
- •1.Энергитический спектр электронов твердых телах и каков его характер
- •2.Энергитические диаграммы твердых тел
- •3.Энергитическая диаграмма собственного полупроводника Уровень Ферми. Концентрация носителей заряда и удельная проводимость.
- •4.Энергитическая диаграмма примесного полупроводника Уровень Ферми. Концентрация носителей заряда и удельная проводимость.
- •5.Температурная зависимость удельной проводимости примесного полупроводника.
- •7.Дрейфовый и диффузионный токи в полупроводниках.
- •9.Образование р-п-перехода. Контактная разность потенциалов.
- •10. Прямое включение р-п-перехода.
- •11.Обратное включение p-n-перехода
- •12. Вах p-n-перехода
- •13. Пробои p-n-перехода. Виды пробоев.
- •14. Емкости p-n-перехода.
- •15. Выпрямительные диоды и их параметры.
- •16. Полупроводниковые стабилитроны и их параметры
- •17. Варикапы и их параметры
- •18. Туннельные и обращенные диоды и их параметры
- •19.Устройство и принцип действия Биполярного транзистора
- •20. Схемы включения Биполярного транзистора
- •21. Статистические характеристики транзистора в схеме с общей базой
- •22. Статистические характеристики транзистора в схеме с общим эмиттером
- •23. Принцип работы транзисторного усилителя
- •24. Полевые транзисторы с управляющим р-п-переходом. Статические характеристики.
- •25. Мдп-транзисторы с индуцированным каналом. Статические характеристики.
- •26. Полевые транзисторы со встроенным каналом. Статические характеристики.
- •27. Диодный тиристор. Структура и принцип работы
- •28. Триодный тиристор. Структура и принцип работы.
- •29. Топология и структура многоэмиторного и многоколлекторного транзистора
- •30. Полупроводниковые резисторы: Варисторы и терморезисторы. Типы и основные характеристики.
- •31. Фотодиоды и светодиоды. Структуры и схемы подключений
- •32. Интегральные микросхемы. Классификация признаки и деление имс на классы.
10. Прямое включение р-п-перехода.
При подключении положительного полюса источника внешнего напряжения к p-области высота потенциального барьера уменьшается, а диффузионный ток основных носителей заряда резко возрастает. Такое включение р-n-перехода называют прямым
В
результате снижения потенциального
барьера большее количество основных
носителей зарядов получает возможность
диффузионно переходить в соседнюю
область, что сопровождается ростом
тока диффузии. Ток дрейфа при этом не
изменится, поскольку он зависит от
количества неосновных носителей,
появляющихся на границах p-n перехода.
Это количество зависит только от
концентрации примесей в полупроводнике
и температуры.
11.Обратное включение p-n-перехода
Если изменить полярность внешнего напряжения, высота потенциального барьера в р-n-переходе падает. Уже при U ? -0,5В диффузионный ток прекращается и при дальнейшем повышении внешнего напряжения через р-n-переход будет проходить только дрейфовый ток неосновных носителей, который называют обратным. Так как число неосновных носителей значительно меньше, чем основных, величина тока через переход в этом случае будет небольшой по сравнению с током при прямом включении и практически постоянной при изменении внешнего напряжения в широких пределах. Указанное включение р-n-перехода называют обратным. При обратном подключении может случится пробой р-n-перехода.
12. Вах p-n-перехода
Рассмотрим, например, дырочный ток через обеднённый слой. Он включает следующие две компоненты:
Ток генерации, то есть дырочный ток, текущий из n-области в p-область перехода. Как видно из названия, этот ток обусловлен дырками, генерируемыми непосредственно в n-области обеднённого слоя при тепловом возбуждении электронов с уровней валентной зоны. Хотя концентрация таких дырок (неосновных носителей) в n-области чрезвычайно мала по сравнению с концентрацией электронов (основных носителей), они играют важную роль в переносе тока через переход. Это происходит потому, что каждая дырка, попадающая в обеднённый слой, тут же перебрасывается в p-область под действием сильного электрического поля, которое имеется внутри слоя. В результате величина возникающего тока генерации не зависит от значения изменения потенциала в обеднённом слое, поскольку любая дырка, оказавшаяся в слое, перебрасывается из n-области в p-область.
Ток рекомбинации, то есть дырочный ток, текущий из p-области в n-область. Электрическое поле в обеднённом слое препятствует этому току, и только те дырки, которые попадают на границу обеднённого слоя, имея достаточную кинетическую энергию, чтобы преодолеть потенциальный барьер, вносят вклад в ток рекомбинации.
13. Пробои p-n-перехода. Виды пробоев.
Пробой диода — это явление резкого увеличения обратного тока через диод при достижении обратным напряжением некоторого критического для данного диода значения. В зависимости от физических явлений, приводящих к пробою, различают лавинный, туннельный, поверхностный и тепловой пробои.
Лавинный пробой (ударная ионизация) - Пробой связан с образованием лавины носителей заряда под действием сильного электрического поля, при котором носители приобретают энергии, достаточные для образования новых электронно-дырочных пар в результате ударной ионизации атомов полупроводника.
Туннельным пробоем электронно-дырочного перехода называют электрический пробой перехода, вызванный квантовомеханическим туннелированием носителей заряда сквозь запрещённую зону полупроводника без изменения их энергии.
Поверхностный пробой (ток утечки). Реальные p-n-переходы имеют участки, выходящие на поверхность полупроводника. Вследствие возможного загрязнения и наличия поверхостных зарядов между p- и n- областями могут образовываться проводящие плёнки и проводящие каналы, по которым идёт ток утечки.
Тепловой пробой - При подаче обратного напряжения практически всё оно падает на p — n-переходе, через который идёт, хотя и небольшой, обратный ток. Выделяющаяся мощность вызывает разогрев p — n-перехода и прилегающих к нему областей полупроводника. При недостаточном теплоотводе эта мощность вызывает дальнейшее увеличение тока, что приводит к пробою. Тепловой пробой, в отличие от предыдущих, необратим.