Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Л2 Клас. и основные этапы.doc
Скачиваний:
23
Добавлен:
14.09.2019
Размер:
347.65 Кб
Скачать

Вопросы и задания для самопроверки

  1. Объясните суть группового метода.

  2. Что такое планарная технология?

  3. Какие процессы лежат в основе планарной технологии?

  4. Что такое структура микросхемы?

  5. В чем состоит суть интегральной технологии?

  6. Что такое топология микросхемы?

  7. Назовите основные принципы планарной интегральной технологии.

  8. В чем состоит принцип совместимости?

  9. В чем состоит принцип локальности?

  10. Какой материал применяют в основном для микросхем и почему?

  11. Охарактеризуйте возможность использования арсенида галлия для производства микросхем.

  12. На какие группы можно разделить процессы изготовления полупроводниковых микросхем?

  13. Приведите упрощенную схему технологического процесса изготовления полупроводниковой микросхемы.

  14. Какими методами изготовляют монокристаллический кремний?

  15. От чего зависит кристаллографическая ориентация, тип проводимости, удельное сопротивление слитка?

  16. Назовите последовательность операций изготовления пластин кремния.

  17. Для чего пластины кремния шлифуют и полируют?

  18. В чем заключается суть способов очистки: физического, химического?

  19. Из каких операций состоит процесс изготовления структур?

  20. Каким технологическим испытанием подвергают микросхемы?