
- •Часть II
- •Содержание
- •0. Лазерный нагрев материалов 7
- •1. Лазерное разрушение поглощающих материалов 92
- •0. Современные представления об оптическом пробое прозрачных сред 136
- •Глава 0. Воздействие сверхкоротких лазерных импульсов на материалы 150
- •Введение
- •0. Лазерный нагрев материалов
- •0.1. Общая характеристика нагревания лазерным излучением
- •0.0.0. Тепловые эффекты в конденсированных средах
- •0.0.1. Основные особенности температурной кинетики при лазерном воздействии на металлы
- •0.0.2. Теплопроводностные механизмы отвода тепла. Уравнение теплопроводности, начальное и граничные условия
- •0.1. Термические эффекты, сопровождающие лазерный нагрев
- •0.1.0. Термомеханические эффекты
- •0.1.1. Фазовые переходы в твердом состоянии (лазерное упрочнение)
- •0.1.2. Эмиссионные процессы
- •0.1.3. Основные особенности лазерной активации процессов аррениусовского типа. Лазерное окисление
- •0.1.4. Диффузионно-химические явления
- •0.1.5. Экзотермические эффекты при импульсном лазерном воздействии на металлы
- •0.2. Линейные режимы лазерного нагрева
- •0.2.0. Понятие температуры электронной и решеточной подсистем
- •0.2.1. Нагрев полупространства экспоненциально спадающим с глубиной тепловым источником
- •0.2.2. Нагрев металла импульсным излучением постоянной мощности
- •0.2.3. Нагрев материала лазерным пучком с гауссовым профилем
- •0.2.4. Нагрев материала постоянным лазерным излучением, луч сфокусирован в пятно круглого сечения
- •0.2.5. Влияние временной зависимости интенсивности лазерного излучения
- •0.2.6. Лазерный нагрев тонких слоев и пленок
- •0.2.7. Нагрев материалов в интерференционном лазерном поле
- •0.2.8. Особенности нагрева материала движущимся световым пятном.
- •0.3. Нелинейные режимы лазерного нагрева
- •0.3.0. Нагрев с учетом температурной зависимости поглощательной способности
- •0.3.1. Изменение поглощательной способности окисляющихся материалов при лазерном нагревании. Тепловая неустойчивость
- •0.3.2. Интерференционные явления в окисном слое
- •0.4. Лазерное плавление поверхности
- •0.4.0. Вакансионная модель плавления
- •Контрольные вопросы к разделу 1
- •1. Лазерное разрушение поглощающих материалов
- •1.0. Общая характеристика механизмов лазерного разрушения
- •1.0. Механическое низкотемпературное разрушение хрупких материалов
- •1.0.0. Разрушение упругими напряжениями
- •1.0.1. Разрушение остаточными напряжениями
- •1.1. Химические механизмы разрушения
- •1.2. Высокотемпературные механизмы с участием испарения
- •1.3. Поляритонный механизм формирования лазерно-индуцированного поверхностного рельефа
- •1.4. Лазерное испарение
- •1.4.0. Кинетика испарения плоской поверхности
- •1.4.0.0. Испарение в вакуум и среду с противодавлением
- •1.4.0.1. Температурная граница перехода от нагрева к испарению
- •1.4.1. Теплофизика перехода от нагрева к испарению
- •1.4.2. Одномерная задача о лазерном нагреве с испарением
- •1.4.2.0. Установление стационарного режима. Определение квазистационарных параметров
- •1.4.2.1. Зависимость температуры и скорости лазерного разрушения от плотности светового потока.
- •1.4.3. Вытеснение расплава избыточным давлением паров
- •1.5. Свойства лазерного пара и плазмы, их влияние на процесс разрушения
- •Контрольные вопросы к разделу 2
- •0. Современные представления об оптическом пробое прозрачных сред
- •0.0. Физические представления об оптическом пробое идеальных диэлектриков
- •0.0.0. Оптический пробой газов
- •0.0.1. Оптический пробой идеально чистых твердых тел
- •0.1. Тепловой механизм оптического пробоя реальных сред
- •0.1.0. Основные экспериментальные закономерности и особенности оптического пробоя и разрушения оптически неоднородных сред
- •0.1.1. Тепловая неустойчивость
- •0.1.2. Статистическая концепция оптического пробоя
- •0.1.3. Размерная зависимость порога пробоя
- •Контрольные вопросы к разделу 3
- •Глава 0. Воздействие сверхкоротких лазерных импульсов на материалы
- •0.0. Двухтемпературная модель при сверхкоротком воздействии
- •0.1. Особенности экспериментального изучения воздействия фемтосекундных лазерных импульсов на материалы
- •0.2. Особенности разлета вещества при фемтосекундном лазерном воздействии
- •0.3. Плавление при воздействии сверхкоротких лазерных импульсов
- •0.3.0. Термическое плавление с высокими скоростями
- •0.3.1. Нетермическое плавление
- •0.4. Фотофизическая абляция
- •0.5. Уплотнение электронного газа и кулоновский взрыв в поверхностном слое проводника
- •0.6. Формирование лазерно-индуцированного поверхностного рельефа при воздействии сверхкоротких лазерных импульсов
- •0.6.0. Механизм образования поверхностных периодических структур при воздействии сверхкоротких импульсов
- •0.6.1. Резонансная дифракция на плоской поверхности с периодической модуляцией оптических свойств
- •0.6.2. Формирование периодического профиля поля температур
- •0.6.3. Эволюция периодических поверхностных структур в расплавленном поверхностном слое
- •0.7. Силовое действие сверхкоротких импульсов на прозрачные диэлектрики
- •Контрольные вопросы к разделу 4
- •Список рекомендуемой литературы
- •Кафедра лазерных технологий и экологического приборостроения
- •История кафедры лт и эп делится на
- •4 Разных периода:
- •1) Лазерное формирование многофункциональных зондов (мз) для зондовой микроскопии с целью создания универсальных зондовых микроскопов.
- •3) Наноструктурирование тонких металлических и полупроводниковых слоев.
- •4) Управление микрогеометрией, наношероховатостью и физико–химичекими свойствами поверхности материалов
- •2. Лаборатория лазерной очистки и реставрации произведений культуры и искусства (пкин) организована совместно с фирмой ооо «Мобильные лазерные системы».
- •Взаимодействие лазерного излучения с веществом (силовая оптика).
0.3.2. Интерференционные явления в окисном слое
Специфический
режим допорогового разогрева металла
может реализоваться при образовании
прозрачных окисных пленок (
;
),
когда поглощательная способность
системы металл–окисел периодически
изменяется вследствие интерференционных
эффектов в окисном слое. Поскольку в
процессе роста интерференционных
окисных пленок положительная обратная
связь между толщиной окисла и поглощательной
способностью периодически меняется на
отрицательную, должен осциллировать и
темп нагрева металла лазерным излучением.
Если на участке спада функции
теплопотери в зоне облучения превысят
поглощенный световой поток, то
осциллировать будет и температура
окисляющейся поверхности (рис. 0.27–а,
в). Теоретический анализ этой ситуации,
выполненный по аналогии с термохимической
неустойчивостью, в предположении
квазистационарности теплового баланса
в зоне реакции:
,
показывает, что интервал времени между
двумя соседними (
–м
и (
)–м)
температурными максимумами определяется
соотношением:
и,
так же как и величина
,
резко зависит от плотности потока (через
стационарную температуру
)
и энергии активации реакции. Следует
заметить, что осцилляции температуры
будут периодическими только при линейном
законе окисления (
).
При
с каждой последующей осцилляцией
возрастает, так как с ростом толщины
окисла уменьшается скорость окисления
поверхности. Объяснить возникновение
температурных осцилляций при лазерном
нагреве возможно с привлечением
представлений о термохимических эффектах
и учетом их определяющего влияния на
оптические свойства металла.
Рис. 0.27. Зависимости поглощательной способности (а, б) и температуры (в, г) окисляющегося металла от времени нагрева непрерывным излучением при различных плотностях светового потока (кривые 1–3): а, в — для прозрачного окисла; б, г — с учетом температурной зависимости оптических постоянных для первоначально прозрачного окисла; — начальная температура; — стационарная температура при исходном поглощении ; — температура разрушения; — поглощательная способность массивного окисла. При переходе от кривых 1 к кривым 3 плотность падающего светового потока возрастает.
Ряд
особенностей в кинетику нагрева и
поведение поглощательной способности
системы металл–окисел вносят температурные
изменения оптических постоянных окисла,
связанные с ростом концентрации и
плазменной частоты равновесных свободных
носителей, вплоть до значений, свойственных
области аномальной дисперсии вблизи
точки плазменного резонанса. На рис. 0.27
б пунктиром показан ход такой зависимости
во времени в процессе нагрева металла
излучением постоянной плотности (рис.
0.27, г). Сначала на поверхности образуется
прозрачный окисел, и первая осцилляция
поглощательной способности и температуры
обусловлена интерференционными явлениями
в нем. При последующем разогреве из-за
резкого роста концентрации носителей
окисный слой быстро теряет прозрачность
и вторая осцилляция поглощательной
способности имеет совершенно иную
природу - она связана с термически
активированными явлениями аномальной
дисперсии в оптически толстом окисле.
Это необходимо учитывать при интерпретации
экспериментальных зависимостей
и определении с их помощью оптических
и термохимических констант окисла.
Наряду с периодическими замедляющимися пульсациями поглощательной способности и температуры теория предсказывает учащение осцилляций поглощательной способности, если температура поверхности монотонно возрастает (например, вследствие малости теплоотвода) при этом скорость окисления, определяемая активационной экспонентой, непрерывно увеличивается. Один из таких режимов нагрева термически тонкой металлической пластины, рассчитанный с учетом электронного поглощения, интерференционных явлений в растущем окисле, а также радиационного теплообмена, иллюстрируется рис. 0.28. Вместе с тем, высокотемпературное окисление на воздухе становится неактивированным процессом, так как лимитируется газофазной диффузией кислорода, его скорость перестает зависеть от температуры. Это радикально влияет на кинетику высокотемпературного нагрева металла, причем существенно упрощается соответствующее теоретическое рассмотрение, так как химическая, оптическая и теплофизическая части задачи могут быть решены раздельно в указанной последовательности.
Рис.
0.28. Изменение поглощательной способности
(
)
и температуры (
)
титановой пластины толщиной 50 мкм при
нагреве на воздухе излучением СО2–лазера
при плотности падающего потока 0.5
кВт/см2.
Численный расчет выполнен с учетом
электронного поглощения в окисле (
см–3,
К,
)
и радиационных потерь.