
- •Лазерная техника Содержание
- •1. Газовые лазеры (гл)
- •Классификация гл
- •1.2. Некоторые сведения из физики газового разряда
- •1.2.1. Понятие плазмы газового разряда
- •1.2.2. Основные элементарные процессы в плазме гр
- •1.2.3. Понятие устойчивости гр
- •1.2.4. Описание гр с помощью вольтамперной характеристики (вах)
- •1.2.5. Несамостоятельный гр и его применение в гл
- •1.2.6. Самостоятельный гр и его применение в гл
- •1.2.7. Особенности конструкции гл с самостоятельным гр
- •1.2.8. Использование переменных полей для возбуждения гл
- •1.2.9. Импульсный гр и его применение в гл
- •1.3.1. Схема энергетических уровней молекулы , участвующих в процессе лазерной генерации
- •1.3.2. Создание инверсии на лазерных переходах
- •1.3.3. Формирование частотного спектра лазерного излучения
- •1.3.4. Зависимость мощности генерации со -лазера от температуры активной среды
- •1.3.5. Диффузионное охлаждение рабочей смеси
- •1.3.6. Многолучевые системы на базе диффузионного лазера
- •1.3.7. Конвективное охлаждение рабочей смеси
- •1.3.8. Импульсные -лазеры
- •1.3.9. Газодинамические -лазеры
- •1.5. Химические лазеры
- •1.5.1. Основные требования, необходимые для прямого преобразования химической энергии в световую
- •1.6. Атомарные лазеры (Не-Ne-лазер)
- •1.7. Ионные лазеры (Ar-лазер)
- •1.8. Лазеры на самоограниченных переходах
- •1.9. Эксимерные лазеры
- •2.Твердотельные лазеры с оптической накачкой
- •2.1. Общие характеристики и особенности генерации твердотельных лазеров с оптической накачкой
- •2.2 Рубиновый лазер
- •2.3. Лазеры на стекле с неодимом
- •2.4. Лазеры на гранате с неодимом (иаг-лазеры)
- •3. Полупроводниковые лазеры
- •3.1. Вынужденное излучение в полупроводниках
- •3.2. Создание инверсии в полупроводниках
- •3.3. Лазеры на гомоструктурах
- •3.4. Лазеры на гетероструктурах
- •4. Лазеры на растворах органических красителей
- •4.1. Лазерные красители
- •4.1.1. Общие сведения
- •4.1.2. Поглощение света лазерными красителями и их флуоресценция
- •4.1.3. Пути дезактивации возбужденных молекул красителя
- •4.1.4. Распространенные красители
- •4.2. Условие генерации
- •4.2.1. Режим многократного прохождения излучения в резонаторе
- •4.2.2. Режим сверхизлучения
- •4.3. Системы накачки
- •4.3.1. Поперечный способ накачки
- •4.3.2 Продольный способ накачки
- •4.4. Дисперсионные резонаторы лазеров на красителях
- •4.4.1. Резонаторы с дифракционной решеткой
- •4.4.2. Резонаторы с оптическими призмами
- •4.4.3. Резонаторы с интерферометром Фабри-Перо
- •4.4.4. Лазеры на красителях с распределенной обратной связью
1.3.7. Конвективное охлаждение рабочей смеси
1.
Для выяснения преимуществ конвективных
СО2-лазеров сравним характерные времена
охлаждения рабочей смеси за счет диффузии
и конвекции
.
Если характерный эффективный размер,
определяющий диффузию,
,
а длина зоны возбуждения по потоку 1, то
,
где D
— коэффициент
диффузии газа,
,
— длина свободного пробега частиц газа;
v
— их тепловая скорость; а
— скорость
звука (а
),
.
Их отношение
(1.26)
Величина
этого отношения зависит от схемы прокачки
газа. Лазеры с продольной прокачкой
газа отличаются от диффузионных лишь
наличием потока газа. Поэтому, если
подставить в (1.26) характерные для
диффузионных лазеров параметры
~
1 см, 1~ 1 м,
~10
см,
то нетрудно видеть, что конвективное
охлаждение сравнивается с диффузионным
уже при v
,
т.е. при существенно дозвуковых потоках.
Таким образом, наличие потока газа со
скоростью v
>
а,1А,/Л приводит к заметному возрастанию
эффективности охлаждения рабочей смеси
и позволяет увеличить объемное
энерговыделение до величины
(1,27)
где
с
— удельная
теплоемкость газа, ρ
— плотность газа, Т
-температура
газа на входе в газоразрядную камеру
(Т
T
)
Мощность лазера с продольной прокачкой
газа составит при этом
(1.28)
Естественно
этой формулой можно пользоваться лишь
до тех пор, пока предельные объемные
энерговыделения ограничиваются скоростью
охлаждения смеси, т.е. при выполнении
неравенства
,
г
де
-предельное
значение энерговклада, определяемое
устойчивостью разряда). Ранее было
показано, что
поэтому, сравнивая формулы (1.19) и (1.28),
нетрудно видеть, что при фиксированном
радиусе трубки продольная прокачка
газа может увеличить удельный съем
мощности излучения с единицы длины
приблизительно на порядок, т.е. до W/L
— 500 — 1000
Вт/м.
Необходимо
отметить, что в случае турбулентного
характера газового потока дополнительное
возрастание скорости охлаждения смеси
может иметь место из-за замены ламинарной
диффузии на турбулентного. Время
турбулентной
диффузии (
)
~
),
где
-
флуктуации скорости потока. Сравнивая
это время с (
)
~
),
можно получить
(1.29)
Таким образом, возникновение турбулентного характера течения газа в оптимальных режимах может привести к возрастанию скорости его охлаждения, сравнимому со скоростью конвективного охлаждения.
Несмотря
на то, что введение продольной прокачки
газа существенно увеличивает съем
излучения с единицы длины, предельная
мощность лазера при этом возрастает
незначительно и, как правило, не превышает
2 — 5кВт.
Это
связано с тем, что при продольной прокачке
газа длину лазера бессмысленно делать
большой. Действительно, как видно из
(1.28), W
~
,
но
при
удельное объемное энерговыделение
~l
и
поэтому увеличение длины разряда в
направлении оптической оси не
сопровождается ростом мощности излучения.
2.
Значительно более перспективной с точки
зрения повышения мощности лазера
является схема с поперечной прокачкой
газа. В этом случае оптическая ось
резонатора лазера направлена
перпендикулярно направлению скорости
прокачки газа и поэтому ее увеличение
не сопровождается снижением эффективности
конвективного охлаждения, определяемого
длиной разрядной зоны по потоку 1.
Значения величин
~h
в схемах с продольной прокачкой становятся
одного порядка с l и при значениях
~10
и
~10
время
конвективного охлаждения, как это видно
из (1.25), становится на 3-4 порядка меньше
.
Основным фактором при этом, ограничивающим значения вкладываемой в разряд мощности, становится устойчивость разряда. Мощность конвективного лазера с поперечной прокачкой, имеющего газоразрядную камеру с плиной вдоль оптической оси L и высотой h, определяется полным расходом газовой смеси, допустимой температуре ее нагрева Т , и электрооптическим КПД используемого метода накачки, т.е.
(1.30)
Подставляя
в это выражение типичные для конвективных
СО
-лазеров
значения
K,
с
~
(1,5
— 2) Дж/(г К), р
~
10
г/см
,h
~3-
10см, v
~(0.3-1)
см/с и
~
(0,1-0,2), нетрудно видеть, что в условиях
конвективного охлаждения смеси поперечным
потоком с единицы длины в направлении
оптической оси можно снять мощность
излучения (W/L)~
(0,3
— 100) кВт/м,
что
существенно превышает удельные съемы
излучения, достигаемые при других
способах охлаждения рабочей смеси.
3. Конвективное охлаждение требует прокачки большего количества рабочей смеси. Ecли в диффузионных лазерах скорость прокачки определяется скоростью химического отравления смеси и в присутствии регенераторов может быть равной нулю, то в конвективных лазерах для получения 1 Вт лазерного излучения необходимо прокачивать
((
г/с.
Так как создание мощных технологических конвективных лазеров с выбросом отработанной смеси нецелесообразно с экономической и трудно осуществимо при больших уровнях мощности с технической точки зрения, то, как правило, прокачка рабочей среды осуществляется по замкнутому газодинамическому тракту. Газодинамическая и оптическая схемы конвективных СО -лазеров с поперечной прокачкой представлены на рис. 30.
Рис.30
Наиболее
распространенным в настоящее время
способом накачки конвективных лазеров
является самостоятельный разряд
постоянного тока. В простейшем варианте
газоразрядная камера таких лазеров
состоит из трубчатого катода и сплошного
или секционированного в поперечном
потоку газа направлении анода. Полное
однородное заполнение катода током в
таких системах возможно лишь при малых
давлениях смеси (~15 — 20 торр),
малых
межэлектродных зазорах (h ~1 — 3 см) и
высокой степени однородности характеристик
потока газа. Повысить давление смеси,
межэлектродного зазора h,
а следовательно, и мощность лазера
можно, лишь повысив устойчивость разряда.
В случае самостоятельного разряда
постоянного тока это можно сделать с
помощью глубокого секционирования
одного из электродов (обычно катода)
вдоль и поперек потока газа. Так как
нормальная плотность тока на катоде
j
~
р
,
то повышение давления рабочей смеси
приводит к необходимости сокращения
эмитирующей площади поверхности и
поэтому катоды таких разрядов имеют
вид равномерно распределенных по плате
штырей или пластин.
Однородное распределение тока по всей разрядной камере обеспечивается включением в цепь каждого катодного' элемента балластного сопротивления Rb, на котором выделяется — 30 — 50% напряжения источника питания. Длина зоны разряда по потоку определяется предельными значениями и оценивается с учетом допустимого нагрева смеси с помощью соотношения
(1.31)
Глубокое секционирование электродов позволяет заметно поднять удельный съем и полную мощность излучения С02-лазеров.