- •1. Лазерная поверхностная обработка, как технологическая система.
- •2. Дать развернутый анализ всех факторов и параметров процесса лазерной поверхностной обработки, их причинно-следственные связи; управляющие факторы.
- •3. Разработать алгоритм управления процессом лазерной поверхностной обработки, как самообучающейся системы.
- •4. Основные факторы и параметры, определяющие процесс лазерной поверхностной обработки.
- •5. Способы и устройства измерения мощности лазерного излучения.
- •6. Мощность лазерного излучения. Проходные измерители мощности, конструкции, область применения.
- •7. Методы и устройства измерения энергетических параметров лазерных пучков. Измерители типа «рси».
- •8. Пространственная структура выходных лазерных пучков, способы ее изменения и измерения ее характеристик (формы, размеров, распределения интенсивности).
- •9. Способы управления формой, размерами и распределением интенсивности сфокусированных лазерных пучков, методы их измерения.
- •10. Фокусирование лазерных пучков с Гауссовым распределением интенсивности и методика расчета df и di(Li) с учетом аберраций сферической линзы.
- •11. Особенности фокусирования сферическими линзами многомодовых пучков, методика расчета df, di(Li) и величины перетяжки.
- •12. Фокусирование лазерных пучков сферическим зеркалом, определение параметров фокусирования.
- •13. Системы фокусирования со сферическими зеркалами (тороидальными, фокусаторами, интегральными, специальными и др.)
- •14. Применение сканирующих систем при лазерной поверхностной обработке, конструкция и характеристики устройств.
- •15. Физические процессы, протекающие в материалах при лазерной поверхностной обработке с причинно-следственными связями.
- •16. Процесс поглощения (закономерности, коэффициент поглощения, поглощательная способность).
- •17. Пространственная структура выходных лазерных пучков, способы ее изменения и измерения ее характеристик (формы, размеров, распределения интенсивности).
- •18. Поглощательная способность материалов, ее изменение в зависимости от параметров лазерной обработки, способы и устройства ее измерения.
- •19. Способы повышения поглощательной способности материалов при лазерной поверхностной обработке.
- •20. Основные факторы, определяющие поглощательную способность материалов при лазерной обработке с характеристикой взаимосвязей, способы ее измерения.
- •3.Шероховатость поверхности
- •4.Нанесение покрытий
- •21. Влияние свойств лазерного излучения и обрабатываемого материала на поглощение; методы его увеличения.
- •22. Определение температур в поверхностном слое материалов при действии импульсного лазерного излучения.
- •23. Определение глубины зоны термического влияния (закалки) в поверхностном слое материалов при действии импульсного лазерного излучения.
- •24. Определение температур в поверхностном слое материалов при действии непрерывно действующего движущегося теплового источника (лазерного луча). Способы упрощения расчетов.
- •25. Методика расчета режимов лазерной обработки для получения упрочненного слоя в конкретном материале заданной глубины, ширины и твердости.
- •26. Методика расчета режимов лазерной обработки для получения максимальной глубины упрочненного слоя.
- •27. Методика расчета режимов лазерной обработки сканирующим лучом.
- •28. Общая характеристика структурно-фазовых превращений в сталях при лазерном облучении: нагрев, охлаждение, критические точки, критические скорости охлаждения, влияние содержания углерода.
- •29. Структурно-фазовые превращения в высоколегированных сталях при лазерном нагреве.
- •30. Особенности структурных превращений в чугунах при лазерном нагреве.
- •31. Структурно-фазовые превращения в углеродистых сталях при лазерной обработке.
- •32. Структурно-фазовые превращения в малоуглеродистых сталях при лазерной обработке.
- •33. Структурно-фазовые превращения в среднеуглеродистых сталях при лазерной обработке.
- •34. Структурно-фазовые превращения в заэвтектоидных сталях при лазерной обработке.
- •35. Особенности структурно-фазовых превращений в низколегированных сталях.
- •36. Особенности структурно-фазовых превращений в высоколегированных сталях.
- •37. Механизм лазерного упрочнения сталей, чугунов, цветных сплавов.
- •38. Особенности структурно-фазовых превращений в титановых и алюминиевых сплавах при лазерном нагреве.
- •39. Механизм лазерного упрочнения металлов.
- •40. Применение сканирующих систем при лазерной поверхностной обработке. Достоинства, недостатки, конструкции.
- •41. Влияние исходного структурного состояния сталей на характеристики упрочненного слоя (глубина, твердость, структура…)
- •42. Технологические схемы лазерного упрочнения импульсным и непрерывным излучением.
- •43. Износостойкость, коэффициент трения и коррозионная стойкость материалов, упрочненных лазерным излучением.
- •44. Влияние лазерного облучения на характер и величину остаточных напряжений.
- •45. Теплостойкость и износостойкость материалов, упрочненных лазерным излучением.
- •46. Влияние лазерной обработки на механические характеристики материалов.
- •47. Лазерное легирование и наплавка. Способы введения легирующих и наплавляемых материалов в злн. Характеристики, достоинства, недостатки.
- •48. Способы лазерного легирования и наплавки из предварительно нанесенного слоя. Принцип, область применения, достоинства, недостатки.
- •49. Инжекционный способ легирования и наплавки (лазерная газопорошковая наплавка (гплн)). Особенности, схемы процесса, характеристики, технологические возможности.
- •51. Лазерное микролегирование и наплавка из предварительно нанесенного слоя. Механизмы движения расплавленного металла.
- •52. Механизм лазерного микролегирования материалов.
- •53. Материалы (порошки), применяемые для лазерного микролегирования и наплавки.
- •54. Оборудование для поверхностной (упрочнение, легирование, наплавка) лазерной обработки (структурные схемы, типы и характеристики лазеров и других узлов лтк).
10. Фокусирование лазерных пучков с Гауссовым распределением интенсивности и методика расчета df и di(Li) с учетом аберраций сферической линзы.
Для фокусирования ЛП применяют плосковыпуклые и менисковые сферические фокусирующие линзы с различным фокусным расстоянием F = 50…400 мм и с различной апертурой D = 8…100 мм, изготовленные из KCl, NaCl, GaAs, ZnSe, Ge или для λ = 1,06 мкм из оптического стекла К8, оптической керамики КО-2 или кварца.
При этом параметры сфокусированного пучка определяются конструкцией резонатора (диаметром перетяжки D и расстоянием от перетяжки до фокусирующей линзы L0), фокусным расстоянием фокусирующей линзы, угловой расходимостью (а значит длиной волны, модовым составом), характеристиками материала линзы ее формой, точностью изготовления (абберации).
сферический

конфокальный r1= r2=r; R1=R2=R

плоско-сферический

Положение диаметра фокального пятна смещено по отношению к фокусному расстоянию F на величину Δ, которую можно определить:
![]()
LR
– длина Релея, которая определяется
длиной волны ЛИ и параметрами резонатора
![]()
D
– диаметр пучка падающего на линзу
– диаметр фокального пятна

θ0 – угловая расходимость пучка, падающего на линзу
Эти зависимости справедливы для фокусирующих систем технологических лазеров поскольку всегда L0 >> F.
С
учетом влияния длины волны излучения
![]()
Для поверхностной обработки сфокусированные пучки и пятно фокусирования равное фокальному применяется только в случае применения сканирующих систем. В остальных случаях используются расфокусированные пучки. При чем пятно фокусирования изменяется за счет изменения положения плоскости обработки относительно главной плоскости фокусирующей линзы. Поэтому при расчете необходимо определять каустику сфокусированного пучка di(Li)


где LRf – длина Релея, сфокусированного пучка
На практике фокусное расстояние линзы выбирается заранее исходя из технологических соображений:
длина фокуса обеспечивает фокусирование излучения в труднодоступных местах (например, обработка внутренней поверхности длинномерной гильзы);
при использовании длиннофокусных линз существенно увеличивается длина перетяжки в фокусе и уменьшается угол сходимости пучка, что позволяет вести обработку некоторых криволинейных поверхностей без слежения за фокусным расстоянием;
при использовании длиннофокусных линз диаметр пятна в фокусе может обеспечить обработку с распределением интенсивности более равномерным чем тоже самое при использовании линз с расфокусированием с меньшим фокусным расстоянием.
Рассчитав di(Li) строится соответствующая каустика для F1, F2 и F3. По этим данным проводится экспериментальное уточнение и формируется необходимая для работы база данных.
На практике с целью уменьшения диаметра пятна фокусирования применяют устройства увеличивающие диаметр пучка падающего на линзу. Это достигается применением специальных телескопических систем (телескоп Галилея, телескоп Кеплера).
11. Особенности фокусирования сферическими линзами многомодовых пучков, методика расчета df, di(Li) и величины перетяжки.
Для фокусирования ЛП применяют плосковыпуклые и менисковые сферические фокусирующие линзы с различным фокусным расстоянием F = 50…400 мм и с различной апертурой D = 8…100 мм, изготовленные из KCl, NaCl, GaAs, ZnSe, Ge или для λ = 1,06 мкм из оптического стекла К8, оптической керамики КО-2 или кварца.
При этом параметры сфокусированного пучка определяются конструкцией резонатора (диаметром перетяжки D и расстоянием от перетяжки до фокусирующей линзы L0), фокусным расстоянием фокусирующей линзы, угловой расходимостью (а значит длиной волны, модовым составом), характеристиками материала линзы ее формой, точностью изготовления (абберации).
сферический

конфокальный
r1= r2=r; R1=R2=R

плоско-сферический

Положение диаметра фокального пятна смещено по отношению к фокусному расстоянию F на величину Δ, которую можно определить:
![]()
LR – длина Релея, которая определяется длиной волны ЛИ и параметрами резонатора
![]()
D – диаметр пучка падающего на линзу
– диаметр
фокального пятна

θ0 – угловая расходимость пучка, падающего на линзу
Эти зависимости справедливы для фокусирующих систем технологических лазеров поскольку всегда L0 >> F.
С учетом влияния длины волны излучения
![]()
Для поверхностной обработки сфокусированные пучки и пятно фокусирования равное фокальному применяется только в случае применения сканирующих систем. В остальных случаях используются расфокусированные пучки. При чем пятно фокусирования изменяется за счет изменения положения плоскости обработки относительно главной плоскости фокусирующей линзы. Поэтому при расчете необходимо определять каустику сфокусированного пучка di(Li)


где LRf – длина Релея, сфокусированного пучка
На практике фокусное расстояние линзы выбирается заранее исходя из технологических соображений:
длина фокуса обеспечивает фокусирование излучения в труднодоступных местах (например, обработка внутренней поверхности длинномерной гильзы);
при использовании длиннофокусных линз существенно увеличивается длина перетяжки в фокусе и уменьшается угол сходимости пучка, что позволяет вести обработку некоторых криволинейных поверхностей без слежения за фокусным расстоянием;
при использовании длиннофокусных линз диаметр пятна в фокусе может обеспечить обработку с распределением интенсивности более равномерным чем тоже самое при использовании линз с расфокусированием с меньшим фокусным расстоянием.
Рассчитав di(Li) строится соответствующая каустика для F1, F2 и F3. По этим данным проводится экспериментальное уточнение и формируется необходимая для работы база данных.
Данная методика применяется для Гауссовых пучков. Для многомодовых пучков все данные необходимо скорректировать:

С учетом модовового состава пучка на коэффициент b:
–для
пучков с цилиндрической симметрией
–для
пучков с прямоугольной симметрией
р – количество минимумов по радиусу
l – количество минимумов поделенных на 2 по азимуту
s – количество минимумов по осям или х или у
Глубина фокуса может быть определена как:
![]()
α – коэффициент, представляющий собой отношение диаметра пучка в точке каустики к диаметру пятна в фокусе.
В реальных условиях диаметр пятна фокусирования увеличивается за счет аберраций вносимых фокусирующей линзой. С учетом аберраций:
![]()
k1 – коэффициент зависящий от материала (коэффициента преломления) и формы фокусирующей линзы.
На практике с целью уменьшения диаметра пятна фокусирования применяют устройства увеличивающие диаметр пучка падающего на линзу. Это достигается применением специальных телескопических систем (телескоп Галилея, телескоп Кеплера).
