Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Скачиваний:
32
Добавлен:
11.05.2015
Размер:
541.7 Кб
Скачать

Лекция №8

Тема: Диэлектрические материалы для микроэлектроники

1.Классификация диэлектрических материалов и основные предъявляемые требования

2. Функциональное назначение диэлектриков в микроэлектронике

Основные требования, предъявляемые к диэлектрикам, используемым в

микроэлектронике.

тонкопленочные диэлектрики (толщиной до 1 мкм);

толстопленочные диэлектрики (толщиной свыше 1 мкм).

Тонкие диэлектрические пленки должны

обладать следующими свойствами:

высокая механическая прочность;

высокая химическая стабильность;

по возможности разумная толщина ( 1000 Å)

минимальное количество дефектов и примесей;

слабая чувствительность к влаге;

отсутствие проколов или нарушений сплошности;

незначительное физическое изменение со временем (старение и температурная зависимость);

большая ширина запрещенной зоны;

аморфная структура.

Классификация тонкопленочных диэлектриков

Диэлектрические пленки оксидов

Пленки моноокиси и двуокиси кремния.

Характеристика

Диэлектрический

 

материал

 

SiO

GeO

Удельная емкость, пФ/см2

10000

20000

(при толщине пленки 0,5 мкм)

 

 

Рабочее напряжение, В

15

15

tg

0,002 0,001

0,002 0,01

ТКС 106, 0С-1

50 400

30 400

Eпр, В/мкм

100 300

100 300

Диэлектрическая проницаемость

4 7

9 12

Способы формирования диоксида кремния

1. Термическое окисление кремния в окислительной среде и парах воды

Si + O2 SiO2

Si + 2H2O SiO2 + 2H2

2. Пиролиз – термическое разложение кремний-

органических соединений в вакууме

Si(OC2H5)4 SiO2 + 4C2H4+ 2H2O

3. Окисление силана кислородом

SiH4(газ) + 2O2(газ) SiO2(тверд) + 2H2O(газ)

Пленки нитридов

1. Взаимодействие кремния с азотом – нитрирование в потоке азота

3Si + 2N2газ Si3N4 (1100-1300 C)

2. Взаимодействие силана с аммиаком

3SiH4газ + 4NH3газ Si3N4 +12H2(700-1100 C)

3. Взаимодействие силана с гидразином

SiH4газ + N2H4 Si(NH)2 +3H2 (550 C)

2 Si(NH)2 (SiN)2NH + NH3

3(SiN)2NH 2 Si3N4+ NH3

4. Реактивное катодное осаждение

Устройство импульного лазерного осаждения

Устройство вакуумного распыления

Свойства неорганических диэлектрических пленок

Соедине- ние

SiO

GeO

SiO2

Ta2O5

Si3N4

Al2O3

 

tg ,

Eпр,102,

ТКС,10-6

Диапазон

 

f=1 кГц

В/м

1/ С

толщины,

 

 

 

 

мкм

5-7

0,01-0,03

1-3

400-700

0,3-4,0

9-12

0,01-0,03

1-3

400-700

0,3-3,0

4

0,001-0,04

3

100

0,08-1,0

22-50

0,01-0,5

1-3

250-350

0,05-0,25

5-7

0,003-0,01

10

300-400

1,0

9-10

0,002-0,01

 

 

 

8-10

0,002-0,01

2-6

200-300

0,04-0,3

Соседние файлы в папке МЭТиТИП - лекции 3-17