
- •Методы измерения концентрации и подвижности носителей заряда Трехзондозый метод
- •Метод вольтфарадных характеристик контакта металл-полупроводник
- •Эквивалентная схема контакта металл-полупроводник
- •Фазовый угол и его зависимость от напряжения смещения
- •Влияние подготовки поверхности полупроводника
- •Контакт ртуть-полупроводник
- •Погрешность метода
- •Некоторые другие источники погрешности измерений Индуктивность кабелей и конструктивная емкость контактного устройства
- •Последовательное сопротивление контактного устройства
- •Площадь контакта ртуть-полупроводник
- •Измерения в образцах сp-n-переходом и диэлектрическим слоем на обратной стороне
- •Современное оборудование, реализующее метод вфх контакта мп
- •Электрохимическое профилирование
- •Профилометр для полупроводников Polaron pn 4100.
- •EcvPro. Электрохимический cv-профилометр
- •Ячейки для электрохимического профилирования и уплотнительные кольца.
- •Электрохимические измерения высокой точности.
- •Преимущества ecv-Pro.
- •EcvPro в качестве альтернативы другим приборам.
- •Увеличение производительности при уменьшении стоимости.
- •Сравнительные характеристики различных электрохимических профилометров
- •Оптические методы определения концентрации свободных носителей Определение концентрации свободных носителей по оптическому поглощению
- •Определение концентрации свободных носителей по плазменному резонансу
- •Эффект Холла
- •Влияние полярностей тока I и магнитного поля b на знак поперечных эдс
- •Метод магнитосопротивления
- •Квантовый эффект Холла в наноразмерных слоях
EcvPro. Электрохимический cv-профилометр
ECV-Pro
производства фирмыNanometrics
(США)представляет собой абсолютно
новую автоматизированную установку,
позволяющую минимизировать погрешности
измерений, вызванные действиями
оператора. Единственная операция,
производимая оператором – установка
образца на измерительный столик. После
этого ECV-Pro все делает сам.
Впервые в ECV-Pro установлена камера, позволяющая непосредственно во время профилирования контролировать состояние поверхности исследуемого образца. Эта система, названная ECVision, обеспечивает беспрецедентный уровень контроля, недостижимый ранее. Теперь в режиме реального времени возможно наблюдать за тем, что на самом деле происходит с поверхностью во время измерений.
Для работы с нитридной системой сложных полупроводниковых материалов была разработана дополнительная опция ECV-Pro GaN, расширяющая возможности профилометра для оптимального измерения GaN, InGaN и AlGaN.
Ячейки для электрохимического профилирования и уплотнительные кольца.
Сердце профилометра ECV-Pro - ячейка для электрохимического профилирования, а уплотняющее кольцо – наиболее важным ее элемент. Обслуживание электрохимической ячейки ECV-Pro сведено к минимуму за счет интеграции ячейки в систему и оптимизации конфигурации электродов. Новая конструкция ячейки более чем в два раза увеличивает срок службы уплотняющего кольца.
Система циркуляции электролита оптимизирована и обеспечивает равномерное травление полупроводника по всей площади контакта. Модульная конструкция делает возможным замену уплотняющего кольца в течение 30 секунд, исключая его деформации или повреждения.
Электрохимические измерения высокой точности.
Автоматизация измерений дает значительные преимущества только при условии высокой точности. Современная электроника профилометра ECV-Pro исключает дрейф нуля и значительно улучшает соотношение сигнал/шум. Процесс электрохимического CV-профилирования хорошо изучен, точно контролируется и калибруется по специальным стандартам для каждого измерения. В ECV-Pro реализован новый двухчастотный метод измерения, позволяющий найти полное решение для трехмерной модели контакта. ECV-Pro может измерять концентрации носителей в диапазоне от 1·1013 см-3 до 1·1020 см-3 на глубинах от 50 нм до 50 мкм с разрешением по глубине вплоть до 1 нм.
Метод электрохимического профилирования может эффективно использоваться для точного послойного контроля концентрации легирующей примеси, ее распределения по толщине, положения металлургической границы гетеропереходов и p–n переходов. Возможно травление образца на глубину до несколько микрон с точностью травления не хуже 1 нм. Это позволяет применять ECV-Pro для контроля современных наноструктур, толщины отдельных слоев которых достигают единиц нанометров. Измеренный с помощью электрохимического профилометра ECV-Pro-UV Nanometrics концентрационный профиль основных носителей заряда в гетероструктуре InGaN/GaN с квантовыми ямами представлен на рис.9. На нем наблюдаются пики от трех квантовых ям. По этой зависимости можно точно определить период квантовых ям, а с помощью детального анализа можно получить более прецизионную и полную информацию о заряде, накопленном в квантовых ямах, и об особенностях электронного спектра наноструктуры.
Рис.9.
Профиль распределения концентрации
ионизированных доноров в гетероструктуре
InGaN/GaN
с КЯ. |
|
На рис.10 представлен профиль концентрации носителей заряда в p–i–n-структуре на основе GaN. Электрохимический профилометр реагирует на знак заряда, уносимого электролитом, поэтому он позволяет измерять распределение концентрации электронов и дырок непосредственно в сформированном p–n-переходе готового прибора. Размытие краев p- и n-областей связано с диффузией носителей заряда в слаболегированную область на величину нескольких длин Дебая.