
- •Поликристаллический метод (метод порошка)
- •Принцип поликристаллического метода
- •Способы регистрации дифракционной картины от поликристалла. Фотографический способ регистрации дифракционной картины
- •Геометрия съемки в цилиндрической камере
- •Зависимость числа и расположения дебаевских линий от различных факторов
- •О выборе излучения при получении дебаеграмм
- •Распознавание к- и к- линий. Монохроматизация излучения
- •Метод плоского образца
- •Дифрактометрический способ регистрации дифракционной картины
- •Индицирование рентгенограмм и дифрактограмм
- •Прецизионное определение периодов кристаллической решетки
- •Способы определения положения дифракционного профиля при дифрактометрической регистрации
- •Заключение к поликристаллическому методу
Зависимость числа и расположения дебаевских линий от различных факторов
При обсуждении указанной зависимости будем рассматривать только “разрешенные” структурным фактором отражения (с учетом закона погасания).
Зависимость от длины волны . Из уравнения Вульфа-Брегга
получаем
условие, формирующее число дебаевских
линий для данного вещества при съемке
в выбранном излучении:
.
Так как
,
то
и, следовательно,
.
Таким образом, на
рентгенограмме получаются отражения
от тех плоскостей, межплоскостные
расстояния которых больше, чем
,
где – длина волны
используемого монохроматического
излучения. Отсюда следует, что чем меньше
, тем больше
дебаевских линий получается на
рентгенограмме. Это условие пригодно
для анализа рентгенограмм и
монокристаллических, и поликристаллических
образцов.
В качестве примера можно проанализировать, как изменяется число дебаевских линий на рентгенограмме -Fe (период решетки a=2,86Ǻ, структурный тип – оцк) в разных излучениях (табл. 1).
Таблица 1. Ожидаемое число дебаевских линий для -Fе в разных излучениях
hkl |
d, Ǻ |
K Cr =2,28, Ǻ z = 24 |
K Fe =1,94, Ǻ z =26 |
K Co =1,79, Ǻ z =27 |
K Cu =1,54, Ǻ Z =29 |
110 |
2,02 |
+ |
+ |
+ |
+ |
200 |
1,43 |
+ |
+ |
+ |
+ |
211 |
1,17 |
+ |
+ |
+ |
+ |
220 |
1,01 |
– |
+ |
+ |
+ |
310 |
0,907 |
– |
– |
+ |
+ |
222 |
0,825 |
– |
– |
– |
+ |
Зависимость
от периодов решетки a,b, c (при
одинаковом структурном типе). Эту
зависимость можно рассмотреть на примере
дебаеграмм Ni (a = 3,52Ǻ;
гцк, структурный тип А1) и Al (a
=4,05Ǻ; гцк, структурный тип А1) в излучении
железного анода (
=1,94
Ǻ). На рис. 8 схематически показано
расположение дебаевских линий Ni и
Al.
Рис. 8. Схематическое расположение линий на рентгенограммах Ni и Al
При данном условие d раньше выполняется для Ni, то есть число дебаевских линий на рентгенограмме Ni меньше, чем на рентгенограмме Al.
Таким образом, чем больше период решетки а (при одинаковом структурном типе), тем на меньших углах расположены линии и тем для бόльших h,k,l выполняется условие и, следовательно, на рентгенограмме получается бόльшее число линий.
Зависимость числа линий от кристаллической сингонии. Рассмотрим это на примере кубической и тетрагональной систем для кристаллографической формы {200}.
Рис. 9. Схематичное представление взаимного расположения отражений {200} на рентгенограммах поликристаллов кубической (а) и тетрагональной системы (б)
Квадратичная форма
для кубической системы:
.
Из этой формулы
видно, что при любых перестановках
индексов плоскостей типа (200) получаем
одно и то же значение межплоскостного
расстояния
,
и, следовательно, угла .
Это означает, что на рентгенограмме
получается одна дебаевская линия,
соответствующая отражению с индексами
(200) (рис. 9, а).
Квадратичная форма
для тетрагональной системы (a
c, ca):
.
Из
этой формулы видно, что плоскостям
(200), (020), (
00),
(
00)
отвечают
и угол 1,
а плоскостям (002) и (00
)
отвечают
и угол 2.
Так как
,
то 2 <
1. Таким
образом, на рентгенограмме получают
две дебаевские линии с индексами (002) и
(200), при этом отражение (200) в два раза
интенсивнее, чем (002) (рис. 9, б).
Из сопоставления этих двух случаев можно сделать вывод, что чем менее симметричной сингонией описывается данное вещество, тем больше линий получается на рентгенограмме.