
- •Кафедра Химии и химической технологии
- •1.2. Исторические вехи в развитии радиохимии.
- •1.3. Особенности радиохимии
- •1.4. Значение радиохимии
- •Осаждения (2) для амфотерного гидрокскда металла
- •3. Методы изучения состояния радиоактивных изотопов.
- •3.1. Метод адсорбции
- •3.1.1. Изучение адсорбции как функции рН
- •3.1.2. Изучение адсорбции как функции концентрации посторонних электролитов
- •3.1.3. Метод диализа ( и.Е. Старик. Основы радиохимии)
- •3.1.4. Метод ультрафильтрации ( и.Е. Старик. Основы радиохимии)
- •4. Физико-химические особенности межфазного распределения радионуклидов.
- •4.1. Распределение вещества между твердой кристаллической и жидкой фазами
- •4.1.1. Значение процессов распределения для радиохимии
- •4.1.2. Поведение вещества в состоянии крайнего разведения и процессы соосаждения
- •4.1.3. Процессы изоморфной и изодиморфной сокристаллизации
- •4.1.4. Гомогенное распределение микрокомпонента между твердой и жидкой фазами
- •4.1.5. Гетерогенное (неравновесное) распределение микрокомпонента между твердой и жидкой фазами
- •5. Адсорбция радиоактивных элементов.
- •5.1 Введение
- •5.2. Адсорбция радионуклидов на полярных кристаллах.
- •5.3. Первичная обменная адсорбция
- •5.4. Первичная потенциалобразующая адсорбция
- •5.5. Вторичная обменная адсорбция
- •5.6. Методы разграничения отдельных видов адсорбции
- •5.6. Адсорбция на гидроксидах и других материалах
- •6. Статика сорбции
- •Химические изменения, индуцируемые реакцией (n, γ) Реакции Сцилларда-Чалмерса
- •7. Основы радиационной химии
- •Глава 3. Общая схема радиационно-химических процессов
- •3. 1. Возбужденные частицы
- •3. 2. Электроны и ионы
- •3. 3. Свободные радикалы
- •Глава 4.
- •4. 1. Радиолиз двуокиси углерода
- •4. 2. Радиолиз двуокиси азота
- •Глава 5.
- •Глава 7
- •7. 1. Ядерный топливный цикл
- •7. 2. Действие излучения на теплоносители и замедлители ядерных энергетических установок
- •7.3. Радиационно-химические аспекты обращения с отработавшим топливом аэс
- •7. 4. Радиолиз экстракционных систем
- •7.5. Радиационно-химические процессы при хранении жидких радиоактивных отходов высокого уровня
5.4. Первичная потенциалобразующая адсорбция
Величина первичной потенциалобразующей адсорбции определяется зарядом поверхности, который, в свою очередь, зависит от разности потенциалов на границе кристалл — раствор и емкости двойного электрического слоя.
При этом необходимо иметь в виду, что скачок потенциала на границе «кристалл — раствор» определяется не только избытком одного из собственных ионов на поверхности кристалла, но и адсорбцией диполей слабых электролитов:
φi
= (φ0
- φd)
±
ln
m,
где m- молярная концентрация потенциалобразующего иона.
Заряд, аккумулированный на поверхности кристаллов вследствие избытка одного из ионов:
q=Cφi = C(φ0 - φd) ±C ln m,
Вместе с тем этот заряд должен быть равен:
q= N0 nF
где N0 , — количество адсорбированного радиоактивного элемента, моль; п. — валентность иона; F — число Фарадея.
Отсюда легко вычислить число потенциалопределяющих ионов N0 (сверх стехиометрического соотношения) на поверхности всего кристаллического осадка:
N0
=
=
ln
m
Если общая поверхность кристаллического осадка равна S, а емкость единицы поверхности двойного слоя С0, то С = С0S. Тогда последнее соотношение может быть переписано в следующем виде:
N0
=
ln
m
Это уравнение неоднократно подвергалось экспериментальной проверке на примере изучения адсорбции ионов иода на диализированных золях иодида серебра. При этом оказа лось, что lnN0 в довольно широких пределах концентрации ионов иода (10-3— 10 - 6 М) линейно зависит от ln т.
В заключение отметим, что первичная потенциалобразующая и обменная адсорбция — это адсорбция во внутренней обкладке двойного слоя, т. е. в поверхностном слое кристалла. Одной из особенностей такой адсорбции является то, что она сопровождается потерей адсорбирующимися ионами их гидратных оболочек.
5.5. Вторичная обменная адсорбция
Случай вторичной обменной адсорбции является наиболее общим. Этому виду адсорбции подвержены в той или иной мере все ионы, находящиеся в растворе.
Представим себе частицы ионного кристалла, находящегося в растворе, который наряду с ионами радиоактивного элемента содержит отрицательно заряженные собственные ионы кристалла и положительно заряженные ионы других элементов.
По причинам, указанным выше, частицы ионного кристалла окажутся заряженными отрицательно, причем вблизи поверхности каждой из них возникнет положительно заряженный слой компенсирующих ионов. При этом все присутствующие в растворе ионы будут стремиться занять место во внешней обкладке двойного слоя, иначе говоря, будут в какой-то мере подвержены вторичной адсорбции.
Другими словами, вторичная обменная адсорбция – это перенос ионов радионуклида из объема раствора во внешнюю обкладку ДЭС.
Величина адсорбции радиоактивного элемента во внешней обкладке двойного слоя будет зависеть:
от общего числа вторично адсорбированных ионов (адсорбционной емкости), определяемого зарядом поверхности частиц, т. е. от первичной потенциалобразующей адсорбции;
от доли адсорбционной емкости, приходящейся на радиоактивный элемент.
В результате взаимодействия между ионами, находящимися во внешней обкладке двойного слоя и в растворе, будет достигнуто состояние равновесия, после чего соотношение между числами ионов различных элементов во внешней обкладке и в растворе будет оставаться неизменным.
Вторичная адсорбция не обладает избирательностью. В этом процессе могут принимать участие все ионы определенного знака.
Уравнение вторичной адсорбции имеет вид:
=abZ, где - коэффициент адсорбции
Заметим, что коэффициент адсорбции отличается по своей величине от степени адсорбции (по сути Х равен S), a и b – стехиометрические коэффициенты. Характеризующие свойства ДЭС; Z- заряд радионуклида.
Из уравнения видно, что коэффициент адсорбции экспоненциально зависит от заряда сорбируемого иона. Существует и другое уравнение (рассмотрим позже)
Старик показал, что адсорбция ионов радия, актиния и тория на кристаллах йодида серебра при прочих равных условиях составила соответственно 7, 75 и 100%.