- •2. Электрические конденсаторы
- •2.2.3. Конденсаторы с органическим диэлектриком
- •2.3. Ионисторы
- •3. Резисторы
- •3.1.Основные характеристики резисторов
- •3.5. Основы физики резистивных материалов
- •3.6. Классификация резисторов
- •3.7.2. Терморезисторы
- •Терморезисторы с положительтным ткс получили название позисторы. Основой позисторов главным образом является полупроводниковая сегнетокерамика на основе титаната бария (ВаТiO3 ).
- •4. Пассивные микросборки
- •4.1. Тонкопленочные микросборКи
- •4.2. Толстопленочные микросборКи
- •Заключение
- •Предметный указатель
4. Пассивные микросборки
В конце 60-х - начале 70-х годов ХХ века в полном соответствии с основными идеями микроэлектроники наряду с полупроводниковыми и гибридными микросхемами, реализующими функции как активных, так и пассивных электрорадиоэлементов, появился новый вид изделий, получивший позднее название “пассивные микросборки”. Пассивные микросборки - это разновидность интегральных микросхем (пленочных или гибридных), в которых активные элементы (диоды, транзисторы и др.) отсутствуют, а функции пассивных электрорадиоэлементов (резисторов и конденсаторов) выполняют интегральные пленочные элементы или чиповые дискретные компоненты. Разработка и промышленный выпуск резисторных, конденсаторных и резисторно-конденсаторных (R-, C- и RC-) микросборок стали одним из важнейших направлений развития отечественной и зарубежной интегральной электроники. Так, уже к в конце 80-х годов выпуск пассивных микросборок за рубежом превысил 350 млн. шт. в год, а число схемных решений достигло 400.
Переход от дискретных пассивных компонентов к их микросборкам обусловлен такими очевидными преимуществами применения последних, как:
снижение массы электронной аппаратуры;
экономия пространства на печатной плате;
повышение плотности монтажа;
возможность автоматизации монтажных операций;
повышение надежности аппаратуры.
Кроме того, существенным преимуществом пассивных микросборок является высокая однородность характеристик их однотипных элементов, что особенно актуально при использовании в современной вычислительной технике (декодирующие матрицы, делители напряжения, цифро-аналоговые и аналого-цифровые преобразователи информации и др.). Возможность изготовления микросборок, содержащих развязывающие емкостные элементы, позволяет использовать их совместно с полупроводниковыми микросхемами ТТЛ, ТТД-МОП, в устройствах сопряжения ТТЛ-микросхем и транзисторных логических микросхем с сопряженными эмиттерами и др.
Пассивные микросборки изготавливаются как по тонко-, так и по толстопленочной технологии. При этом они могут содержать навесные чиповые R- и С-компоненты, а остальные элементы микросборок, включая проводники, контактные площадки для присоединения внешних выводов и монтажа навесных компонентов, обкладки конденсаторных и контакты резисторных пленочных элементов выполняются на основе тонких или толстых пленок проводниковых, резистивных и диэлектрических материалов.
4.1. Тонкопленочные микросборКи
Тонкопленочные элементы микросборок (рис.4.1) выполняют на основе тонких пленок материалов с проводниковыми, полупроводниковыми и диэлектрическими свойствами. Эти пленки наносятся на диэлектрические подложки, в основном, методами вакуумного напыления (реже - газофазного осаждения, электрохимического анодирования и др.) и имеют толщины в пределах от 10 до 1000 нм.
Основные характеристики ряда материалов, используемых при изготовлении пленочных резисторных элементов отечественных конструкций тонкопленочных микросборок, приведены в табл. 4.1.
а б
Рис. 4.1. Простейшие тонкопленочные резисторный (а) и конденсаторный (б) элементы микросборок: 1 - токонесущая часть резисторного элемента (резистивный материал); 2 - контактные площадки; 3 - нижняя обкладка конденсаторного элемента; 4 - диэлектрик конденсаторного элемента; 5 - верхняя обкладка конденсаторного элемента.
Таблица 4.1
Материалы резисторных элементов тонкопленочных микросборок
резистивный материал |
Удельное поверхностное сопротивление, s, Ом |
ТКС, 10-4 К-1 |
Руд, Вт/см2 |
Материал контактных площадок |
Хром |
10...50 |
-2,5 |
1 |
Золото |
Тантал |
20...100 |
-1...-2 |
3 |
Нихром-алюминий |
Нитрид тантала |
200 |
0,1...1,0 |
3 |
Тантал |
Нихром |
300 |
±1 |
2 |
Медь |
СплавМЛТ-3М |
500 |
±2 |
2 |
Хром-медь |
Сплав РС-3001 |
1000...2000 |
-0.2 |
2 |
Хром-золото |
Сплав РС-3710 |
3000 |
23.0 |
2 |
Хром-золото |
Кермет К-50С |
3000...10000 |
-5...+3 |
2 |
Хром-золото |
Широкое применение в качестве материала тонкопленочных резисторных элементов нашли специальные сплавы с “резистивными” свойствами, в первую очередь - сплавы типа РС, а также хромосилицидные керметные сплавы. Сплавы типа РС содержат около 30 % хрома, 0,7...0,8 % железа или никеля, а также кремний, силициды, карбиды, нитриды тугоплавких металлов. На их основе получают тонкие резистивные пленки в широком диапазоне удельных поверхностных сопротивлений (от 50 Ом до 5 кОм) с достаточно низкими значениями ТКС (от 1010-6 до 10010-6 К-1).
Номинальное значение сопротивления пленочного резисторного элемента определяется, кроме удельного поверхностного сопротивления резистивной пленки s, значением коэффициента формы Кф, равного отношению протяженности участка резистивной пленки между контактными площадками L к его ширине B (рис.4.1)
R = s Кф,
где Кф = L/B .
Конфигурация тонкопленочных резисторных элементов, обеспечивающая значения коэффициента формы до 103, реализуется посредством ряда топологических решений, включающих, кроме прямоугольной формы участка резистивной пленки, такие геометрические варианты, как меандр с промежуточными контактными площадками, регулярный меандр и другие, рис. 4.2.
Для формирования простейшего пленочного конденсаторного элемента конструкции МДМ (металл - диэлектрик - металл), представленного схематически на рис.4.1(б) используются тонкие пленки металлов (верхняя и нижняя обкладки) и диэлектриков. В табл.4.2 представлены основные характеристики ряда материалов, используемых при изготовлении тонкопленочных конденсаторных элементов отечественных конструкций микросборок.
а б в
Рис.4.2. Варианты конфигурации резистивной пленки тонкопленочных резисторных элементов: а - прямоугольная полоса; б -меандр с промежуточными контактными площадками; в - регулярный меандр
При проектировании пленочных конденсаторных элементов с МДМ - структурой емкость элемента рассчитывают из соотношения:
С = (N-1)о S / h,
где N - число обкладок конденсаторного элемента, - относительная диэлектрическая проницаемость диэлектрической пленки, S - площадь перекрытия верхнего и нижнего электродов, h - толщина пленки диэлектрика.
Таблица 4.2
Материалы конденсаторных элементов тонкопленочных микросборок
материал диэлектрика |
ε |
Суд, пФ/мм2 |
tgδ..103, (f=1кГц) |
ТКЕ, 10-4К-1 |
Епр,106 В/см |
материа л обкладок |
Моноокись германия |
0...12 |
50...150 |
1...5 |
3,0...5,0 |
1...1,5 |
алюминий |
Моноокись кремния |
5...6 |
50...100 |
10...20 |
2,0...3,5 |
2...3 |
алюминий |
Двуокись кремния |
4 |
200 |
500...700 |
2,0...2,5 |
5...10 |
алюминий |
Окись алюминия |
8 |
300...400 |
300...1000 |
3,0...4,0 |
5...7 |
алюминий+ никель |
Пятиокись тантала |
20...23 |
500...2000 |
20 |
4,0 |
2 |
тантал+ ванадий |
Боросиликатное стекло |
3,9...4,2 |
150 |
1 |
0,2 |
3...5 |
алюминий+ ванадий (тантал) |
Алюмосиликатное стекло |
5,2...5,5 |
300 |
3 |
1,5 |
3...5 |
то же |
На рис.4.3 приведена упрощенная эквивалентная схема пленочного конденсатора, элементы которой отражают наличие в нем потерь, обусловленных как процессами в диэлектрике (Rд), так и в пленочных электродах (Rр).
Rд
Рис. 4. 3. Эквивалентная схема пленочного конденсаторного элемента
Потери в диэлектрике, как и в случае дискретных конденсаторов, обусловлены неидеальностью диэлектрика, сопротивление которого Rд имеет конечную величину (обычно порядка 107...1010 Ом). Потери в диэлектрике принято разделять на дипольно-релаксационные и миграционные. Поскольку тонкие диэлектрические пленки значительно более дефектны, чем диэлектрики дискретных конденсаторов, дипольно-релаксационная поляризация вносит существенный вклад в суммарные потери в довольно широком диапазоне частот (порядка 103...107 Гц при Т = 25С). Миграционные потери в диэлектрической пленке tgм обусловлены как электронной, так и ионной составляющими электропроводности, и на заданной частоте f определяются, в основном, удельным объемным сопротивлением пленки диэлектрика v и его диэлектрической проницаемостью :
tgм = 2 / (o f v) .
Потери в обкладках пленочного конденсаторного элемента емкостью С, tgо, зависят от их сопротивления Rр и частоты переменного электрического сигнала f:
tgо = 2 f C Rp .
Из анализа приведенных соотношений применительно к тонкопленочным конденсаторным элементам следует, что на низких частотах преобладают миграционные потери в диэлектрических тонких пленках, а на высоких - потери в обкладках конденсаторных элементов. Данное обстоятельство существенно ограничивает диапазон рабочих частот тонкопленочных конденсаторных элементов, особенно в случаях применения для изготовления обкладок пленок относительно высокоомных материалов (анодированный тантал, титан и др.).
Увеличение толщины обкладок тонкопленочных конденсаторных элементов с целью снижения потерь в них является недостаточно эффективным приемом, так как при этом возрастает вероятность возникновения пробоя конденсаторного элемента. Расширение частотного диапазона в данном случае может быть достигнуто использованием для формирования обкладок материалов с более низкими значениями удельного сопротивления.
Типичные характеристики тонкопленочных R- и C-элементов микросборок представлены в табл. 4.3.
Таблица 4.3
Конструктивные и эксплуатационные характеристики элементов
тонкопленочных микросборок
Параметры |
Элемент микросборки |
|
|
R |
C |
Толщина пленки, мкм |
0,02...2 |
0,2...1 |
Размеры контактных площадок, мкм, не менее |
100 100 |
100 100 |
Линейные размеры элемента, мкм, не менее |
50 50 |
100 100 |
Удельное поверхностное сопротивление, s, Ом |
102...105 |
- |
Удельная емкость, пФ/см2 |
- |
6104 |
ТКЕ, К-1 |
- |
210-4 |
ТКС, К-1 |
210-4 |
- |
Рабочее напряжение, В |
- |
50 |
tg |
- |
10-3...10-2 |
Сопротивление , Ом |
50...1105 |
- |
Емкость, пФ |
- |
1...2104 |
Удельная мощность рассеяния, мВт/мм2 |
(15...20) |
- |
Типовой технологический процесс изготовления тонкопленочных микросборок предусматривает использование интегрально-группового принципа обработки подложек. При этом резисторные и (или) конденсаторные элементы, контактные площадки и коммутационные проводники изготавливаются путем последовательного нанесения на подложку пленок материалов с заданными свойствами. Требуемая конфигурация топологических элементов достигается либо использованием соответствующих трафаретов при нанесении пленочных материалов, либо селективным удалением с использованием фотолитографии “лишних” участков пленок после их сплошного нанесения.
Электрическое соединение пленочных контактных площадок с жесткими выводами корпуса микросборки осуществляется с использованием таких методов микросварки, как термокомпрессионная, ультразвуковая, электронно-лучевая, лазерная и другие.
Для защиты от воздействий внешней среды микросборки обычно помещают в герметичные корпуса, применяемые для герметизации интегральных микросхем, что создает благоприятные условия для отвода выделяемого тепла, а также упрощает операции монтажа микросборок в аппаратуру. На корпуса микросхем распространяется ГОСТ 17467-82, устанавливающий их типы, габаритные и присоединительные размеры, а также условные обозначения.