
- •О.С.Агеева, т.Н.Строганова, к.С.Чемезова
- •Предисловие
- •1.Элементы квантовой механики
- •1.1. Гипотеза де Бройля. Корпускулярно-волновой дуализм микрочастиц
- •Опыты Девиссона и Джермера (1927г.)
- •Опыты Тартаковского и Томсона (1928 г.)
- •1.2. Соотношение неопределенностей
- •1.3. Волновая функция
- •1.4. Уравнение Шредингера
- •1.5. Задача квантовой механики о движении свободной частицы
- •1.6. Задача квантовой механики о частице в одномерной прямоугольной потенциальной яме
- •1.7. Понятие о туннельном эффекте.
- •1.8. Атом водорода в квантовой механике. Квантовые числа
- •Состояния электрона в атоме водорода
- •1.9. 1S– состояние электрона в атоме водорода
- •1.10. Спин электрона. Принцип Паули
- •1.11. Спектр атома водорода
- •1.12. Поглощение света, спонтанное и вынужденное излучения
- •1.13. Лазеры
- •1.13.1. Инверсия населенностей
- •1.13.2. Способы создания инверсии населенностей
- •1.13.3. Положительная обратная связь. Резонатор
- •1.13.4. Принципиальная схема лазера.
- •1.14. Уравнение Дирака. Спин.
- •2. Зонная теория твердых тел.
- •2.1. Понятие о квантовых статистиках. Фазовое пространство
- •2.2. Энергетические зоны кристаллов. Металлы. Полупроводники. Диэлектрики
- •Удельное сопротивление твердых тел
- •2.3. Метод эффективной массы
- •3. Металлы
- •3.1. Модель свободных электронов
- •При переходе из вакуума в металл
- •3.2. Распределение электронов проводимости в металле по энергиям. Уровень и энергия Ферми. Вырождение электронного газа в металлах
- •Энергия Ферми и температура вырождения
- •3.3. Понятие о квантовой теории электропроводности металлов
- •3.4. Явление сверхпроводимости. Свойства сверхпроводников. Применение сверхпроводимости
- •3.5. Понятие об эффектах Джозефсона
- •4. Полупроводники
- •4.1. Основные сведения о полупроводниках. Классификация полупроводников
- •4.2. Собственные полупроводники
- •4.3.Примесные полупроводники
- •4.3.1.Электронный полупроводник (полупроводник n-типа)
- •4.3.2. Дырочный полупроводник (полупроводник р-типа)
- •4.3.3.Компенсированный полупроводник. Частично компенсированный полупроводник
- •4.3.4.Элементарная теория примесных состояний. Водородоподобная модель примесного центра
- •4.4. Температурная зависимость удельной проводимости примесных полупроводников
- •4.4.1.Температурная зависимость концентрации носителей заряда
- •4.4.2.Температурная зависимость подвижности носителей заряда
- •4.4.3. Температурная зависимость удельной проводимости полупроводникаn-типа
- •4.4.5. Термисторы и болометры
- •4.5. Рекомбинация неравновесных носителей заряда в полупроводниках
- •4.6. Диффузия носителей заряда.
- •4.6.1. Диффузионная длина
- •4.6.2. Соотношение Эйнштейна между подвижностью и коэффициентом диффузии носителей заряда
- •4.7. Эффект Холла в полупроводниках
- •4.7.1. Возникновение поперечного электрического поля
- •4.7.2. Применение эффекта Холла для исследования полупроводниковых материалов
- •4.7.3. Преобразователи Холла
- •4.8. Магниторезистивный эффект
- •5. Электронно-дырочный переход
- •5.1.Образование электронно-дырочного перехода
- •5.1.1. Электронно-дырочный переход в условиях равновесия (при отсутствии внешнего напряжения)
- •5.1.2.Прямое включение
- •5.1.3.Обратное включение
- •5.2.КласСификация полупроводниковых диодов
- •5.3. Вольт-амперная характеристика электроннно-дырочного перехода. Выпрямительные, детекторные и преобразовательные диоды
- •5.3.1.Уравнение вольт-амперной характеристики
- •Классификация полупроводниковых диодов
- •5.3.2.Принцип действия и назначение выпрямительных, детекторных и преобразовательных диодов
- •5.4. Барьерная емкость. Варикапы
- •5.5.Пробой электронно-дырочного перехода
- •5.6. Туннельный эффект в вырожденном электронно-дырочном переходе. Туннельные и обращенные диоды
- •6.Внутренний фотоэффект в полупроводниках.
- •6.1.Фоторезистивный эффект. Фоторезисторы
- •6.1.1.Воздействие излучения на полупроводник
- •5.1.2.Устройство и характеристики фоторезисторов
- •6.2.Фотоэффект в электронно-дырочном переходе. Полупроводниковые фотодиоды и фотоэлементы.
- •6.2.1.Воздействие света наp-n-переход
- •7.Люминесценция твердых тел
- •7.1.Виды люминесценции
- •7.2.Электролюминесценция кристаллофосфоров
- •7.2.1. Механизм свечения кристаллофосфоров
- •7.2.2. Основные характеристики электролюминесценции кристаллофосфоров
- •7.2.3.Электролюминесцентный источник света
- •7.3.Инжекционная электролюминесценция. Устройство и характеристики светодиодных структур
- •7.3.1.Возникновение излучения в диодной структуре
- •7.3.2.Конструкция светодиода
- •7.3.3.Основные характеристики светодиодов
- •7.3.4.Некоторые применения светодиодов
- •7.4 Понятие об инжекционных лазерах
- •8. Транзисторы
- •8.1.Назначение и виды транзисторов
- •8.2.Биполярные транзисторы
- •8.2.1 Структура и режимы работы биполярного транзистора
- •8.2.2.Схемы включения биполярных транзисторов
- •8.2.3.Физические процессы в транзисторе
- •8.3.Полевые транзисторы
- •8.3.1.Разновидности полевых транзисторов
- •8.3.2.Полевые транзисторы с управляющим переходом
- •8.3.3. Полевые транзисторы с изолированным затвором. Структуры мдп-транзисторов
- •8.3.4.Принцип действия мдп-транзисторов с индуцированным каналом
- •8.3.5. Мдп-транзисторы со встроенным каналом
- •8.4. Сравнение полевых транзисторов с биполярными
- •Заключение
- •1.Элементы квантовой механики 4
- •2. Зонная теория твердых тел. 42
- •3. Металлы 50
- •4. Полупроводники 65
- •5. Электронно-дырочный переход 97
- •6.Внутренний фотоэффект в полупроводниках. 108
- •7.Люминесценция твердых тел 113
- •8. Транзисторы 123
5.5.Пробой электронно-дырочного перехода
При больших обратных напряжениях происходит пробой p-n-перехода – резкое увеличение обратного тока (участок на рис.4.3). В зависимости от физических явлений, приводящих к пробою, различаютлавинный, туннельный и тепловойвиды пробоя.
Лавинный пробой – это пробой, вызванный лавинным размножением носителей заряда под действием сильного электрического поля. Неосновной носитель заряда, попав в сильное электрическое поле, ускоряется до такой степени, что приобретает энергию, достаточную для образования новых электронно-дырочных пар; вновь образованные электроны и дырки, в свою очередь, ускоряются и могут вызвать появление новых электронов и дырок. Таким образом, происходит лавинное размножение носителей заряда. При таком виде пробоя обратное напряжение остается почти постоянным. Лавинный пробой (при ограничении тока) носит обратимый характер и не приводит к разрушению p-n-перехода.
Обратное напряжение может оставаться постоянным и при другом виде пробоя – туннельном. При туннельном пробое электроны проходят сквозь узкий потенциальный барьерp-n- перехода за счет волновых свойств. Туннельный пробой – это пробой, вызванный квантово-механическим туннелированием носителей заряда сквозь запрещенную зону полупроводника без изменения энергии.Условия для туннелирования возникают только в тонких p-n-переходах при превышении некоторого критического напряжения. Следовательно, туннельный пробой может происходить только в p-n-переходах, изготовленных в полупроводниках с большой концентрацией примесей. Туннельный пробой, как и лавинный, носит обратимый характер и не приводит к разрушению p-n-перехода. Лавинный и туннельный виды пробоев характерны для p-n-переходов на основе кремния.
Тепловой пробой – это пробой, развитие которого сопровождается выделением теплоты вследствие прохождения тока через p-n-переход. При развитии пробоя с ростом тока напряжение не остается постоянным – оно уменьшается. Этот вид пробоя необратим, он приводит к разрушению прибора. Тепловой пробой чаще развивается в германиевых приборах. Однако при повышенной температуре или плохом теплоотводе лавинный или туннельный пробой кремниевого прибора может перейти в теплой.
При лавинном и туннельном механизмах пробоя обратное напряжение почти не меняется при возрастании обратного тока. Это свойство используется в полупроводниковых стабилитронах. Полупроводниковый стабилитрон- это полупроводниковый диод, напряжение на котором в области электрического пробоя при обратном смещении слабо зависит от тока в заданном его диапазоне и который предназначен для стабилизации напряжения.
5.6. Туннельный эффект в вырожденном электронно-дырочном переходе. Туннельные и обращенные диоды
В рассмотренных выше приборах носители преодолевали этот барьер p-n-перехода, имея соответствующую энергию. В туннельныхиобращенныхдиодах p-n-переход изготовлен настолько узким за счет высокой степени легирования p-и -n-областей, что электроны могут проходить сквозь него за счет волновых свойств (туннельный эффект). Следствием высокой концентрации примесей является, во-первых, малая толщина перехода (примерно в 100 раз меньше, чем в других типах полупроводниковых диодов), а во-вторых, расщепление примесных энергетических уровней с образованием примесных энергетических зон, которые примыкают к зоне проводимости вn– области и к валентной зоне вp- области. Уровни Ферми при этом оказываются расположенными в разрешенных зонах (рис.5.4а), аэлектронный газ становится вырожденным. Самполупроводник и p-n- переход также называют в этом случае вырожденными.
В туннельных диодах и прямой ток при небольших напряжениях и обратный ток обусловлены туннельным эффектом.
Процесс формирования вольт-амперной характеристики туннельного диода можно проследить по рис.5.4. Если напряжение на p-n-переходе равно нулю, ток также равен нулю, так как число туннельных переходов
справа налево и слева направо (рис.5.4 а) одинаково. При приложении небольшого прямого напряжения изгиб энергетических зон уменьшается, свободные энергетические уровни p-области (занятые дырками), расположенные непосредственно над уровнем Ферми, оказываются на одной высоте с энергетическими уровнямиn-области, занятыми электронами (рис.5.4 б). Поэтому будет происходить преимущественное туннелирование электронов изn-области вp-область. При некотором («пиковом») напряжении на диоде свободные энергетические уровни валентной и примесной зонp-области окажутся на одной высоте с занятыми электронами уровнями зоны проводимости и примесной зоны - в этом случае туннельный ток будет максимальным (рис 5.4 в).
При дальнейшем увеличении прямого напряжения туннельный ток будет уменьшаться, так как при еще меньшем изгибе зон число электронов (в n-области), находящихся на одной высоте со свободными уровнями (p-области), уменьшается (рис.5.4 г). Туннельный ток окажется равным нулю при еще большем прямом напряжении (рис. 5.4 д), когда для свободных электроновn-области не будет свободных уровней вp-области. Однако при этом через диод будет проходить прямой ток, обусловленный переходом носителей заряда через понизившийся потенциальный барьер, то есть инжекционный ток. С дальнейшим увеличением прямого напряжения прямой ток будет возрастать, как и в обычных выпрямительных диодах (рис.5.4 е).
В результате на прямой ветви вольт-амперной характеристики появляется участок отрицательного дифференциального сопротивления, когда с ростом напряжения ток падает. Эта особенность вольт-амперной характеристики является самым интересным свойством туннельных диодов. Обратный ток имеет туннельный механизм, обратный ток сильно увеличивается с ростом обратного напряжения, участка насыщения, как в обычных диодах, на обратной ветви вольт-амперной характеристики нет. Туннельные диоды используют в генераторных, усилительных, переключающих схемах.
В обращенных диодах(рис.5.5) используется такая концентрация примесей, что при обратном смещении возникает туннельный эффект, а при прямом – нет. В этом случае при небольших значениях напряжения обратный ток (туннельный) намного больше прямого (инжекционного). Таким образом, пропускное и запирающее направления в данном виде приборов обращены по сравнению с другими диодами. Отсюда и название этих приборов - обращенные диоды. Эти диоды обладают высоким быстродействием, так как не происходит накопления носителей в базовых областях, поэтому они используются при работе на высоких частотах, вплоть до СВЧ-диапазона.