Список рекомендуемой литературы

Вольпяс В.А., Гольман Е.К., Зайцев А.Г., Козырев А.Б. Расчет режимов процесса катодного распыления: Методические указания к курсовому проекту по дисциплине “Процессы электронно-ионной технологии“ // Изд-во, Л., 1990, - 14 с.

Вольпяс В.А., Гольман Е.К., Зайцев А.Г., Розин С.Е. Моделирование процесса переноса частиц при ионно-плазменном распылении: Методические указания к курсовой работе по дисциплине “Математическое моделирование физико-химических процессов“ // Изд-во ЛЭТИ, С.-Пб., 1991, - 28 с.

Готра З.Ю. Технология микроэлектронных устройств. М.:Радио и связь, 1991.

Вольпяс В.А., Зайцев А.Г., Козырев А.Б., Кукушкин С.А., Осипов А.В. Процессы получения тонких пленок методами ионно-плазменной технологии: Текст лекций // Изд-во ЭТИ, СПб., 1992, - 36 с.

Форрестер А.Т. Интенсивные ионные пучки. М.:Мир, 1992.

Вольпяс В.А., Козырев А.Б. Физика слабоионизованной плазмы (монография) // Санкт-Петербург, ТОО “Складень“, 1997, -130с. (Volpyas V.A., Kozyrev A.B., Physics of weakly-ionized plasma (monograph) // St-Petersburg, “Skladen“ publishing, 1997, -130 p).