![](/user_photo/2706_HbeT2.jpg)
- •Введение
- •Глава 1 Использование нанометодов в научных исследованиях
- •§ 1.1. Нанобиотехнологии
- •§ 1.2. Наноэлектроника
- •§ 1.3. Международный томографический центр. Наномагнетики
- •§ 1.4. Нанобезопасность
- •Глава 2 Наноисследования и нанотехнологии в оптике
- •§ 2.1. Основные задачи нанофотоники
- •§ 2.2. Лампа Накамуры
- •§ 2.3. Лазерный ключ
- •§ 2.4. Волоконные лазеры
- •§ 2.5. Отклонение света назад
- •Глава 3 Методы исследования и анализа наноструктур § 3.1. Электронная микроскопия
- •§ 3.2. Дифракционный анализ
- •§ 3.3. Спектральные методы
- •§ 3.4. Методы определения размеров наночастиц
- •Глава 4 Зондовые нанотехнологии § 4.1. Ближнепольная оптическая микроскопия
- •4.1.1. Зонды бом на основе оптического волокна
- •4.1.2. «Shear-force» метод контроля расстояния зонд-поверхность в ближнепольном оптическом микроскопе
- •4.1.3. Конфигурации бом
- •§ 4.2. Методы сканирующей зондовой микроскопии
- •4.2.1. Сканирующая туннельная микроскопия
- •4.2.2. Атомно-силовая микроскопия
- •4.2.3. Электросиловая микроскопия
- •4.2.4. Магнитно-силовая микроскопия
- •§ 4.3. Военные приложения нт
- •§ 4.4. Электроника, фотоника, магнитные материалы
- •§ 4.5. Компьютеры и коммуникационные устройства
- •§ 4.6. Программное обеспечение и искусственный интеллект
- •§ 4.7. Материалы
- •§ 4.8. Источники и аккумуляторы энергии
- •§ 4.9. Камуфляж и средства маскировки
- •§ 4.10. Распределенные датчики
- •§ 4.11. Обычные виды вооружений
- •Глава 5 применение нанотехнологий § 5.1. Объекты нанометрового масштаба и пониженной размерности
- •§ 5.2. Атомные манипуляции с помощью стм
- •5.2.1. Удаление атомов
- •5.2.2. Осаждение атомов
- •5.2.3. Перемещение атомов вдоль поверхности
- •§ 5.3. Самоорганизация
- •§ 5.4. Оптические свойства наноструктур
- •5.4.1. Наноструктуры для применения в оптоэлектронике
- •5.4.2. Действие мощных нано- и фемтосекундных лазерных импульсов на кремниевые наноструктуры
- •§ 5.5. Фуллерены и углеродные нанотрубки
- •§ 5.6. Метаматериалы и оптические свойства наноструктур
- •Приложение Перспективы и возможные последствия нанореволюции
- •Три основных типа экономики
- •Вместо послесловия
- •Список литературы
- •Оптические свойства наноматериалов
- •Кристаллы
- •680021, Г. Хабаровск, ул. Серышева, 47.
4.2.3. Электросиловая микроскопия
В электросиловой микроскопии для получения информации о свойствах поверхности используется электрическое взаимодействие между зондом и образцом. Рассмотрим систему, состоящую из зондового датчика, у которого зонд имеет проводящее покрытие, и образца, представляющего собой тонкий слой материала на хорошо проводящей подложке.
Пусть между зондом и образцом подано постоянное напряжение U0 и переменное напряжение U~=U1·sin(φt). Если тонкий слой на подложке представляет собой полупроводник или диэлектрик, то он может содержать поверхностный заряд, так что на поверхности образца существует распределение потенциала φ(x,y). Напряжение между зондом и поверхностью образца можно представить в виде
.
(4.15)
Система зонд-образец обладает некоторой электрической емкостью С, так что энергия такой системы может быть представлена в следующем виде:
.
(4.16)
Тогда электрическая сила взаимодействия зонда и образца равна
.
А ее Z – компонента может быть представлена в виде
.
(4.17)
Таким образом, Z – компонента электрической силы, действующей на зонд со стороны образца, равна
.
(4.18)
Из последнего выражения следует, что сила взаимодействия имеет три составляющие: постоянную составляющую Fz(ω=0), составляющую на частоте ω Fz(ω) и составляющую на частоте 2ω Fz(2ω).
Детектирование амплитуды колебаний кантилевера на частоте 2ω позволяет исследовать распределение вдоль поверхности величины Cz’(x,y)-производной от емкости по координате z (так называемая емкостная микроскопия). С помощью этого метода можно изучать локальные диэлектрические свойства приповерхностных слоев образцов. Для получения высокого разрешения в данной методике необходимо, чтобы электрическая сила в системе зондовый датчик-образец определялась, в основном, взаимодействием между зондом и поверхностью. Сила взаимодействия зонда с поверхностью на основе простой модели плоского конденсатора может быть представлена в виде
,
(4.19)
где – постоянная величина, R – характерный радиус закругления кончика зонда, h – расстояние зонд-поверхность (или толщина пленки диэлектрика на проводящей подложке). C другой стороны сила, действующая на кантилевер со стороны образца:
,
(4.20)
где – постоянная величина, L – длина кантилевера, W – ширина кантилевера, H – расстояние до поверхности (определяется размерами зонда). Из условия FPS>FCS следует:
<
.
(4.21)
Отсюда для типичных значений параметров зондовых датчиков (L~100мкм, W~30 мкм, H~30 мкм, R~10 нм) получим следующую оценку h<10 нм.
Поскольку сама величина
зависит от расстояния зонд-образец, для
исследования диэлектрических свойств
образцов применяется двухпроходная
методика. В каждой строке сканирования
производится следующая процедура. На
первом проходе с помощью пьезовибратора
возбуждаются колебания кантилевера на
частоте, близкой к резонансной частоте
ω0, и снимается АСМ изображение
рельефа в «полуконтактном» режиме.
Затем зондовый датчик отводится от
поверхности на расстояние z0.
Между зондом и образцом подается
переменное (на частоте ω = ω0)
напряжение, и осуществляется повторное
сканирование (рис. 4.10).
Рис. 4.10. Двухпроходная методика ЭСМ
На втором проходе датчик движется над поверхностью по траектории, повторяющей рельеф образца. Поскольку в процессе сканирования локальное расстояние между зондовым датчиком и поверхностью в каждой точке постоянно, изменения амплитуды колебаний кантилевера на частоте 2ω будут связаны с изменением емкости системы зонд-образец вследствие изменения диэлектрических свойств образца.
Таким образом, итоговый ЭСМ кадр представляет собой двумерную функцию Cz’(x,y), характеризующую локальные диэлектрические свойства образца.
Детектирование сигнала на частоте ω позволяет изучать распределение поверхностного потенциала φ(x,y) (так называемый метод Кельвина). Для этого при сканировании образца на втором проходе в каждой точке производится следующая процедура. С помощью перестраиваемого источника постоянного напряжения подбирается величина U0 таким образом, что амплитуда колебаний кантилевера на частоте ω становилась равной нулю. Это происходит в том случае, если U0=φ(x,y) в данной точке поверхности. На рис. 4.11 в качестве примера приведены АСМ изображения рельефа поверхности и распределение поверхностного потенциала для композитной пленки, содержащей азобензол. На изображении поверхностного потенциала выделяются молекулы азобензола, имеющие сильный дипольный момент.
Рис. 4.11. Рельеф поверхности (а) и распределение поверхностного потенциала (б) пленки азобензола