- •1.Назначение, классификация и методы эфхмо.
- •2. Подготовка поверхности перед нанесением покрытий
- •3. Обезжиривание (уз, эх и хим.)
- •6.Общие сведения о травлении.
- •7. Химическое травление чёрных Ме.
- •8. Электрохимическое травление чёрных Ме.
- •9. Травление Cu и её сплавов.
- •10. Травление al и его сплавов.
- •11. Активирование (декопирование).
- •12. Пассивирование.
- •14. Условия полирования Ме.
- •15. Элекролитическое меднение.
- •16. Характеристика существующих электролитов меднения.
- •17. Основные применяемые электролиты меднения.
- •18. Электролитическое никилирование.
- •19. Сернокислые электролиты никилирования.
- •20. Электролиты блестящего никелирования.
- •22. Цианидные электролиты.
- •23. Нецианистые электролиты.
- •23А. Дополнительная обработка поверхности Ag и Ag-покрытий.
- •24. Улавливание Ag из отработанных эл-тов и снятие браков. Покрыт.
- •25. Электролитическое золочение.
- •26. Тонирование сплавов на основе золота. Открашивание.
- •27. Цианидные и щелочные электролиты.
- •28. Цианидные нейтральные электролиты.
- •29. Безцианидные электролиты золочения.
- •30. Электролиты блестящего золочения.
- •31. Получение цветных декоративных эффектов
- •32. Улавливание золота из отработанных электролитов.
- •33. Снятие бракованных Au покрытий с изделий.
- •34. Электолитическое родирование.
- •35. Сульфатные электролиты родирования.
- •36. Фосфатные электролиты родирования.
- •37. Основные преимущества импульсного электролиза
- •38. Роль импульсов и пауз в электродных процессах осаждения Ме.
- •40. Гальванопластика.
- •41. Изготовление моделей.
- •42. Очистка и обезжиривание поверхности модели.
- •43. Нанесение проводящих и разделительных слоёв.
- •44. Наращивание Ме и изготовление изделий.
- •45. Химическое осаждение Ме покрытий.
- •51. Окидные покрытия лёгких Ме.
- •52. Защитно-декоративные покрытия.
- •53. Сернокислые электролиты.
- •54. Эматалирование.
- •55. Окрашивание оксидных покрытий.
- •58. Химическое осаждение Al и его сплавов.
- •59. Оксидные покрытия стали.
- •60. Оксидные покрытия Cu и её сплавов.
- •61. Оксидные покрытия Cr и t.
- •62. Оксидные покрытия Ag.
- •63. Пассирование электролит. Покрытий и Ме.
- •64. Фосфатные покрытия чёрных Ме.
- •65. Фосфатные покрытия цветных Ме.
36. Фосфатные электролиты родирования.
Они позволяют получать тонкие и блестящие покрытия. Коэффициент отражения покрытий полученных из них выше чем у сульфатнх. Для получения покрытий с хорошей степенью отражения применяют след. электролит в г/л., при след режиме:
Rh – 2г/л, в пересчёте на Ме;
H3PO4 -50г/л;
pH электролита 1,1-1,3;
t гр.C - 18-20^
ik - 0,15 А/дм2.
При повыш. t ik может быть увеличена. Трещины начинают появлятьс при толщине 1-2мкм, а при дальнейшем увеличении толщины наблюд. отслаивание покрытия. Фосфатный электролит так же чувствителен к примесям и при их накоплении его подвергают регенерации. Для этого к р-ру добавляют муравьинокислый Na и р-р нагревают до кипения. Выпавший чёрный осадок отфильтровывают и обрабат. HNO3. При этом из осадка уходят примеси различных Ме. Оставшийся осадок восстанавливают в среде H2 при t 700-800гр.C. После этого Rh смешивают с хлористым K, в отношении 1:5 и нагревают в трубчатой печи в токе влажного Cl. Корректиров. электролита производят добавлением гидроокиси Rh к смеси с H3PO4, в кач-ве нерастворимых анодов во всех электролитах родирования использ. Pt и платинированный Ti.
37. Основные преимущества импульсного электролиза
ПРИ ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИИ Ме.
В настоящее время несомненным являются следующие основные преимущества импульсного электролиза при электроосаждении Ме из сплавов, из растворов электролита:
расширение спектра и улучшение эксплуатационных св-в гальванопокрытий – обеспечивается при изменении режима питания ванн;
возможность управлять порядком и составом нанесения компонентов покрытий, т.е формирование функциональных покрытий и получение гальванических осадков с различными св-вами из электролита одного состава;
независимо от осаждаемого Ме и кинетики его выделения – ограничения по качеству осадков при импульсном электролизе проявляются при более высокой рабочей плотности тока, по сравнению со стационарным электролизом.
Это связано с положительным влиянием таких факторов, как улучшение условий кристаллизации, депассивации растворим. анодов, измен. характера массопереноса… В итоге повышается скорость нанесения покрытия и производительность электролизных установок.
С позиций расхода осаждаемого Ме импульсный электролиз более экономичен, чем стационарный. Причина заключается в том, что в импульсных режимах:
- возможно понижение нормативной S покрытий, вследствие улучшения их свойств;
- отсутствует рост дентридов;
- повышается равномерность осадка в отверстиях;
- возможно осаждение из электролитов с более низким содержанием Ме;
- структура и св-ва покрытий стабилизируются при толщинах меньших, чем у покрытий, осаждаемых на постоянном токе.
В общем случае эффективность влияния импульсного тока определяется его параметрами. Она ослабевает при переходе от комплексных электролитов к простым, при повышении t р-ра,
(поляризация в этом случае падает), при понижении амплитуды импульсов и частоты поляризации тока.