Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Пособие Конденсат-резисторы-2009.doc
Скачиваний:
29
Добавлен:
24.11.2019
Размер:
1.94 Mб
Скачать

4. Пассивные микросборки

В конце 60-х - начале 70-х годов ХХ века в полном соответствии с основными идеями микроэлектроники наряду с полупроводниковыми и гибридными микросхемами, реализующими функции как активных, так и пассивных электрорадиоэлементов, появился новый вид изделий, получивший позднее название “пассивные микросборки”. Пассивные микросборки - это разновидность интегральных микросхем (пленочных или гибридных), в которых активные элементы (диоды, транзисторы и др.) отсутствуют, а функции пассивных электрорадиоэлементов (резисторов и конденсаторов) выполняют интегральные пленочные элементы или чиповые дискретные компоненты. Разработка и промышленный выпуск резисторных, конденсаторных и резисторно-конденсаторных (R-, C- и RC-) микросборок стали одним из важнейших направлений развития отечественной и зарубежной интегральной электроники. Так, уже к в конце 80-х годов выпуск пассивных микросборок за рубежом превысил 350 млн. шт. в год, а число схемных решений достигло 400.

Переход от дискретных пассивных компонентов к их микросборкам обусловлен такими очевидными преимуществами применения последних, как:

  1. снижение массы электронной аппаратуры;

  2. экономия пространства на печатной плате;

  3. повышение плотности монтажа;

  4. возможность автоматизации монтажных операций;

  5. повышение надежности аппаратуры.

Кроме того, существенным преимуществом пассивных микросборок является высокая однородность характеристик их однотипных элементов, что особенно актуально при использовании в современной вычислительной технике (декодирующие матрицы, делители напряжения, цифро-аналоговые и аналого-цифровые преобразователи информации и др.). Возможность изготовления микросборок, содержащих развязывающие емкостные элементы, позволяет использовать их совместно с полупроводниковыми микросхемами ТТЛ, ТТД-МОП, в устройствах сопряжения ТТЛ-микросхем и транзисторных логических микросхем с сопряженными эмиттерами и др.

Пассивные микросборки изготавливаются как по тонко-, так и по толстопленочной технологии. При этом они могут содержать навесные чиповые R- и С-компоненты, а остальные элементы микросборок, включая проводники, контактные площадки для присоединения внешних выводов и монтажа навесных компонентов, обкладки конденсаторных и контакты резисторных пленочных элементов выполняются на основе тонких или толстых пленок проводниковых, резистивных и диэлектрических материалов.

4.1. Тонкопленочные микросборКи

Тонкопленочные элементы микросборок (рис.4.1) выполняют на основе тонких пленок материалов с проводниковыми, полупроводниковыми и диэлектрическими свойствами. Эти пленки наносятся на диэлектрические подложки, в основном, методами вакуумного напыления (реже - газофазного осаждения, электрохимического анодирования и др.) и имеют толщины в пределах от 10 до 1000 нм.

Основные характеристики ряда материалов, используемых при изготовлении пленочных резисторных элементов отечественных конструкций тонкопленочных микросборок, приведены в табл. 4.1.

а б

Рис. 4.1. Простейшие тонкопленочные резисторный (а) и конденсаторный (б) элементы микросборок: 1 - токонесущая часть резисторного элемента (резистивный материал); 2 - контактные площадки; 3 - нижняя обкладка конденсаторного элемента; 4 - диэлектрик конденсаторного элемента; 5 - верхняя обкладка конденсаторного элемента.

Таблица 4.1

Материалы резисторных элементов тонкопленочных микросборок

резистивный материал

Удельное поверхностное сопротивление, s, Ом

ТКС,

10-4 К-1

Руд,

Вт/см2

Материал контактных площадок

Хром

10...50

-2,5

1

Золото

Тантал

20...100

-1...-2

3

Нихром-алюминий

Нитрид тантала

200

0,1...1,0

3

Тантал

Нихром

300

±1

2

Медь

СплавМЛТ-3М

500

±2

2

Хром-медь

Сплав РС-3001

1000...2000

-0.2

2

Хром-золото

Сплав РС-3710

3000

23.0

2

Хром-золото

Кермет К-50С

3000...10000

-5...+3

2

Хром-золото

Широкое применение в качестве материала тонкопленочных резисторных элементов нашли специальные сплавы с “резистивными” свойствами, в первую очередь - сплавы типа РС, а также хромосилицидные керметные сплавы. Сплавы типа РС содержат около 30 % хрома, 0,7...0,8 % железа или никеля, а также кремний, силициды, карбиды, нитриды тугоплавких металлов. На их основе получают тонкие резистивные пленки в широком диапазоне удельных поверхностных сопротивлений (от 50 Ом до 5 кОм) с достаточно низкими значениями ТКС (от 1010-6 до 10010-6 К-1).

Номинальное значение сопротивления пленочного резисторного элемента определяется, кроме удельного поверхностного сопротивления резистивной пленки s, значением коэффициента формы Кф, равного отношению протяженности участка резистивной пленки между контактными площадками L к его ширине B (рис.4.1)

R = s  Кф,

где Кф = L/B .

Конфигурация тонкопленочных резисторных элементов, обеспечивающая значения коэффициента формы до 103, реализуется посредством ряда топологических решений, включающих, кроме прямоугольной формы участка резистивной пленки, такие геометрические варианты, как меандр с промежуточными контактными площадками, регулярный меандр и другие, рис. 4.2.

Для формирования простейшего пленочного конденсаторного элемента конструкции МДМ (металл - диэлектрик - металл), представленного схематически на рис.4.1(б) используются тонкие пленки металлов (верхняя и нижняя обкладки) и диэлектриков. В табл.4.2 представлены основные характеристики ряда материалов, используемых при изготовлении тонкопленочных конденсаторных элементов отечественных конструкций микросборок.

а б в

Рис.4.2. Варианты конфигурации резистивной пленки тонкопленочных резисторных элементов: а - прямоугольная полоса; б -меандр с промежуточными контактными площадками; в - регулярный меандр

При проектировании пленочных конденсаторных элементов с МДМ - структурой емкость элемента рассчитывают из соотношения:

С = (N-1)о  S / h,

где N - число обкладок конденсаторного элемента,  - относительная диэлектрическая проницаемость диэлектрической пленки, S - площадь перекрытия верхнего и нижнего электродов, h - толщина пленки диэлектрика.

Таблица 4.2

Материалы конденсаторных элементов тонкопленочных микросборок

материал

диэлектрика

ε

Суд, пФ/мм2

tgδ..103,

(f=1кГц)

ТКЕ, 10-4К-1

Епр,106 В/см

материа л обкладок

Моноокись

германия

0...12

50...150

1...5

3,0...5,0

1...1,5

алюминий

Моноокись кремния

5...6

50...100

10...20

2,0...3,5

2...3

алюминий

Двуокись

кремния

4

200

500...700

2,0...2,5

5...10

алюминий

Окись

алюминия

8

300...400

300...1000

3,0...4,0

5...7

алюминий+ никель

Пятиокись

тантала

20...23

500...2000

20

4,0

2

тантал+ ванадий

Боросиликатное стекло

3,9...4,2

150

1

0,2

3...5

алюминий+ ванадий (тантал)

Алюмосиликатное стекло

5,2...5,5

300

3

1,5

3...5

то же

На рис.4.3 приведена упрощенная эквивалентная схема пленочного конденсатора, элементы которой отражают наличие в нем потерь, обусловленных как процессами в диэлектрике (Rд), так и в пленочных электродах (Rр).

Rд

Рис. 4. 3. Эквивалентная схема пленочного конденсаторного элемента

Потери в диэлектрике, как и в случае дискретных конденсаторов, обусловлены неидеальностью диэлектрика, сопротивление которого Rд имеет конечную величину (обычно порядка 107...1010 Ом). Потери в диэлектрике принято разделять на дипольно-релаксационные и миграционные. Поскольку тонкие диэлектрические пленки значительно более дефектны, чем диэлектрики дискретных конденсаторов, дипольно-релаксационная поляризация вносит существенный вклад в суммарные потери в довольно широком диапазоне частот (порядка 103...107 Гц при Т = 25С). Миграционные потери в диэлектрической пленке tgм обусловлены как электронной, так и ионной составляющими электропроводности, и на заданной частоте f определяются, в основном, удельным объемным сопротивлением пленки диэлектрика v и его диэлектрической проницаемостью :

tgм = 2 / (o f v) .

Потери в обкладках пленочного конденсаторного элемента емкостью С, tgо, зависят от их сопротивления Rр и частоты переменного электрического сигнала f:

tgо = 2 f C Rp .

Из анализа приведенных соотношений применительно к тонкопленочным конденсаторным элементам следует, что на низких частотах преобладают миграционные потери в диэлектрических тонких пленках, а на высоких - потери в обкладках конденсаторных элементов. Данное обстоятельство существенно ограничивает диапазон рабочих частот тонкопленочных конденсаторных элементов, особенно в случаях применения для изготовления обкладок пленок относительно высокоомных материалов (анодированный тантал, титан и др.).

Увеличение толщины обкладок тонкопленочных конденсаторных элементов с целью снижения потерь в них является недостаточно эффективным приемом, так как при этом возрастает вероятность возникновения пробоя конденсаторного элемента. Расширение частотного диапазона в данном случае может быть достигнуто использованием для формирования обкладок материалов с более низкими значениями удельного сопротивления.

Типичные характеристики тонкопленочных R- и C-элементов микросборок представлены в табл. 4.3.

Таблица 4.3

Конструктивные и эксплуатационные характеристики элементов

тонкопленочных микросборок

Параметры

Элемент микросборки

R

C

Толщина пленки, мкм

0,02...2

0,2...1

Размеры контактных площадок, мкм, не менее

100  100

100  100

Линейные размеры элемента, мкм, не менее

50  50

100  100

Удельное поверхностное сопротивление, s, Ом

102...105

-

Удельная емкость, пФ/см2

-

6104

ТКЕ, К-1

-

210-4

ТКС, К-1

210-4

-

Рабочее напряжение, В

-

50

tg

-

10-3...10-2

Сопротивление , Ом

50...1105

-

Емкость, пФ

-

1...2104

Удельная мощность рассеяния, мВт/мм2

(15...20)

-

Типовой технологический процесс изготовления тонкопленочных микросборок предусматривает использование интегрально-группового принципа обработки подложек. При этом резисторные и (или) конденсаторные элементы, контактные площадки и коммутационные проводники изготавливаются путем последовательного нанесения на подложку пленок материалов с заданными свойствами. Требуемая конфигурация топологических элементов достигается либо использованием соответствующих трафаретов при нанесении пленочных материалов, либо селективным удалением с использованием фотолитографии “лишних” участков пленок после их сплошного нанесения.

Электрическое соединение пленочных контактных площадок с жесткими выводами корпуса микросборки осуществляется с использованием таких методов микросварки, как термокомпрессионная, ультразвуковая, электронно-лучевая, лазерная и другие.

Для защиты от воздействий внешней среды микросборки обычно помещают в герметичные корпуса, применяемые для герметизации интегральных микросхем, что создает благоприятные условия для отвода выделяемого тепла, а также упрощает операции монтажа микросборок в аппаратуру. На корпуса микросхем распространяется ГОСТ 17467-82, устанавливающий их типы, габаритные и присоединительные размеры, а также условные обозначения.