4.5.2 Фотоматериалы agfa

ПЛЕНКИ AGFA ALLIANCE PLUS ΗΝ / HS ΗΝ, HNm, HN7, HN7m: чувствительные к красному свету материалы, разработанные для экспонирования ее в записывающих устройствах с применением гелий-неонового лазера (633 нм) или светодиода красного спектра излучения (633 – 670 нм).

HSP, HNP: соответствующее обозначение фоточувствительных бумаг,

ΗΝ – пленка с толщиной основы 100 мкм.

HNm – пленка с матовой основой, пригодная для экспонирования фотополимерных печатных форм.

HN7 – пленка с толщиной основы 180 мкм. HN7m — пленка с матовой основой большей толщины.

HS – пленка с повышенной светочувствительностью.

Характеристики:

- большая широта экспонирования и проявления;

- спектральная чувствительность: 633 - 670 нм;

- отличная четкость;

- пригодна для стохастического растрирования;

- антистатическая до и после проявления.

ПЛЕНКИ AGFA ALLIANCE PLUS AR - AR, ARm, AR7: чувствительные к синему свету материалы, разработаны д-я экспонирования в записывающих устройствах с аргоновым лазером (488 нм).

ARP - соответствующее обозначение чувствительной к синему излучению бумаги.

ПЛЕНКИ AGFA ALLIANCE PLUS LD - LD, LDin, LD7: материалы, чувствительны к красному свету и разработаны для экспонирования в записывающих устройствах с применением свето-эмиссионных диодов (LED).

Спектральная чувствительность 660 нм.

ПЛЕНКИ AGFA ALLIANCE PLUS IR: IR, IRm, IR7, IR7m: чувствительны к инфракрасному излучению материалы, разработанны для экспонирования в записывающих устройствах с применением инфракрасного лазера (780 — 820нм).

IRP - соответствующее обозначение чувствительной к инфракрасному излучению бумаги.

4.5.3 Фототехнические пленки четвертого поколения Fuji

Обычные пленки благодаря их характеристикам обеспечивают воспроизведение растровых точек с некоторой неравномерностью, характеризуемой терминами твердость и мягкость. Неравномерность точки изменяется в зависимости вот типа лазера и оптической плотности получаемых пленок (уровня экспозиции в ФНА). Эта же неравномерность частично обуславливает необходимость линеаризации ФНА для конкретного уровня экспозиции. Например, если ФНА настроен и линеаризован под плотность 3.5D, a пришедший клиент просит вывести пленки с плотностью 4.0D, то необходим, строго говоря, не только увеличить уровень экспозиции, но и провести линеаризацию сызнова.

Неравномерность точки требует при контактном копировании тщательного подбора экспозиции для точной передачи полутонов. Обычно выполняемый подбор экспозиции с помощью многопольной шкалы, не учитывая неравномерность точки, дает лишь некоторое условное значение, поэтому для точного подбора экспозиции необходим денситометрический контроль полученных с тестовой формы отпечатков. Еще больше проблем возникает при использовании стохастического (частотно-модулированного) растрирования. Хорошие растровые процессоры (RIP) имеют специальную процедуру для двухэтапной линеаризации ФНА.

В настоящее время фирма Fuji представляет пленки четвертого поколения HQ Series. Главное отличие этих пленок – очень «твердая» точка практически вне зависимости вот типа лазера. Пленки обеспечивают высокую четкость воспроизведения, большие значения максимальной оптической плотности и облегчают процесс линеаризации ФНА. Рекомендуемая фирмой FUJI оптическая плотность для пленок HQ Series при использовании химикатов FUJI составляет 5,2D. Такая высокая плотность обеспечивает стабильность формного процесса и простоту выбора экспозиции для контактного копирования как для регулярного, так и для стохастического растрирования.

Структура всех пленок включает антистатический, противоореольный и защитный слои, а также специальный водонепроницаемый слой, предотвращающий изменение линейных размеров изображения. Защитный слой имеет пористую поверхность, что позволяет уменьшить время при переконтакте на пленку или пластину в два раза.