- •Лазерная техника Содержание
- •1. Газовые лазеры (гл)
- •Классификация гл
- •1.2. Некоторые сведения из физики газового разряда
- •1.2.1. Понятие плазмы газового разряда
- •1.2.2. Основные элементарные процессы в плазме гр
- •1.2.3. Понятие устойчивости гр
- •1.2.4. Описание гр с помощью вольтамперной характеристики (вах)
- •1.2.5. Несамостоятельный гр и его применение в гл
- •1.2.6. Самостоятельный гр и его применение в гл
- •1.2.7. Особенности конструкции гл с самостоятельным гр
- •1.2.8. Использование переменных полей для возбуждения гл
- •1.2.9. Импульсный гр и его применение в гл
- •1.3.1. Схема энергетических уровней молекулы , участвующих в процессе лазерной генерации
- •1.3.2. Создание инверсии на лазерных переходах
- •1.3.3. Формирование частотного спектра лазерного излучения
- •1.3.4. Зависимость мощности генерации со -лазера от температуры активной среды
- •1.3.5. Диффузионное охлаждение рабочей смеси
- •1.3.6. Многолучевые системы на базе диффузионного лазера
- •1.3.7. Конвективное охлаждение рабочей смеси
- •1.3.8. Импульсные -лазеры
- •1.3.9. Газодинамические -лазеры
- •1.5. Химические лазеры
- •1.5.1. Основные требования, необходимые для прямого преобразования химической энергии в световую
- •1.6. Атомарные лазеры (Не-Ne-лазер)
- •1.7. Ионные лазеры (Ar-лазер)
- •1.8. Лазеры на самоограниченных переходах
- •1.9. Эксимерные лазеры
- •2.Твердотельные лазеры с оптической накачкой
- •2.1. Общие характеристики и особенности генерации твердотельных лазеров с оптической накачкой
- •2.2 Рубиновый лазер
- •2.3. Лазеры на стекле с неодимом
- •2.4. Лазеры на гранате с неодимом (иаг-лазеры)
- •3. Полупроводниковые лазеры
- •3.1. Вынужденное излучение в полупроводниках
- •3.2. Создание инверсии в полупроводниках
- •3.3. Лазеры на гомоструктурах
- •3.4. Лазеры на гетероструктурах
- •4. Лазеры на растворах органических красителей
- •4.1. Лазерные красители
- •4.1.1. Общие сведения
- •4.1.2. Поглощение света лазерными красителями и их флуоресценция
- •4.1.3. Пути дезактивации возбужденных молекул красителя
- •4.1.4. Распространенные красители
- •4.2. Условие генерации
- •4.2.1. Режим многократного прохождения излучения в резонаторе
- •4.2.2. Режим сверхизлучения
- •4.3. Системы накачки
- •4.3.1. Поперечный способ накачки
- •4.3.2 Продольный способ накачки
- •4.4. Дисперсионные резонаторы лазеров на красителях
- •4.4.1. Резонаторы с дифракционной решеткой
- •4.4.2. Резонаторы с оптическими призмами
- •4.4.3. Резонаторы с интерферометром Фабри-Перо
- •4.4.4. Лазеры на красителях с распределенной обратной связью
3.4. Лазеры на гетероструктурах
В предыдущих параграфах отмечалось, что обычные лазерные фотодиоды имеют большое значение порогового тока. Это объясняется несколькими причинами, и прежде всего тем, что генерируемая в окрестности р-п-перехода световая волна распространяется не только в активной области, но и за ее пределами, где не выполняются условия инверсности населенности. Еще одной причиной является то, что часть инжектируемых электронов, обладая большой длиной свободного пробега, проскакивает активную часть р-п-перехода и не участвует в образовании электронно-дырочных пар.
Для того чтобы устранить отмеченные выше недостатки и повысить эффективность работы лазерных диодов, необходимо ограничить зону распространения генерируемого света и инжектируемых электронов и обеспечить условия, чтобы эти процессы протекали только в активной области. Желаемые свойства оптического ограничения могут быть получены на гетеропереходных структурах. Самым простым из них является лазер с одинарным гетеропереходом (ОГ), представленный на рис. 58, а. Излучающий р-п-переход образуется между GаАs и Ga Al As посредством специальной технологической обработки. Если концентрации примесей примерно одинаковы на обеих сторонах р-п-перехода, то инжекционный ток будет существовать за счет электронов, инжектируемых в слой р-типа, поскольку эффективная масса электронов почти на порядок меньше эффективной массы дырок. Поэтому слой с инверсной населенностью будет находиться в р-GaAs, толщина которого соизмерима с длиной диффузии инжектируемых электронов. Таким образом, область инверсии населенности ограничена толщиной, где в основном и происходит рекомбинация электронов с последующим излучением.
В ОГ-лазере оптическое ограничение происходит с одной стороны, отсюда желаемый результат, т. е. повышение эффективности работы гетеролазера, реализуется частично, а
поэтому у ОГ-лазера значение порогового тока выше, чем у лазера с двойной гетероструктурой (рис. 58, б). Поскольку удалось уменьшить значение порогового тока у ОГ-лазера, это дало возможность использовать его работу при комнатной температуре, но только в импульсном режиме накачки. В непрерывном режиме накачки при комнатной температуре работают лазеры с двойной гетероструктурой (ДГ).
Профиль показателя преломления ДГ-лазера в направлении, перпендикулярном к р-п-переходу, показан на рис. 58, б. Толщина активного слоя составляет менее 1 мкм. При этом по всему слою создается инверсная населенность. Если в ОГ-лазерах толщина активного слоя соизмерима с длиной диффузии инжектируемого электрона, то в ДГ-лазерах толщина меньше этой длины. Кроме того, в ДГ-лазерах обеспечивается оптическое ограничение с двух сторон активной зоны. Эти обстоятельства приводят к тому, что ДГ-лазеры являются высокоэффективными приборами и характеризуются минимальным пороговым током, что позволяет осуществлять непрерывную накачку электрическим током при комнатной температуре.
В предыдущем параграфе отмечалось, что ограничение оптического слоя в области р-п-перехода благоприятно влияет на пороговую плотность тока / „, мощность излучения Ризл и эффективность лазерного диода g. Эти параметры можно рассчитать, используя формулы (3.15), (3.17) и (3.18). Необходимо только для каждого конкретного случая знать отношение d/D. Нахождение этого отношения при условии двухстороннего ограничения оптического поля представляет собой сложную задачу, решение которой не может быть получено однозначно, поскольку необходимо решать волновые уравнения с соответствующими граничными условиями. Существует приближенное полуэмпирическое выражение для
определения
отношения d/D,
которое справедливо для трехслойной
симметричной структуры из Ga
Al
As
s - GaAs - Ga
Al
As
малой толщины d. Показано, что d
0,07
/x
,
где х- часть атомов Al
в ограничивающих слоях. Отношение d/D
(его еще называют ограничивающим
фактором) дается выражением
где E - максимальная амплитуда поля; - величина, определяемая из формулы
где
n
и
n
- показатели
преломления в активном и ограничивающих
слоях соответственно; k = 2
- волновое число. Значения фактора
ограничения для трехслойной симметричной
структуры Ga
Al
As
- GaAs приведены на рис. 59 для различных
значений d и х. Из рисунка видно, что
полного ограничения можно достичь в
активной области толщиной 0,4 мкм при
составе атомов Al, равном 0,6.
Для
улучшения выходных характеристик
гетероструктурного лазера в процессе
получения гетероструктуры создают
условия, обеспечивающие ограничение
носителей заряда в активной области.
Для структуры, изображенной на рис. 58,
б, диаграмма энергетических зон приведена
на рис. 60. Из-за того, что ширина запрещенной
зоны у полупроводника больше в области
с увеличенной концентрацией атомов A
l, возникают смещения в зоне проводимости
на р-р
-переходе (
)
и в валентной зоне на п-р и n -п
-
переходах (
).
Когда к такой структуре прикладывается
прямое напряжение смещения, электроны
инжектируются из п- в р-область. Скачок
зоны проводимости на р-р
-границе раздела на
,
обеспечивает энергетический барьер
для инжектируемых электронов, производя
тем самым ограничение их в р-области и
увеличивая вероятность их рекомбинации
с дырками. Скачок валентной зоны на
п-р-переходе
,
повышает уже существующий потенциальный
барьер, препятствующий инжекции дырок
в п-область, улучшая тем самым инжекционную
эффективность. Таким образом, у двойной
гетероструктуры имеет место тенденция
ограничения как основных, так и
инжектируемых неосновных носителей в
активной зоне. Это обеспечивает хорошие
условия для получения более эффективной
инверсной населенности. Значит, ДГ-лазеры
обеспечивают более высокие выходные
характеристики по сравнению с ОГ-лазерами,
и тем более по сравнению с гомопереходными
лазерами. Сравнение технических
характеристик этих лазеров показывает,
что если у гомоструктурного лазера
пороговая плотность тока равна 10
А/см
при квантовой эффективности 10%, то у
ОГ-лазера пороговая плотность тока
равна 10
А/см
,
а квантовая эффективность доходит до
40%. Эти лазеры, как отмечалось выше,
работают только в импульсном режиме. У
ДГ-лазеров пороговая плотность тока
равна 700-800 А/см
,
а квантовая эффективность составляет
55% . Эти лазеры работают в непрерывном
режиме.
Однако ДГ-лазеры отличаются тем недостатком, что у них большая угловая расходимость луча (20-40 ) в плоскости, перпендикулярной к плоскости перехода, из-за дифракции света в тонком активном слое, в то время как у гомоструктурных и ОГ-лазеров угловая расходимость составляет 15-20 . У всех рассмотренных выше типов лазеров угловая расходимость луча в плоскости перехода составляет не более 10 .
