на пов-ти частиц, что приводит к образ слоев,облад высокими структ-мех св-вами.Длинноцепочечные ПАВ.б)гидродинамический­фактор-за счет увеличения вязкости среды.

31 Ионный фактор стбилиз ДС.Теория ДЛФО. При сближ одноименных заряжен­ных частиц золей их диф слои перекрыв. Это взаимодейств протек в тонкой прослойке дисперсн среды. Устойчивость лиофобных золей определ особыми св-ми этих слоев. Утончение этого слоя закан­чивается либо его разрывом либо достиж некоторой равно­весной толщины,которая далее не уменишается. Утончение тонкого слоя происходит пу­тем вытекания из него жидк. Когда жидк слой стан тон­ким,св-ва жидкости в нем на­чинают сильно отлич от св-в жидк в V.В слое возник доп давление-расклинивающее. Положит расклинив давление препятств сближ частиц,а от­риц-наоборот. Расклин давл- параметр, учитыв как силу притяж, так и силу отталкива­ния между частицами дисперс фазы.1Электростатич силы взаимод: а)силы оттралкива­ния

,Еотт Z,Cпротивоинов; 0, . б)Ванд-Вальдовские при­тяж,Е(h), Eкин=кТ. Состояние колл сист зав-т от б аланса энер­гии притяж и Еотт. Прео блад Еотт приводит к устойчивости сист, преоблад Епритяж вызы­вает коагуля­цию. Частицы дисперс фазы облад опред Екин, зав-т от Т, ха счет котор они могут сбли­жаться. Екин=кТ. В зав-ти от соотнош Ебар и глубины по­тенц мини­мумов возможны след сост-иядисп сист,а именно:1 Ебар>>кТ, Емин2<<кТ- неглу­бо­кийcистем агрегативно ус­тойчивая.2 Еб~Емин2кТброун движ может сблизить частицы до таких размеров, что они попа­дут в первичн потенц мин, возможна коагуляция.3 при умеренно глуб вторичн мин Емин2>>кТ, Еб ~5-10кТвозник дальнее взаимод ,образ флуокулы, возможно структурообраз.

2 7-28. Электрокинетические свойства дисперсных систем. Механизм образования ДЭС. Строение ДЭС. Примеры об­разования ДЭС. Электроки­нетические явления. Прямые: - электрофорез(перемещение дисперсной фазы под дейст­вием внешн.электрич.поля) – электроосмос (перенос дисп.среды че­рез непод­вижн.капи­ляр –пористую пе­регородку под действием внешн.электрич поля). Обрат­ные – потениаль­ное оседа­ние,потенциальное тече­ние.Явл. основаны на ДЭС на границе ТВ. И жидк.фаз. Ме­ханизм образо­вания. Возни­кает из-за про­странственного разделения зарядов, которые могут возни­кать разными пу­тями.1)поверхностная иони­за­ция(переход ионов из одной фазы в другую)2)ионизация молекул в-ва ТВ. Фазы за счет диссоциации поверхностных функциональных групп 3)адсорбция ионов (моле­кул)а)не входящих в кри­сталл.решетку: органич ионн;с большой адсорбционной спо­собностью б)избирательная ад-ция по правилу Панета-Фа­енса 4)поляризация поверхно­сти за счет внешн Эл.поля.Строение. На поверх­ности частиц дисперсной фазы врзникае заряд из-за ад-ции потенциал. – определ ионов, или поверхн.ионизации цепи.Величина и знак полного термодин потенциала φ₀ на поверхности частицы зависит от колва и знака адс-ныхх ио­нов, этот потенциал притяг противоположно заряж ионы раствора, часть из них сразу примыкает к за­ряж.поверхности, частично ослабляя ее заряд -> адсорбци­онный слой.Его можно счи­тать плоск. Конденсатором, в котором потенц смягчается линейно.Др.часть противоио­нов под действ теплового движения распространяется в глубь фазы,обазуя диф.слой.Ионы там рас­пред.неравномерно-по­тенц.смягчается по экспо­ненте. За толщ. Диф. Слоя принято считать расстояниена кот потенциал φ₀ уменьшится в е раз.