Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

gurtov

.pdf
Скачиваний:
56
Добавлен:
07.02.2016
Размер:
3.72 Mб
Скачать

10.5. Полупроводниковые лазеры

Любой переход между этими состояниями сопровождается испусканием или поглощением фотона с частотой ν12, определяемой из соотношения hν12 = E2 E1. При обычных температурах большинство атомов находится в основном состоянии. Эта ситуация нарушается в результате воздействия на систему фотона с энергией, равной hν12. Атом в состоянии E1 поглощает фотон и переходит в возбужденное состояние E2. Это и составляет процесс поглощения излучения. Возбужденное состояние является нестабильным, и через короткий промежуток времени без какого-либо внешнего воздействия атом переходит в основное состояние, испуская фотон с энергией hν12 (спонтанная эмиссия). Время жизни, связанное со спонтанной эмиссией (т. е. среднее время возбужденного состояния), может изменяться в широком диапазоне, обычно в пределах 10–9—10–3 с, в зависимости от параметров полупроводника, таких, как структура зон (прямая или непрямая) и плотность рекомбинационных центров. Столкновение фотона, обладающего энергией hν12, с атомом, находящимся в возбужденном состоянии, стимулирует мгновенный переход атома в основное состояние с испусканием фотона с энергией hν12 и фазой, соответствующей фазе падающего излучения (стимулированное излучение).

10.5.1.Зонная диаграмма и конструкция полупроводникового лазера

Принцип действия и конструктивные особенности полупроводниковых лазеров во многом сходны с полупроводниковыми светодиодами.

Инверсная населенность, необходимая для стимулированного когерентного излучения, формируется путем инжекции через прямосмещенный p-n-переход. Резонатор, необходимый для усиления когерентного излучения, формируется путем шлифовки граней кристалла. Для того чтобы переходы с излучением преобладали над переходами с поглощением, необходимо область рекомбинации в полупроводниковом лазере легировать до вырождения. В подобных лазерах p- и n-области выполнены на одном материале. Причем обе области являются вырожденными полупроводниками с концентрацией носителей порядка 1020 ат/см3. При такой концентрации уровень Ферми Fn для p-области попадает в валентную зону, а уровни Ферми Fn для n-области — в зону проводимости (рис. 10.11а). В отсутствие напряжения оба уровня имеют одну и ту же энергию. Когда напряжение будет приложено, то оба уровня расщепляются на величину E = eU. Зонная структура примет вид, изображенный на рис. 10.11б. Из рисунка видно, что в области p-n-перехода, а также на расстоянии порядка диффузионной длины в квазинейтральном объеме возникает инверсная заселенность. В силу того что энергия оптических переходов с излучением меньше, чем энергия переходов с поглощением, вероятность первых переходов выше, чем вторых. Дальнейший процесс рекомбинации вызовет лазерную генерацию.

Конструктивно активный слой из p-n-перехода помещается между двумя металлическими электродами. Типичные размеры активной области не превышают 200–500 мкм, отражающие поверхности создаются путем скалывания выходных граней полупроводникового монокристалла. В таком виде полупроводниковый лазер имеет недостаток, заключающийся в том, что размер лазерного пучка (~5 мкм) значительно превышает активную область в поперечном направлении (d = 1 мкм). В результате чего проникает далеко в p- и n-области, где испытывает сильное поглощение. По этой причине пороговая плотность тока достигает большой величины (~105 А/см для GaAs) и лазер быстро выходит из строя от перегрева. Работоспособен такой лазер только в импульсном режиме, а для непрерывного режима излучения необходимо глубокое охлаждение.

Gurtov.indd 293

17.11.2005 12:29:04

Глава 10. Полупроводниковые лазеры

 

а

p

n

 

Eg

 

 

Fp

Fn

б

активная область

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p

 

 

 

 

 

n

Fn

Eg

E

Fp

Рис. 10.11. Принцип действия полупроводникового лазера на основе p-n-перехода:

а) отсутствие смещения; б) при смещении в прямом направлении

При прямом смещении в p+ и n+ происходит инжекция неравновесных носителей, и в этих областях на расстояниях порядка диффузионной длины Lp, Ln будет происходить рекомбинация неравновесных носителей. При малых плотностях тока (низкий уровень инжекции) высока вероятность спонтанного излучения и спектральная линия достаточно широкая. При высоких уровнях тока (высокий уровень инжекции) вероятность стимулированного излучения возрастает по отношению к вероятности как спонтанного излучения, так и поглощения и на спектральной характеристике появляется узкая линия когерентного излучения. Значение тока, при котором появляется линия когерентного излучения, называют пороговым током.

На рис. 10.12 показана базовая структура лазера с p-n-переходом. Две боковые грани структуры скалываются или полируются перпендикулярно плоскости перехода. Две другие грани делаются шероховатыми для того, чтобы исключить излучение в направлениях, не совпадающих с главным. Такая структура называется резонатором Фабри – Перо.

Смещение лазерного диода в прямом направлении вызывает протекание тока. Вначале, при низких значениях тока, возникает спонтанное излучение, распространяющееся во всех направлениях. При увеличении смещения ток достигает порогового значения, при котором создаются условия для стимулированного излучения, и p-n-переход испускает монохроматичный луч света, направленный в плоскости p-n-перехода.

Gurtov.indd 294

17.11.2005 12:29:04

10.5. Полупроводниковые лазеры

 

контакт

Ток

 

необработанная

I

активная

 

поверхность

 

область

 

 

p-тип

когерентное

излучение

n-тип

контакт

оптически ровные и параллельные грани

Рис. 10.12. Структура полупроводникового лазера на гомопереходе

10.5.2.Лазеры на гетероструктурах

Сцелью уменьшения пороговой плотности тока были реализованы лазеры на гетерос-

труктурах (с одним гетеропереходом — n-GaAs–p-Ge, p-GaAs–n-AlxGa1–xAs; c двумя гетеропереходами — n-AlxGa1–xAs – p-GaAs – p+-AlxGa1–xAs. Использование гетероперехода позволяет реализовать одностороннюю инжекцию при слаболегированном эмиттере лазерного диода и существенно уменьшить пороговый ток.

Схематично одна из типичных конструкций такого лазера с двойным гетеропереходом изображена на рис. 10.13. В структуре с двумя гетеропереходами носители сосредоточены внутри активной области d, ограниченной с обеих сторон потенциальными барьерами; излучение также ограничено этой областью вследствие скачкообразного уменьшения показателя преломления за ее пределы. Эти ограничения способствуют усилению стимулированного излучения и соответственно уменьшению пороговой плотности тока. В области гетероперехода возникает волноводный эффект, и излучение лазера происходит в плоскости, параллельной гетеропереходу.

Активная область представляет собой слой n-GaAs толщиной всего 0,1–0,3 мкм. В такой структуре удалось снизить пороговую плотность тока почти на два порядка (~103 А/см2) по сравнению с устройством на гомопереходе. В результате чего лазер получил возможность работать в непрерывном режиме при комнатной температуре. Уменьшение пороговой плотности тока происходит из-за того, что оптические и энергетические характеристики слоев, участвующих в переходах, таковы, что все инжектированные электроны и оставшиеся дырки эффективно удерживаются только в активной области; лазерный пучок сосредоточен также только в активной области, где и происходит его основное усиление и распространение; лазерный пучок не испытывает по этим причинам поглощения в областях, соседних с активной. Длина волны излучения такого лазера (λ = 0,85 мкм) попадает в диапазон, в котором оптический волоконный кварц имеет минимум потерь. В настоящее время разработаны и широко внедряются лазеры на материалах GaAs с присадками In, P и др. с λ = 1,3 и 1,6 мкм, также попадающие в окна прозрачности оптического кварца. Уменьшением ширины полоски лазеров с полосковой геометрией удалось довести пороговый ток до 50 мА, КПД до 60% (величина, рекордная для всех видов существующих в настоящее время лазеров).

Дальнейшее развитие лазеров на двойной гетероструктуре лежит в области новых полупроводниковых материалов на основе нитрида галлия с использованием квантовых ям в качестве областей рекомбинации. Генерация лазерного излучения в такого

Gurtov.indd 295

17.11.2005 12:29:04

Глава 10. Полупроводниковые лазеры

 

 

а

n

p

p+

 

 

 

 

 

 

Alx1Ga1–x1As

GaAs

Alx2Ga1–x2As

VG

б

 

 

 

Ec

 

 

Eg2

E

Ei

 

 

 

 

 

 

g3

Ev

 

 

 

 

 

Eg1

 

 

F

 

 

 

 

в

jn

 

hν = Eg2

 

VG > 0

 

jp

г

Металлизированная

 

поверхность

 

Подложка GaAs

1

Al0,3Ga0,7As (n)

0,1–0,5

1

Активная область GaAs (n)

1,5

Al0,3Ga0,7As (p)

 

GaAs (p)

 

Окисел

 

Металлизированный слой

13 мкм

Медный теплоотвод

 

Рис. 10.13. Зонная диаграмма (а, б, в) и структура (г) полупроводникового лазера на двойном гетеропереходе:

а) чередование слоев в лазерной двойной n-p-p+-гетерострук- туре; б) зонная диаграмма двойной гетероструктуры при нулевом

напряжении; в) зонная диаграмма лазерной двойной гетероструктуры в

активном режиме генерации лазерного излучения;

г) приборная реализация лазерного диода Al0,3Ga0,7As (p) –

GaAs (p) и GaAs (n) – Al0,3Ga0,7As (n), активная область — слой из GaAs (n) [2, 54]

Gurtov.indd 296

17.11.2005 12:29:04

1.3. Статистика электронов и дырок в полупроводниках

сорта лазерных диодах проходит в направлении, перпендикулярном плоскости гетеропереходов, поскольку внешний слой GaN имеет большую ширину запрещенной зоны и является оптически прозрачным. На рис. 10.14 приведена структура голубого инжекционного лазера на основе нитрида галлия с квантовой ямой.

p-электрод p-GaN

p-Al0,12Ga0,88N

p-GaN

n-Al0,2Ga0,8N InGaN-квантовая яма

n-GaN

n-Al0,12Ga0,88N

n-In0,1Ga0,9N

GaN-буферный слой

n-электрод n-GaN

сапфировая подложка

Рис. 10.14. Схема голубого инжекционного лазера на основе нитрида галлия с двойной гетероструктурой и квантовой ямой [9, 27]

На рис. 10.15 приведена зависимость пороговой плотности тока Jth от рабочей температуры для трех лазерных структур. Самая слабая зависимость от температуры наблюдается для лазеров на двойных гетероструктурах (ДГ-лазеров). Поскольку Jth в ДГ-лазерах при 300 К может достигать значений порядка 103 А/см2 и менее, оказывается возможным реализовать режим непрерывной генерации при комнатной температуре. Благодаря этому лазеры нашли широкое применение в науке и промышленности, в частности в ВОЛС.

Пороговая плотность тока, А/см2

Гомоструктура

5·104

104

Структура с одним гетеропереходом (d = 5 мкм)

103

Двойная гетероструктура (d = 0,5 мкм)

102

200

300

T, К

100

Рис. 10.15. Зависимость пороговой плотности тока от температуры для различных типов полупроводниковых лазеров [10]

Gurtov.indd 297

17.11.2005 12:29:05

Глава 10. Полупроводниковые лазеры

Лазер на гомопереходе интересен в чисто историческом (так были устроены первые полупроводниковые лазеры) и физическом смыслах, а также тем, что позволяет лучше оценить преимущества лазеров на ДГ, которые работают в непрерывном режиме и при комнатной температуре.

Спектр применений лазеров на ДГ интенсивно расширяется. В настоящее время эти лазеры используются в качестве считывающего элемента в компакт-дисковых системах, лазерных указках, источников излучения для волоконно-оптической связи. Лазеры на соединениях AlGaInP излучают в видимой области спектра, что позволяет считывать более плотно записанную информацию. Срок службы лазеров на двойных гетероструктурах достигает 5·105 часов.

Контрольные вопросы

10.1.Каковы критерии выбора полупроводниковых материалов для оптоэлектронных приборов?

10.2.В какой области светодиодов происходит генерация оптического излуче-

ния?

10.3.Назовите три условия, необходимые для генерации когерентного излучения

вполупроводниковых лазерах на основе p-n-перехода.

10.4.Как можно реализовать одностороннюю инжекцию в гомо- и гетеропере-

ходах?

10.5.Как отличается спектр излучения светодиода и полупроводникового лазера?

10.6.В чем преимущество полупроводникового лазера с двойным гетеропереходом перед полупроводниковым лазером с одним гетеропереходом?

Задачи

10.1.Эффективность преобразования внешней (электрической) мощности планарного GaAs-светодиода h равна 1,5% при прямом токе I = 50 мА и разности

потенциалов U = 2 В. Оценить генерируемую прибором оптическую мощность Pi, если коэффициент отражения R на границе GaAs – воздух равен R = 0,8. Коэффициент преломления GaAs n = 3,6.

10.2.Оценить эффективность преобразования внешней мощности планарного

GaAs-светодиода η, когда внутренняя оптическая мощность Pi составляет 30 % от приложенной электрической мощности. Коэффициент преломления GaAs n = 3,6.

10.3.Рекомбинационное время жизни неосновных носителей заряда фотодиода

τ= 5 нс. При протекании постоянного тока оптическая выходная мощность равна

Pdc = 300 мкВт. Определить выходную мощность Pf, когда сигнал через диод модулирован на частоте 20 МГц и 100 МГц.

10.4.Ширина запрещенной зоны слаболегированного GaAs при комнатной температуре 1,43 эВ. Когда материал сильно легирован (до вырождения), появляются «хвосты состояний», которые эффективно уменьшают ширину запрещенной зоны на 8%. Определить разницу в излучаемой длине волны света в случае слабого и сильного легирования.

Gurtov.indd 298

17.11.2005 12:29:05

ГЛАВА 11

ФОТОПРИЕМНИКИ

11.1. Статистические параметры фотодетекторов

Фотодетекторы — полупроводниковые приборы, регистрирующие оптическое излучение и преобразующие оптический сигнал на входе в электрический сигнал на выходе фотодетектора.

Термину фотодетектор соответствует как эквивалентный термин фотоприемник, так и термин приемник оптического излучения.

Поскольку основная задача фотоприемников — регистрация, то существует набор статических характеристик, которыми описываются качества фотоприемника. Если регистрируемый сигнал на выходе фотоприемника — напряжение, то вводят понятие вольтовая чувствительность, показывающая, насколько изменится напряжение U на выходе фотоприемника при единичном изменении мощности P падающего

лучистого потока:

SV

=

U

 

В

 

P

,

 

.

(11.1)

 

 

 

 

Вт

 

Если на выходе фотоприемника изменяется ток, то фотоприемник характеризуется токовой чувствительностью Si. Токовая чувствительность — величина, характеризующая изменение тока I, регистрируемого в цепи фотоприемника при единичном изменении мощности P падающего оптического излучения:

Si

=

I

 

В

 

 

,

 

.

(11.2)

P

 

 

 

 

Вт

 

На фотоприемнике всегда есть хаотический сигнал, связанный с флуктуациями микропараметров приемника. Этот сигнал характеризуется средним квадратичным значением шумового напряжения:

Um2 .

(11.3)

Наличие шумового напряжения на фотоприемнике является физической границей регистрации внешнего сигнала. Параметр, описывающий этот эффект, получил название пороговой чувствительности. Пороговая чувствительность — это минимальная энергия оптического излучения Pm, которая вызовет на выходе фотоприемника сигнал, находящийся в заданном отношении (m) к шуму.

m = U = Pm SV ;

 

 

Um2

 

Um2

 

Pm

=

m Um2

,

[Вт].

(11.4)

SV

 

 

 

 

 

Gurtov.indd 299

17.11.2005 12:29:05

Глава 11. Фотоприемники

D*(λ,f,y), см·Гц1/2/Вт

1015

 

8

 

6

GdS (300 K)

4

2

 

1014

D* (идеальная)

8

(77 К)

6

 

4

Si (300 K)

 

2ФД

1013

 

D*

 

 

8

 

(идеальная)

GaAs

6

Ge:Au (77 K)

(300 К)

4

 

 

(4,2 K)

 

 

 

 

2

InSb (77 K) ФД

 

 

 

1012

 

 

 

GaAs

 

 

 

8

PbTe (77K) ФД

 

(300 K)

 

6

ФД

 

 

 

4

 

 

 

PbS (77 K)

 

 

InSb

 

 

Ge:Ga (4,2 K)

2

 

 

(1,5 К)

 

 

 

1011

GeNi (77 K)

 

 

 

8

 

 

 

 

6

PbS (300 K)

 

Si:P (4,2 K)

 

4

InSb (77 K)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

HgCdTe (77 K)

Ge:Zn (4,2 K)

1010

 

 

 

 

Ge:Cu (4,2 K)

 

8

 

 

 

6

Ge:Au (77 K)

 

 

4

PbSnTe (77 K)

 

 

 

 

2

 

 

 

 

109

 

 

 

 

0,1

1

10

100

1000

λ, мкм

Рис. 11.1. Зависимость обнаружительной способности D* от длины волны излучения для различных фоторезисторов и фотодиодов (ФД). Штрихованными кривыми представлена теоретическая идеальная D* при 77 и 300 К и угле 2π [10]

При m = 1 мощность оптического излучения Pm = Pmin называется минимальной пороговой чувствительностью. Поскольку шумовая ЭДС пропорциональна полосе частот, то пороговую чувствительность рассматривают для единичной полосы частот

f = 1, при этом:

 

 

 

m02

 

Um2 U

,

Pmin

=

Um02

.

(11.5)

 

 

 

SV

 

Величина, обратная пороговой чувствительности, называется обнаружительной способностью:

D =

1

.

(11.6)

 

 

Pmin

 

Gurtov.indd 300

17.11.2005 12:29:08

11.2. Материалы для фотоприемников

Удельная обнаружительная способность D* — величина, нормированная на единицу площади фотоприемника и на полосу частот:

 

 

 

Sv A f

 

 

 

1

 

 

 

 

D

*

=

,

 

см Гц2

.

(11.7)

 

2

 

Вт

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

U0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Таким образом, удельная обнаружительная способность D* — это величина, обратная мощности оптического излучения, которая при полосе частот f = 1 и площади фотоприемника A = 1 вызывает на выходе фотоприемника сигнал, равный шуму.

На рис. 11.1 приведена зависимость обнаружительной способности D* от длины волны излучения для различных фоторезисторов и фотодиодов [9, 10, 12, 84].

11.2. Материалы для фотоприемников

Так же как и для всех оптоэлектронных устройств, для фотоприемников важно использовать прямозонные полупроводники и фундаментальное поглощение вблизи края запрещенной зоны.

Последнее условие вызывает наличие красной границы в регистрации сигнала. Граничная длина волны λгр, выше которой отсутствует регистрация излучения,

при межзонных переходах определяется из следующих простых соотношений:

hνгр

= Eg; λгр

=

c

;

λгр

(мкм) =

1,22

.

(11.8)

 

 

 

 

 

Eg

 

 

Eg (эВ)

 

В табл. 11.1 приведены значения ширины запрещенной зоны для различных полупроводников и граничная длина волны, рассчитанная по соотношениям (11.8).

Таблица 11.1. Длина волны λгр, соответствующая началу межзонного поглощения, для различных полупроводников

Материал

Параметр

Ширина

запрещенной зоны Eg, эВ

Длина волны λгр, мкм

Карбид кремния SiC

Фосфид галлия GaP

Арсенид галлия GaAs

Кремний Si

Германий Ge

Арсенид индия InAs

Антимонид индия InSb

КРТ CdHgTe

3,0

2,26

1,42

1,12

0,66

0,36

0,17

0,10

0,4

0,54

0,86

1,09

1,85

3,4

7,2

12,2

 

 

 

 

 

 

 

 

При выборе фотоприемников также имеет значение спектр пропускания среды между приемником и источником. Обычно этой средой является или атмосфера, или оптоволокно. На рис. 11.2 и 11.3 приведены эти характеристики.

Gurtov.indd 301

17.11.2005 12:29:08

 

Глава 11. Фотоприемники

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ближняя

 

Средняя

 

 

 

Дальняя ИК-область

 

 

 

 

100

ИК-область

ИК-область

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

80

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

%

60

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Пропускание,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

40

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

20

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

1

2

3

4

5

6

7

8

9

10

11

12

13

14

15

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Длина волны, мкм

 

 

 

 

 

 

 

О2

Н2О СО2Н2О СО2О2

Н2О

 

СО2О3

 

 

Н2О СО2

 

СО2

 

 

 

 

 

 

 

Поглощающие молекулы

 

 

 

 

 

 

 

Рис. 11.2. Спектр пропускания атмосферы [82, 84]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Оптическое волокно на основе кварца

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

с добавкой GeO2

 

 

 

 

 

 

дБ/км

1,5

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Потери,

0,6

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,9

 

 

 

 

 

1,3

 

 

1,55

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Длина волны, мкм

 

 

 

 

 

 

Рис. 11.3. Спектр пропускания оптического волокна на основе кварца [8]

11.3. Фоторезисторы

При генерации в однородном полупроводнике, например n-типа проводимости, элек- тронно-дырочных пар при его освещении в полосе собственного поглощения происходит изменение концентрации основных nno и неосновных pno носителей. В том случае, если изменение концентрации основных носителей nno сопоставимо с их начальной концентрацией nno, то суммарная концентрация основных носителей nn = nno + nno возрастает, а следовательно возрастает и величина удельной проводимости. В том случае, если увеличение концентрации основных носителей существенно больше,

Gurtov.indd 302

17.11.2005 12:29:09

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]