
- •Часть II
- •Содержание
- •0. Лазерный нагрев материалов 7
- •1. Лазерное разрушение поглощающих материалов 92
- •0. Современные представления об оптическом пробое прозрачных сред 136
- •Глава 0. Воздействие сверхкоротких лазерных импульсов на материалы 150
- •Введение
- •0. Лазерный нагрев материалов
- •0.1. Общая характеристика нагревания лазерным излучением
- •0.0.0. Тепловые эффекты в конденсированных средах
- •0.0.1. Основные особенности температурной кинетики при лазерном воздействии на металлы
- •0.0.2. Теплопроводностные механизмы отвода тепла. Уравнение теплопроводности, начальное и граничные условия
- •0.1. Термические эффекты, сопровождающие лазерный нагрев
- •0.1.0. Термомеханические эффекты
- •0.1.1. Фазовые переходы в твердом состоянии (лазерное упрочнение)
- •0.1.2. Эмиссионные процессы
- •0.1.3. Основные особенности лазерной активации процессов аррениусовского типа. Лазерное окисление
- •0.1.4. Диффузионно-химические явления
- •0.1.5. Экзотермические эффекты при импульсном лазерном воздействии на металлы
- •0.2. Линейные режимы лазерного нагрева
- •0.2.0. Понятие температуры электронной и решеточной подсистем
- •0.2.1. Нагрев полупространства экспоненциально спадающим с глубиной тепловым источником
- •0.2.2. Нагрев металла импульсным излучением постоянной мощности
- •0.2.3. Нагрев материала лазерным пучком с гауссовым профилем
- •0.2.4. Нагрев материала постоянным лазерным излучением, луч сфокусирован в пятно круглого сечения
- •0.2.5. Влияние временной зависимости интенсивности лазерного излучения
- •0.2.6. Лазерный нагрев тонких слоев и пленок
- •0.2.7. Нагрев материалов в интерференционном лазерном поле
- •0.2.8. Особенности нагрева материала движущимся световым пятном.
- •0.3. Нелинейные режимы лазерного нагрева
- •0.3.0. Нагрев с учетом температурной зависимости поглощательной способности
- •0.3.1. Изменение поглощательной способности окисляющихся материалов при лазерном нагревании. Тепловая неустойчивость
- •0.3.2. Интерференционные явления в окисном слое
- •0.4. Лазерное плавление поверхности
- •0.4.0. Вакансионная модель плавления
- •Контрольные вопросы к разделу 1
- •1. Лазерное разрушение поглощающих материалов
- •1.0. Общая характеристика механизмов лазерного разрушения
- •1.0. Механическое низкотемпературное разрушение хрупких материалов
- •1.0.0. Разрушение упругими напряжениями
- •1.0.1. Разрушение остаточными напряжениями
- •1.1. Химические механизмы разрушения
- •1.2. Высокотемпературные механизмы с участием испарения
- •1.3. Поляритонный механизм формирования лазерно-индуцированного поверхностного рельефа
- •1.4. Лазерное испарение
- •1.4.0. Кинетика испарения плоской поверхности
- •1.4.0.0. Испарение в вакуум и среду с противодавлением
- •1.4.0.1. Температурная граница перехода от нагрева к испарению
- •1.4.1. Теплофизика перехода от нагрева к испарению
- •1.4.2. Одномерная задача о лазерном нагреве с испарением
- •1.4.2.0. Установление стационарного режима. Определение квазистационарных параметров
- •1.4.2.1. Зависимость температуры и скорости лазерного разрушения от плотности светового потока.
- •1.4.3. Вытеснение расплава избыточным давлением паров
- •1.5. Свойства лазерного пара и плазмы, их влияние на процесс разрушения
- •Контрольные вопросы к разделу 2
- •0. Современные представления об оптическом пробое прозрачных сред
- •0.0. Физические представления об оптическом пробое идеальных диэлектриков
- •0.0.0. Оптический пробой газов
- •0.0.1. Оптический пробой идеально чистых твердых тел
- •0.1. Тепловой механизм оптического пробоя реальных сред
- •0.1.0. Основные экспериментальные закономерности и особенности оптического пробоя и разрушения оптически неоднородных сред
- •0.1.1. Тепловая неустойчивость
- •0.1.2. Статистическая концепция оптического пробоя
- •0.1.3. Размерная зависимость порога пробоя
- •Контрольные вопросы к разделу 3
- •Глава 0. Воздействие сверхкоротких лазерных импульсов на материалы
- •0.0. Двухтемпературная модель при сверхкоротком воздействии
- •0.1. Особенности экспериментального изучения воздействия фемтосекундных лазерных импульсов на материалы
- •0.2. Особенности разлета вещества при фемтосекундном лазерном воздействии
- •0.3. Плавление при воздействии сверхкоротких лазерных импульсов
- •0.3.0. Термическое плавление с высокими скоростями
- •0.3.1. Нетермическое плавление
- •0.4. Фотофизическая абляция
- •0.5. Уплотнение электронного газа и кулоновский взрыв в поверхностном слое проводника
- •0.6. Формирование лазерно-индуцированного поверхностного рельефа при воздействии сверхкоротких лазерных импульсов
- •0.6.0. Механизм образования поверхностных периодических структур при воздействии сверхкоротких импульсов
- •0.6.1. Резонансная дифракция на плоской поверхности с периодической модуляцией оптических свойств
- •0.6.2. Формирование периодического профиля поля температур
- •0.6.3. Эволюция периодических поверхностных структур в расплавленном поверхностном слое
- •0.7. Силовое действие сверхкоротких импульсов на прозрачные диэлектрики
- •Контрольные вопросы к разделу 4
- •Список рекомендуемой литературы
- •Кафедра лазерных технологий и экологического приборостроения
- •История кафедры лт и эп делится на
- •4 Разных периода:
- •1) Лазерное формирование многофункциональных зондов (мз) для зондовой микроскопии с целью создания универсальных зондовых микроскопов.
- •3) Наноструктурирование тонких металлических и полупроводниковых слоев.
- •4) Управление микрогеометрией, наношероховатостью и физико–химичекими свойствами поверхности материалов
- •2. Лаборатория лазерной очистки и реставрации произведений культуры и искусства (пкин) организована совместно с фирмой ооо «Мобильные лазерные системы».
- •Взаимодействие лазерного излучения с веществом (силовая оптика).
0.4. Фотофизическая абляция
Приведенные выше механизмы лазерной абляции можно классифицировать как механизмы поверхностного и объемного удаления вещества, которые могут усложняться вследствие тех или иных физико-химических процессов в объеме или на поверхности твердого тела. В этой связи представляет интерес исследование механизма так называемой фотофизической лазерной абляции, обусловленной электронным возбуждением вещества.
Механизм фотофизической абляции связан с модификацией энергии активации для удаления возбужденной частицы. Хотя такого рода явления хорошо изучены при диссоциации сложных органических молекул, их реализация при абляции твердых веществ затруднительна в связи с быстрой релаксацией электронного возбуждения.
Достаточно
простая модель фотофизической абляции
следует из рассмотрения четырехуровневой
модели. Предполагается, что при поглощении
кванта с энергией
система переходит из основного состояния
в возбужденное состояние
,
из которого в дальнейшем она быстро
(соответствующее время релаксации
)
переходит в состояние
,
отвечающее "долгоживущему"
синглетному или триплетному состоянию.
Подобная схема позволяет исключить
эффекты стимулированной эмиссии, которые
не наблюдаются при абляции многих
широкозонных материалов и органических
соединений. Предполагается также, что
система в состоянии
может поглотить второй квант
(сечения поглощения переходов
(
)
и
(
)
различны). Время релаксации
(
)
считается малым по сравнению со временем
термической релаксации
.
Параметр
описывает эффекты наведенного поглощения
(или просветления). Такого рода схемы
используются, например, при анализе
процессов возбуждения – релаксации в
сложных органических веществах.
Система
уравнений, описывающих абляцию, включает
теперь три уравнения: для концентрации
возбужденных частиц
,
плотность мощности излучения
и температуры
,
а именно
(0.11)
(0.12)
(0.13)
Входящая
в уравнения (0.11) - (0.13) скорость движения
фронта абляции
определяется как
(0.14)
где
и
– энергии активации, необходимые для
удаления из вещества невозбужденной и
возбужденной частиц,
– концентрация поглощающих частиц,
индекс "
"
используется для обозначения величин
на фронте абляции (
).
Граничные условия имеют вид
(0.15)
(0.16)
(0.17)
Условие (0.16) учитывает экранировку излучения парами аблированного вещества.
Понятно,
что основной эффект фотофизической
абляции вещества возникает при условии
,
когда второе слагаемое в (0.15) существенно
превышает первое. Особенно интересен
случай высоких энергий активации, когда
3
– 6 эВ и обычная тепловая абляция требует
очень высоких температур. Эффект сильно
зависит от интенсивности лазерного
импульса и от времени термической
релаксации
.
В
случае лазерного импульса с длительностью
около 10 нc (типичное
значение для эксимерных лазеров)
фотофизическая абляция происходит,
например, когда
1
– 1,5 эВ, а
=
3 – 6 эВ. При этом, однако, требуется,
чтобы время релаксации
составляло сотни пикосекунд. Если же
время релаксации
составляет десятки пикосекунд, то
фотофизически удаляется лишь тонкий
поверхностный слой в начале импульса,
тогда как последующая абляция становиться
чисто тепловой. В случае же короткого
лазерного импульса эффект фотофизической
абляции хорошо выражен даже при
относительно низкой энергии активации
(
1,5
эВ), если при этом все же выполняется
условие
(рис. 0.18). Фотофизический механизм,
возможно, наблюдается при лазерной
абляции пористого кремния. Скорость
абляции пористого кремния излучением
с длиной волны 1064 нм была незначительной
при использовании импульса с плотностью
энергии 400 мДж/см2. В то же время
добавление синхронизованного импульса
с длиной волны 532 нм и плотностью энергии
всего 10 мДж/см2 приводило к резкому
увеличению фотовозбуждения пористого
кремния и к ускорению абляции.
Дополнительные возможности для уменьшения энергии активации (в том числе возбужденных состояний) связаны с напряжениями, развивающимися при лазерном воздействие в твердом теле. Не исключены также объемные процессы, обусловленные фотохимическими реакциями. Анализ нетепловых моделей абляции затруднителен в связи с отсутствием детальных экспериментальных сведений о динамике процесса. В то же время интегральные кривые можно одинаково хорошо объяснить, исходя из разных моделей.
Рис. 0.18. Толщина слоя h удаленного за импульс материала для тепловой и фотофизической моделей (параметры материала имеют значения, типичные для полиамида)