
- •Методы измерения концентрации и подвижности носителей заряда Трехзондозый метод
- •Метод вольтфарадных характеристик контакта металл-полупроводник
- •Эквивалентная схема контакта металл-полупроводник
- •Фазовый угол и его зависимость от напряжения смещения
- •Влияние подготовки поверхности полупроводника
- •Контакт ртуть-полупроводник
- •Погрешность метода
- •Некоторые другие источники погрешности измерений Индуктивность кабелей и конструктивная емкость контактного устройства
- •Последовательное сопротивление контактного устройства
- •Площадь контакта ртуть-полупроводник
- •Измерения в образцах сp-n-переходом и диэлектрическим слоем на обратной стороне
- •Современное оборудование, реализующее метод вфх контакта мп
- •Электрохимическое профилирование
- •Профилометр для полупроводников Polaron pn 4100.
- •EcvPro. Электрохимический cv-профилометр
- •Ячейки для электрохимического профилирования и уплотнительные кольца.
- •Электрохимические измерения высокой точности.
- •Преимущества ecv-Pro.
- •EcvPro в качестве альтернативы другим приборам.
- •Увеличение производительности при уменьшении стоимости.
- •Сравнительные характеристики различных электрохимических профилометров
- •Оптические методы определения концентрации свободных носителей Определение концентрации свободных носителей по оптическому поглощению
- •Определение концентрации свободных носителей по плазменному резонансу
- •Эффект Холла
- •Влияние полярностей тока I и магнитного поля b на знак поперечных эдс
- •Метод магнитосопротивления
- •Квантовый эффект Холла в наноразмерных слоях
Эффект Холла
Для непосредственного определения концентрации носителей заряда в полупроводниках используют эффект Холла
Рассмотрим полупроводнике n-типа проводимости.
Ч
Рис.3.22. ЭДС Холла
VH
(а)
и угол Холла φ (б)направлено вдоль осиу.
Под действием силы Лоренца
носители заряда отклоняются по осиz.
На верхней грани накапливается
отрицательный заряд свободных носителей
(n>p),
на нижней грани - положительный заряд
ионов примеси. Разделение зарядов
приводит к возникновению электрического
поля Холла
.Поле EH
растет до тех пор, пока не скомпенсирует
действие силы Лоренца. При этом ток
Iz=0,
а результирующее поле
повернуто относительно внешнего поля
Ex
на угол Холла φ.
(3.32_25)
где H
- холловская подвижность, которая
отличается от дрейфовой подвижности
.
По определению
, (3.33_26)
где τ - время
релаксации, а знак
означает усреднение τ по энергии;
- эффективная масса носителя заряда.
Дырки и электроны
смещаются в одну и ту же сторону, так
как направления дрейфовой скорости
и знаки заряда частицe
противоположны.
Для слабого магнитного поля (µHB)2<<1
(3.34_27)
где RH - постоянная Холла; jx - плотность тока в образце.
Для Si, Ge, GaAs к слабым полям относятся магнитные поля с индукцией В<(0.5 – 1.0) Тл. Тогда для RH получим следующее выражение.
. (3.35_28)
Отношение
называется Холл-фактором.
В слабых магнитных
полях при
Холл-фактор r
зависит от механизма рассеяния. При
рассеянии на ионах примеси, что обычно
имеет место в области низких температур,
r=1.93.
При рассеянии на фононах (при более
высоких температурах) r=1.18.
В невырожденном полупроводнике в слабом
магнитном поле r
составляет (1
1.93), в сильном магнитном поле
Холл-фактор r=1.
В металлах и вырожденных полупроводниках
r=1.
В сильных магнитных полях при (µHB)2>>1 r=1 и не зависит от механизма рассеяния.
Для кремния, германия и арсенида галлия к слабым полям относятся магнитные поля с индукцией В<(0.5 – 1.0) Тл.
Для полупроводников n-типа RH<0, для полупроводников р-типа RH>0.
Для полупроводников со смешанной проводимостью
, (3.36_29)
где
.
Температурные
зависимости коэффициента Холла для
невырож-денных примесных полупроводниковn–типа
проводимости и p–типа
проводимости различны. В электронном
полупроводнике знак коэффициента Холла
RH(T)
отрицателен во всем диапазоне температур,
и
убывает с ростом температуры.
В дырочном полупроводнике знак RH(T)>0 вплоть до температур, отвечающих переходу в область собственной проводимости, когда коэффициент Холла, продолжая уменьшаться, проходит через нуль и меняет знак. Поэтому по экспериментальной кривой RH(T) в соответствующем интервале темпера-тур можно определить тип прово-димости полупроводника.
RH
меняет знак не при переходе к собственной
проводимости, когда p=n,
при а p=nb2.
Для при комнатной температуре b=80,
и в собственном полупроводнике RH
отрицательна, как и в полупроводнике
n-типа
проводимости. Именно это обстоятельство
приводит в InSb
p-типа
проводимости к холловскому выбросу
выше прямой, соответствующей собственной
проводимости. То же обнаруживается и
для температурной зависимости ρ
в образцах p-типа
проводимости. Максимум удельного
сопротивления наблюдается не при p=n=ni,
а при
.
Еслиb=80,
то это почти на порядок величины больше
ni,
и максимальное значение удельного
сопротивления в
раз больше, чем для собственного
полупроводника.
Вэксперименте задают плотность токаjx
и магнитную индукцию В
и измеряют напряжение Холла
.
Зная геометрию образца, можно рассчитать
постоянную ХоллаRH
и определить концентрацию свободных
носителей n.
Подвижность Холла вычисляют по формуле.
,
(3.37_30)
где σ - проводимость
образца. Величину
(гдеl
- расстояние между контактами 1 и 3)
находят, используя измеренные значения
Vρ.
В образце со смешанной проводимостью определить концентрации p и n и подвижности μp и μn раздельно с помощью эффекта Холла невозможно.
Если в образце
концентрация носителей заряда распределена
неоднородно, то могут быть определены
такие параметры слоя, как удельная
слоевая электропроводность ,
слоевой коэффициент Холла
,
слоевая концентрация носителей заряда
и
слоевая подвижность
,
которыеопределяются
следующими соотношениями.
. (3.38_31)
. (3.39_32)
. (3.38_33)
. (3.39_34)
При измерении ЭДС Холла следует учитывать физические эффекты, которые могут исказить результаты и привести к систематическим и случайным ошибкам.
Эффект Эттинсгаузена - поперечный термогальваномагнитный эффект. Магнитное поле
действует на электроны с большей энергией ("быстрые" электроны) с большей силой, чем на "медленные". Поэтому происходит разделение носителей по скоростям (по энергиям). При взаимодействии с решеткой возникает градиент температуры
и соответствующая термоЭДСVE. Изменение направления
или
приводит к такому же изменению знака термоЭДСVE, что и ЭДС Холла VH, (см. таблицу).
Часто в процессе измерений возникает градиент температуры
вдоль оси x. Это связано либо с несовершенством нагревателя, либо с неоднородным выделением джоулева тепла при прохождении тока I через контакты. В этих условиях появляются дополнительные ЭДС.
Эффект Нернста - Эттинсгаузена - термогальванический эффект. Если есть градиент температуры
, возникает диффузионный поток электронов, который отклонятся магнитным полемВ так же, как в эффекте Холла отклоняется дрейфовый поток. При этом появляется ЭДС VN, вдоль оси z. Знак ЭДС зависит от направления
и не зависит от направления
.
Эффект Риги - Ледюка - термомагнитный эффект. Он аналогичен эффекту Эттинсгаузена, но только в отношении носителей диффузионного тока, обусловленного
. Разделение "быстрых" и "медленных"носителей вызывает появление
и соответствующей термоЭДСVRL. Знак ЭДС зависит от полярности поля
и не зависит от знака токаI.
Дополнительная разность потенциалов
на холловских контактах может возникать, если они несколько смещены относительно друг друга вдоль осих. При измерении полярности тока
ЭДС
меняет знак, а от полярности поля
не зависит.
Эффектом
магнитосопротивления в слабом магнитном
поле можно пренебречь, так как это эффект
второго порядка малости
.
Изменения знака
ЭДС в зависимости от изменения полярности
тока
и магнитного поля
представлены в таблице.
Таблица