Установка ионно-химического травления пластин диаметром до 150 мм "катер".
|
Пластина неподвижна, источник движется возвратно - поступательно. Назначение: реактивное ионно - лучевое травление в производстве СБИС и БИС. Тип источника: щелевой сканирующий.
Технические характеристики:
Основные параметры источника :
1. Средняя энергия ионов 0,2 - 0,5 кэВ; 2. Ток ионного пучка 0,5 А; |
Основные параметры установки
1. Режим работы: автоматический, управление от ЭВМ, кассетная загрузка / выгрузка;
2. Размер пластин 150 мм;
3. Количество одновременно загружаемых пластин 1шт.;
4. Производительность - 50 пл/см;
5. Неравномерность обработки ± (1 - 3) %;
6. Средства откачки: турбомолекулярный насос;
7. Рабочее давление (1 - 9)10-2 Па;
8. Предельное остаточное давление 210-4 Па;
9. Потребляемая мощность 10 кВт;
10. Габаритные размеры 2100 х 1500 х 1800 мм;
11. Масса 300 кг.