
- •Г Этот вариант пособия не редактируется, не архивируется, и сделано это специально… лава 1. Термопреобразователи
- •1.1. Термопреобразователи
- •1.2. Температурная зависимость удельного сопротивления
- •1.3. Контактные явления в температурных преобразователях
- •Эффект пельтье
- •1.5. Полупроводниковы терморезистор
- •1.6. Материалы для термоэлементов. Основные свойства и применение элементов зеебека и пельтье в технике
- •Глава 2. Гальваномагнитные эффекты
- •2.1. Эффект холла
- •2.2. Использование эффекта холла для
- •2.3. Магниторезитивный эффект
- •2.4. Магниторезитивный датчики
- •Глава 3. Фотоэффекты в твердых телах
- •3.1. Поглощение света полупроводниками
- •3.2. Внутренний фотоэффект
- •3.3. Фотоэффект в p-n переходе
- •Глава 4. Эффекты в слабосвязанных сверхпроводниках
- •4.1. Сверхроводимость
- •4.2. Куперовские пары
- •4.2. Слабосвязанные сверхпроводники
- •4.3. Туннелирование сп электронов в магнитном поле. Макроскопическая квантовая интерференция
- •Глава 5. Физические основы процессов и явлений, лежащие в основе методов получения информации о структурных характеристиках материалов
- •5.1. Классификация твердых тел
- •5.2. Структурная характеризация твердых тел
- •5.3. Оптические методы получения информации
- •5.4. Электронномикроскопические методы
- •5.5. Дифракционные методы исследования
- •5.6. Методы получения информации, в основе которых лежит явление фотоэлектрического поглощения
3.3. Фотоэффект в p-n переходе
Принцип действия большинства полупроводниковых фотоприемников с p-n переходом основан на пространственном разделении неравновесных электронов и дырок потенциальным барьером неоднородной полупроводниковой структуры. При образовании контакта по разные стороны перехода от полупроводника n-типа к полупроводнику p-типа возникает обедненный слой с недостатком свободных носителей. Состояние равновесия поддерживается электрическим полем Е, благодаря которому между двумя типами полупроводников устанавливается потенциальный барьер.
При освещении неоднородной полупроводниковой структуры фотонами с энергией hEg происходит генерация электронно-дырочных пар. Поведение неравновесных носителей зависит от того, где они возникают, т.е. в каком месте структуры поглощается излучение. Для каждой области важным является поведение неосновных носителей, поскольку именно их плотность может изменяться при засветке в широких пределах. Плотность основных носителей с обеих сторон границы раздела полупроводников остается неизменной.
Если излучение поглощается в p-области, то электроны, находящиеся от p-n перехода на расстоянии меньшем длины диффузии Ln, смогут достигнуть его. Потенциальный барьер способствует переходу электронов в n-область. Аналогично, если излучение поглощается в n-полупроводнике, то через переход в p-область перебрасываются только дырки. Если же пары генерируются в области объемного заряда, то после перехода носители заряда расходятся таким образом, что они оказываются в той области структуры с p-n переходом, где они оказываются основными. Таким образом, сам p-n переход оказывается областью стока неосновных носителей заряда на пути их переноса в область, где они являются основными.
Результатом пространственного разделения неравновесных носителей заряда является уменьшение потенциального барьера перехода на величину смещения уровней Ферми в объеме полупроводниковой структуры на eU.
Разность потенциалов U, возникающая на контактах диода, зависит от сопротивления внешней цепи и достигает максимума при ее разрыве (режим холостого хода).
На рис. 3.5 представлена энергетическая схема и токи при термодинамическом равновесии (а) и при освещении (б, в).
Рис. 3.5. Энергетическая диаграмма и токи в p-n переходе при термодинамическом равновесии и освещении
В термодинамическом равновесии уровень Ферми во всей системе постоянен и существует потенциальный барьер eк. Токи в этом случае (а) обусловлены свободными носителями за счет термического возбуждения. Суммарный ток равен нулю. Условие равновесия с учетом равенства нулю каждой пары токов электронов и дырок запишется в виде: -jn(n) +jn(p) – jp(p) +jp(n) = 0.
Уравнение учитывает направления токов в прямом и обратном направлениях при термодинамическом равновесии.
Потоки неосновных носителей из p и n областей являются электронной и дырочной составляющих тока насыщения в вольт-амперной характеристике диода с тонким p-n переходом.
Js
= jns
+ jps
=
. (3.25)
Созданные под действием света электронно-дырочные пары разделяются в поле p-n перехода и движутся электроны в «n», а дырки в «p» - области. Перешедшие p-n переход неравновесные носители создадут добавочную плотность тока jf (рис. 3.5в). В результате в p-области уменьшается отрицательный объемный заряд p-n перехода, а в n-области уменьшается, соответственно, положительный объемный заряд. Разделение зарядов приводит к возникновению разности потенциалов U и понижению барьера на величину eU.
Возникшая в p-n переходе, фото-ЭДС носит название вентильной. Освещенный p-n переход действует как фотоэлемент.
Уравнение тока, текущего через p-n переход при освещении записывается: j = jf – jn(n) +jn(p) – jp(p) +jp(n).
Токи неосновных носителей заряда при освещении равны своим значениям при равновесии p-n перехода.
jn(p) = jns; jp(n) = jps. (3.26)
Плотность тока основных носителей в результате понижения барьера увеличится:
jn(n) = jnsехр(eU/kT), (3.27)
jp(p) = jpsехр(eU/kT). (3.28)
Суммарный полный ток будет
j = jf – jns(ехр(eU/kT) – 1) - jps(ехр(eU/kT) – 1) (3.29)
или jf– j =js(ехр(eU/kT) – 1),
откуда
U=
. (3.30)
Последнее уравнение является уравнением фотодиода для любого режима.
Вентильная
фото-ЭДС определяется на зажимах
разомкнутой цепи, когда j
= 0 и равна - U
=
.
С учетом интенсивности света jf = e Ih
Uвент
=
, (3.31)
где - квантовый выход, I - интенсивность света, доля непрорекомбинировавших пар носителей заряда, пришедших к p-n переходу.
При
большом уровне освещения jfjs
>> 1, Uвент
=
.
При
малом уровне возбуждения, слабой
освещенности jfjs<<
1, раскладывая «ехр» в ряд, получаем
Uвент =
,
т.е. при малом уровне возбуждения вентильная фото-ЭДС пропорциональна интенсивности света.
Так как падающее излучение должно достигать обедненного слоя, проходя через освещенный полупроводниковый слой без заметного ослабления, то пластина освещаемого полупроводника должна быть очень тонкой, порядка 103Å , а обедненный слой толстым, для максимального поглощения излучения. В связи с этим в качестве фотодиодов широко распространены p-i-n-диоды. i-слой с малой собственной проводимостью между n- и p-слоями.
В качестве материалов фотодиодов в видимой и ближней инфракрасной (ИК) области применяют кремний и германий, а для ИК области – GaAs, InAs, InSb, HgCdTe.