Оборудование установка вакуумная ву - 2мбс

Изделие предназначено для нанесения тонкопленочных износостойких покрытий вакуумно-плазменным способом из электропроводного тугоплавкого материала — титана (Ti), а также его соединений с газами (TiN, TiC) (нитриды, карбиды). Предусмотрена возможность нанесения покрытий из других тугоплавких электропроводящих материалов, в том числе молибдена, циркония (Zr) и их соединений (нитриды, карбиды в том числе).

Установка может эксплуатироваться в закрытых сухих помещениях при климатических условиях:

— температура окружающей среды от 17° до 27°С;

— относительной влажности от 40 до 75 %;

— атмосферном давлении от 9,6 - 10 Па (720 до 780 мм рт. ст.)

В состав установки входит:

— откачной пост (с высоковакуумными средствами откачки, вакуумной системой и пневмо гидроаппаратурой) ;

— форвакуумный агрегат;

— электрооборудование (со стойкой управления, блоком выпрямителей).

По требованию заказчика может дополнительно комплектоваться:

— камерой пылезащитной;

— ультразвуковой ванной УЗВ—16М или УЗВ—15;

— ультразвуковым генератором УЗГ2—4М

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

1. Предельное давление в чистой, пустой и обезгаженной камере, при охлаждении ее холодной водой 1,3310^-3 Па или 110^-5 мм рт.ст.;

2. Время достижения давления 1,3310^-3 Па - 20 мин.;

3. Размеры рабочей камеры: диаметр - 700 мм, высота - 776 мм;

4. Количество дуговых испарителей 4 шт.;

5. Скорость осаждения покрытия 16 - 35 мкм/час;

6. Микротвердость покрытия до 2400 кг/мм²;

7. Наибольшие размеры обрабатываемого инстумента: диаметр - 200 мм, длина - 200 мм;

8. Производительность при упрочнении инструмента:

- сверл диаметром 5 мм - 1800 шт/час;

- сверл диаметром 10 мм - 600 шт/час;

- пластин размерами 12,7 х 12,7 - 1000 шт/час;

- дисковых фрез диаметром 60 мм - 380 шт/час.

9. Ток дуги 65 - 250 А;

10. Напряжение высоковольтного источника в рабочем режиме 1200  200 В;

11. Диапазон дискретного регулирования опорного напряжения низковольтного источника

15 - 225 В;

12. Максимальный ток подложки при нормальном режиме 15 А;

13. Мощность установки не более 40 кВА;

14.Площадь, занимаемая установкой 17 м²;

15. Масса установки 2400 кг.

Установка вакуумная модели ву - ило

Изделие предназначено для ионно - лучевой обработки оптических деталей с одновременным кварцевым контролем скорости съема материала.

Вакуумная установка имеет автоматический режим откачки рабочей камеры с управлением от встроенной ЭВМ, ручной режим управления ионным источником, наладочный режим, и обеспечивает снятие материала на оптических деталях с использованием в вакууме в качестве рабочей среды инертных газов, кислорода, хладонов.

В состав установки входит:

— откачной пост с системой откачки рабочей камеры;

— подколпачная арматура;

— стойка управления;

— модуль ИЛО, состоящий из ионного источника и стойки питания,

Вакуумная установка должна эксплуатироваться на вакуумных участках и в лабораториях при условиях, соответствующих требованиям к специализированному участку вакуумных тонкопленочных покрытий согласно нормативно-технической документации, и при температуре окружающего воздуха от 17 до 28°С, относительной влажности от 40 до 75 % и атмосферном давлении 8,410⁴ - 10,610⁴ Па (630 - 800 мм рт, ст.)

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

1. Давление в камере 6,6710^-4 (510^-6) Па (мм рт., ст.);

2. Время достижения давления 6,6710^-4 Па 25 мин.;

3. Диаметр ионного пучка 200 мм;

4. Плотность ионного пучка 1  0,2 мА/см²;

5. Максимальный диаметр обрабатываемой детали:

— при одинарном вращении 200 мм (1 загрузка ),

— при планерном вращении 80 мм (3 загрузки),

— при обработке на планшайбе 200 мм (5 загрузок).

6. Максимальная скорость съема на площади сечения ионного пучка:

на металлах (медь) 6,3 мкм/час:

на полупроводниках (кремний) 2,4 мкм/час:

на диэлектриках (стекло) 2,7 мкм/час.

7. Мощность установки не более 18 кВА;

8. Площадь, занимаемая установкой не более 5 м²;

9. Масса установки - 1100 кг.