
- •Глава 1. Введение
- •1.1. Классификация методов исследования наноструктур и поверхности твердого тела
- •1.2. Сверхвысокий вакуум
- •Глава 2. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
- •2.1. Общие замечания
- •2.2. Физические принципы РФЭС
- •2.3. Качественный анализ спектров
- •2.3.1. Спектроскопические обозначения уровней
- •2.4. Количественный анализ спектров. Расчет интенсивности
- •2.4.1. Характеристика процесса фотоионизации
- •2.4.2. Характеристика образца
- •2.4.3. Аппаратный фактор
- •2.4.4. Интенсивность фотоэлектронной линии
- •2.5. Количественный анализ спектров. Расчет энергии связи
- •2.6. Структура РФЭ спектров
- •2.6.1. Первичная структура РФЭ спектров
- •2.6.1.1. Остовные уровни
- •2.6.1.2. Спин-орбитальное расщепление уровней
- •2.6.1.3. Валентные уровни
- •2.6.1.4. Серии оже-переходов, возбуждаемых рентгеновским излучением
- •2.6.1.5. Сдвиг фотоэлектронных и оже-электронных линий
- •2.6.2. Вторичная структура РФЭ спектров
- •2.6.2.1. Ложные пики низкой интенсивности
- •2.7. Аппаратура для РФЭС
- •2.7.1. Источник рентгеновского излучения
- •2.7.2. Энергоанализатор
- •2.7.3. Детектор электронов
- •2.8. Использование метода РФЭС в исследовании наноструктур и поверхности твердого тела
- •2.8.1. Образование наноструктур на поверхности Si (100), индуцированное адсорбцией кислорода
- •2.8.3. Исследование кинетики роста островков оксидной фазы на поверхности Ni в окрестности точки Кюри
- •2.8.5. Эволюция электронной структуры нанокластеров благородных металлов
- •2.9. Контрольные вопросы к главе 2
- •3.1. Общие замечания и историческая справка
- •3.2. Физические основы ОЭС
- •3.3. Общий вид электронного спектра в ОЭС
- •3.4. Расчет кинетической энергии оже-электрона
- •3.5. Форма оже-электронных спектров
- •3.6. Тонкая структура оже-электронных спектров
- •3.8. Количественный анализ оже-электронных спектров
- •3.9. Сравнение характеристик ОЭС и РФЭС
- •3.10. Аппаратура для ОЭС
- •3.11. Использование метода ОЭС в исследовании наноструктур и поверхности твердого тела
- •3.12. Контрольные вопросы к главе 3
- •Глава 4. Спектроскопия рассеяния медленных ионов
- •4.1. Общие замечания
- •4.2. Физические основы СРМИ
- •4.3. Общий вид обзорного спектра РМИ
- •4.4. Интенсивность спектральных линий. Сечение рассеяния
- •4.5. Эффект нейтрализации ионов
- •4.6. Структурные эффекты в СРМИ
- •4.6.1. Эффект затенения
- •4.6.2. Эффект многократного рассеяния
- •4.6.3. Применение метода СРМИ для определения степени покрытия поверхности
- •4.6.4. Влияние структуры поверхности на линии спектров РМИ
- •4.7. Аппаратура СРМИ
- •4.8. Использование метода СРМИ в исследовании наноструктур и поверхности твердого тела
- •4.8.1. Исследование in situ эволюции электронной структуры наноразмерных слоев HfO2 при отжиге в вакууме
- •4.8.2. Исследование начальной стадии окисления поверхности никеля
- •4.8.3. Возбуждение электрон-дырочных пар в процессе рассеяния ионов на поверхности нанокластеров Au
- •4.8.4. Исследование релаксации поверхности Ag(111) при нагреве методом СРБИ
- •4.9. Контрольные вопросы к главе 4
- •Глава 5. Сканирующая зондовая микроскопия
- •5.1. Введение
- •5.2. Физические основы СТМ
- •5.3. Аппаратура для СТМ
- •5.4. Физические основы АСМ
- •5.5. Использование методов СЗМ в исследовании наноструктур и поверхности твердого тела
- •5.6. Контрольные вопросы к главе 5
- •Глава 6. Дифракция медленных электронов
- •6.1. Введение
- •6.2. Кристаллография поверхности
- •6.2.1. Трехмерные кристаллические решетки
- •6.2.2. Двумерные кристаллические решетки
- •6.2.3. Индексы Миллера для атомных плоскостей
- •6.3. Дифракция на кристаллической решетке
- •6.3.1. Дифракция на трехмерной решетке
- •6.3.2. Дифракция на двумерной решетке
- •6.4. Аппаратура, геометрия и структурные эффекты в ДМЭ
- •6.4.1. Влияние дефектов, доменной структуры и кластеров на поверхности
- •6.4.2. Учет тепловых колебаний атомов решетки
- •6.5. Использование метода ДМЭ в исследовании наноструктур и поверхности твердого тела
- •6.6. Контрольные вопросы к главе 6
- •ЗАДАЧИ
- •Список рекомендуемой литературы

Глава 2. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
2.1. Общие замечания
Историческая справка
Метод рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (x-rays photoelectron spectroscopy, XPS) имеет также другое название, вве-
денное его основоположником Каем Зигбаном (Kai Siegbahn) из Университета Уппаслы, Швеция – ЭСХА — электронная спектро-
скопия для химического анализа (electron spectroscopy for chemical analysis, ESCA).
Рис. 2.1. Кай Зигбан (1918-2007), шведский физик, лауреат Нобелевской премии по физике 1981 г. «за вклад в разработку метода электронной спектроскопии высокого разрешения». До последних дней жизни работал в Лаборатории Ангстрема Упсальского университета 5)
Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия зародилась при исследовании фотоэффекта (открыт Герцем в 1887 г.), в ходе которого в качестве источника возбуждения фотоэлектронов использовалось рентгеновское излучение. Затем последовали исследования Резерфорда, сделавшего в 1914 году первый шаг к выводу основного уравнения РФЭС. После первой мировой войны исследования проводились Робинсоном и Морисом де Бройлем. К 1920-м годам были получены спектры многих элементов. В 1925 г. Пьером Оже (Pierre Auger) был открыт эффект электронных переходов, названный его именем. С 1940-х годов в университете г. Упсала (Швеция) группа Зигбана исследовала спектроскопию бета-излучения. Был сделан вывод о возможности реализации электронной спектроско-
5) Фото с сайта: http://nobelprize.virtual.museum/nobel_prizes/physics/laureates/1981
31
пии с возбуждением, при помощи рентгеновского излучения вместо использования радиоактивных источников. В 1954 г. был получен первый РФЭС спектр NaCl с отдельными пиками и введен термин ЭСХА, более точно отражающий назначение метода (так как в РФЭС есть не только фото-, но и оже-электроны). В 1958 г. появилась работа по различению методом РФЭС металлической меди и ее оксида CuO. Начало 1970-х годов с улучшением методов получения СВВ ознаменовалось появлением первых стандартных фотоэлектронных спектрометров.
Отличительные особенности РФЭС
•Исследование приповерхностных слоёв. Толщина анализируе-
мого слоя определяется средней длиной свободного пробега λ (СДСП) фотоэлектронов относительно неупругих столкнове-
ний, которая составляет λ = 5–25 Å для металлов и оксидов и
λ = 40–100 Å для органических материалов и полимеров.
•Неразрушающий метод контроля поверхности: рентгеновское излучение не создаёт повреждений образца, имеющих место при ионной и электронной спектроскопии.
•Чувствительность к локальной электронной плотности. Анализ химического состава образцов.
Химические сдвиги наблюдаются и в оже-спектроскопии, однако интерпретировать их сложнее, так как кинетическая энергия оже-электронов определяется энергиями трёх уровней ожеперехода. Методы СРМИ и ВИМС прямой информации о химическом сдвиге не дают. Поэтому РФЭС в этом смысле представляет собой уникальный инструмент.
2.2. Физические принципы РФЭС
Метод основан на явлении фотоэффекта, т.е. поглощении веществом рентгеновского излучения с энергией hν (h=6.62×10-34 Дж с=6.62×10-27 эрг с – постоянная Планка, v – частота излучения) с последующей эмиссией фотоэлектрона.
32

Уравнение фотоэффекта, полученное Эйнштейном и представляющее собой закон сохранения энергии, для проводников имеет следующий вид:
hν = KE + BEj + φ, |
(2.1) |
где КЕ – кинетическая энергия фотоэлектрона, ВЕj (от англ. binding energy) – энергия связи электрона на электронном уровне j в атоме исследуемого вещества, отсчитываемая относительно уровня Ферми, φ – работа выхода материала входной щели энергоанализатора («работа выхода спектрометра»). Из уравнения (2.1) следует, что рентгеновский квант может возбудить любую атомную оболочку с энергией связи BEj < hν, однако различие вероятностей фотоионизации разных электронных оболочек приводит к неодинаковой интенсивности спектральных линий.
Рис. 2.2. Схематическое представление процессов фотоионизации (а), фотоэмиссии (б), рентгеновской флюоресценции (в) и оже-рекомбинации (г)
После фотоэмиссии на j-м уровне в атоме возникает вакансия. Такое состояние является энергетически невыгодным, поэтому она заполняется электроном с более высокого энергетического уровня k, в результате чего выделяется энергия, равная разности энергий
связи двух уровней BE = BE j − BEk . Эта энергия может быть
либо |
выделена в виде кванта электромагнитного излучения |
hv = |
BE (такие электронные переходы называются излучатель- |
33

ными), либо пойти на ионизацию другого электрона с уровня l при условии BEl < BE . В результате последнего процесса, называе-
мого оже-переходом с участием трех электронных уровней j, k и l, происходит эмиссия оже-электрона с кинетической энергией
KE jkl ≈ BE j − BEk − BEl −ϕ . |
(2.2) |
В результате в конечном состоянии после эмиссии ожеэлектрона атом находится в дважды ионизованном состоянии, в отличие от конечного состояния при излучательном переходе, которое однократно ионизовано. Схематическое представление начального и конечного состояний описанных процессов показано на рис.2.2.
Рис. 2.3. Схема измерения энергии связи в РФЭС для металлического образца в контакте со спектрометром (а) и изолированного от контакта со спектрометром (б): hv – квант рентгеновского излучения, поглощение которого сопровождается фотоионизацией электронного уровня образца Ek; EF – уровень Ферми образца;
Ev – уровень вакуума; ϕs – работа выхода образца; ϕsp – работа выхода спектро-
метра; BEk – энергия связи электрона на уровне Ek, определяемая относительно уровня Ферми образца; KE' – кинетическая энергия фотоэлектрона, покидающего образец; КЕ – кинетическая энергия фотоэлектрона, регистрируемая энергоанализатором [13, 14]
Схема измерения энергии связи в методе РФЭС для металлического образца представлена на рис.2.3. В том случае, когда между спектрометром и образцом имеется электрический контакт, проис-
34
ходит выравнивание уровня Ферми во всей системе «образецспектрометр» (рис.2.3, а). Для проводящих образцов отсчет энергии связи ВЕ проводится относительно уровня Ферми.
Кинетическая энергия покидающего образец фотоэлектрона, согласно (2.1), составляет
KE = hv − BE −ϕ , |
(2.3) |
здесь ϕ – работа выхода материала образца. Поскольку работа выхода материала входной щели спектрометра ϕsp в общем случае не
равна работе выхода материала образца, в области между образцом и входной щелью спектрометра имеется электрическое поле, действие которого на фотоэлектрон приводит к изменению его кинетиче-
ской энергии. Разность работ выхода ϕ −ϕsp определяет различие в положении уровней вакуума Evac , т.е. уровней энергии, для кото-
рых КЕ = 0 , для фотоэлектрона на вылете из образца и на входе в анализатор спектрометра. Это приводит к тому, что измеряемая анализатором кинетическая энергия фотоэлектрона KE′ отличается от значения, определяемого выражением (2.3), на величину
ϕ −ϕsp :
KE′ = hv − BE −ϕsp ,
KE′+ϕsp = KE +ϕ . |
(2.4) |
Таким образом, энергия связи электрона может быть определена из измеряемой анализатором кинетической энергии KE′ и известного для спектрометра значения ϕsp (которое определяется при калиб-
ровке спектрометра, т.е. измерении положения известной спектральной линии эталонного образца, например, линии золота
Au4f7/2):
BE = hv − KE′−ϕsp . |
(2.5) |
В случае непроводящего или изолированного от контакта со спектрометром образца (рис.2.3, б) выражение (2.5) становится неверным, поскольку положение уровней Ферми в материале спектрометра и образца (для изолированного проводящего образца) уже не совпадает (для непроводящего образца понятие уровня Ферми теряет смысл). К тому же, для таких образцов может иметь место эффект статической зарядки, приводящий к появлению дополни-
35