
- •Омск 2011
- •Лабораторная работа 1 полупроводниковые выпрямительные диоды
- •1.1. Краткие теоретические сведения
- •Полупроводникового диода
- •Для самостоятельной теоретической подготовки рекомендуется использовать литературные источники [1 – 5].
- •1.2. Порядок выполнения работы
- •Характеристика диодов
- •1.3. Контрольные вопросы
- •2.1. Краткие теоретические сведения
- •Характеристик транзистора в схеме с об
- •Характеристик транзистора в схеме с оэ
- •2.2. Порядок выполнения работы
- •Основные параметры биполярного транзистора p-n-p-типа кт816в (г)
- •2.3. Контрольные вопросы
- •3.1. Краткие теоретические сведения
- •3.2. Порядок выполнения работы
- •Основные параметры тиристоров ку201а и ку202а
- •Риc. 14. Тиристор ку201а (ку202а)
- •3.3. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 4 электронно-лучевой осциллограф
- •4.1. Краткие теоретические сведения
- •I канала
- •II канала
- •Обозначение органов управления на лицевой панели осциллографа
- •4.2. Порядок выполнения работы
- •4.3. Контрольные вопросы
- •5.1. Краткие теоретические сведения
- •5.2. Порядок выполнения работы
- •Параметры тиристоров ку102а
- •5.3. Контрольные вопросы
- •6.1. Краткие теоретические сведения
- •Igbt-транзистора, включенного по схеме с общим эмиттером
- •6.2. Порядок выполнения работы
- •Основные параметры igbt-транзистора типа irg4bc20u
- •Igbt-транзистора в ключевом режиме
- •6.3. Контрольные вопросы
- •7.1. Краткие теоретические сведения
- •Техническая характеристика уииотсв
- •7.2. Порядок выполнения работы
- •7.3. Контрольные вопросы
- •644046, Г. Омск, пр. Маркса, 35
Лабораторная работа 1 полупроводниковые выпрямительные диоды
Цель работы: ознакомиться с устройством, принципом действия и конст-руктивным исполнением полупроводникового диода; изучить его свойства, статические характеристики и параметры; овладеть методикой их расчета.
1.1. Краткие теоретические сведения
Полупроводниковым диодом называют прибор, представляющий собой двухслойную монокристаллическую структуру с одним p-n-переходом и двумя выводами. Такой диод имеет одностороннюю проводимость, которая обеспечивается особыми свойствами электронно-дырочного перехода, кратко называемого p-n-переходом.
Для изготовления диодов применяются простые полупроводниковые вещества (германий и кремний) и сложные полупроводниковые материалы (арсенид, фосфид галлия и др.). Для снижения удельного сопротивления полупроводника и придания ему необходимого типа электропроводности – электронной при преобладании свободных электронов (n-типа) или дырочной при преобладании дырок (р-типа) – в чистые полупроводники вносят определенные примеси. Такой процесс называют легированием, а соответствующие полупроводниковые материалы – легированными.
При соприкосновении двух полупроводников с различными типами электропроводности происходит образование p-n-перехода (рис. 1). До соприкосновения в обоих полупроводниках электроны, дырки и неподвижные ионы расп-ределяются равномерно (рис. 1, а). При соприкосновении полупроводников в их пограничном слое происходит рекомбинация (воссоединение) электронов и дырок. Свободные электроны из зоны полупроводника n-типа занимают свободные уровни в валентной зоне полупроводника р-типа. В результате вблизи границы двух полупроводников образуется слой, лишенный подвижных носителей заряда и поэтому обладающий высоким электрическим сопротив-лением, – так называемый запирающий слой (рис. 1, б). Толщина запирающего слоя l обычно не превышает нескольких микрометров.
Рис. 1. Схема образования p-n перехода
Расширению запирающего слоя препятствуют неподвижные ионы донорных и акцепторных примесей, которые образуют на границе полупроводников двойной электрический слой. Этот слой определяет контактную разность потенциалов (потенциальный барьер) ∆φк на границе полупроводников (рис. 1, в), которая препятствует движению основных носителей заряда. Однако при движении через p-n-переход неосновных носителей (так называемого дрейфового тока Iдр) происходит снижение ∆φк, что позволяет некоторой части основных носителей, обладающих достаточной энергией, преодолеть барьер. Появляется диффузионный ток Iдиф, который направлен навстречу дрейфовому Iдр, т. е. возникает динамическое равновесие, при котором Iдр = Iдиф.
Если к p-n-переходу приложить внешнее напряжение, которое создает в запирающем слое электрическое поле напряженностью Евн, совпадающее по направлению с полем неподвижных ионов напряженностью Езап (рис. 2, а), то это приведет к расширению запирающего слоя, так как отведет от контактной зоны и положительные, и отрицательные носители заряда (дырки и электроны). При этом сопротивление p-n-перехода велико, а ток, проходящий через него, мал, так как он обусловлен движением неосновных носителей заряда. В этом случае ток называется обратным, а p-n-переход – закрытым.
Рис. 2. Схема электронно-дырочного перехода во внешнем
электрическом поле
При противоположной полярности источника напряжения (рис. 2, б) внешнее электрическое поле направлено навстречу полю двойного электри-ческого слоя, толщина запирающего слоя уменьшается, и при напряжении 0,2 0,6 В запирающий слой исчезает. Сопротивление p-n-перехода резко снижается, и возникает большой ток, называемый прямым, переход при этом является открытым. Сопротивление открытого p-n-перехода определяется собственным сопротивлением полупроводника.
Основной характеристикой диода является вольт-амперная характеристика (ВАХ), которая выражает зависимость тока, протекающего через диод, от значения и полярности напряжения (рис. 3).
Ветвь, расположенная в первом квадранте, соответствует прямому (пропуск-ному) направлению тока (см. рис. 3), а ветвь, проходящая в третьем квадран-те, – обратному направлению тока. Чем круче и ближе к вертикальной оси прямая ветвь ВАХ и ближе к горизонтальной оси ее обратная ветвь, тем лучше выпрямительные свойства диода. При достаточно большом обратном напряжении Uобр у диода наступает пробой, характеризующийся резким возрастанием обратного тока.
Рис. 3. Условное графическое и позиционное обозначения (а) и ВАХ (б)