
- •ТЕХНОЛОГИЯ ОТМЫВКИ ЭЛЕКТРОННЫХ МОДУЛЕЙ ПОСЛЕ СБОРКИ И МОНТАЖА
- •Необходимость очистки модулей
- •Проблемы отмывки модулей после монтажа
- •Моющие растворы
- •Очистка в водных растворах ПАВ
- •МРС технология очистки
- •Сравнение работы ПАВ и МРС
- •Оборудование струйной отмывки модулей
- •Ультразвуковая очистка
- •Физика ультразвуковых волн в жидкости
- •Параметры УЗ воздействия
- •Параметры УЗ воздействия
- •Конструкции УЗ ванн очистки
- •Способы крепления преобразователей в УЗ ваннах
- •Способы подключения ПЭП
- •Расположение ПЭП
- •Форма выходного сигнала УЗГ
- •Оборудование УЗ отмывки модулей
- •УЗ ванны отмывки
- •УЗ ванны “Сапфир”
- •Настройка режимов УЗО
- •Приборное обеспечение УЗ очистки
- •Схема кавитометра
- •Режимы УЗО
- •Автоматизированные линии УЗ очистки
- •Автоматизированная линия АКП-1
- •Особенности линий очистки
- •Выбор жидкости для отмывки
- •Оценка качества отмывки
- •Контроль ионных загрязнений

ТЕХНОЛОГИЯ ОТМЫВКИ ЭЛЕКТРОННЫХ МОДУЛЕЙ ПОСЛЕ СБОРКИ И МОНТАЖА
Д.т.н., профессор Ланин В.Л. |
Кафедра Электронной |
|
техники и технологии |

Необходимость очистки модулей
•Очистка электронных изделий после пайки — заключительная операция, ответственная за полноту удаления всех загрязнений, сопровождающих производство печатных плат, хранение, сборку и пайку. Поэтому очистка должна удалять загрязнения всех типов: солей электролитов, травящих растворов, флюсов, активаторов флюсов, жировые отпечатки пальцев, пыль, абразивные частицы.
•Некачественная очистка изделий при их эксплуатации или хранении приводит к снижению сопротивления изоляции, физическому
разрушению проводников в результате коррозии, сами продукты коррозии могут привести к утечке тока, нарушению влагозащитного покрытия и т. д. Все это приводит к снижению показателей надежности изделий.
•Анализ причин отказов изделий электроники показывает, что их четвертая часть приходится на долю плохого качества очистки поверхностей.

Проблемы отмывки модулей после монтажа
1.Повышение плотности монтажа в связи с переходом на поверхностный монтаж с шагом менее 1,27 мм.
2.Применение паяльных паст, имеющих в своем составе до 12 различных органических соединений.
3.Малые зазоры между компонентами и платой усиливают действие капиллярного эффекта и затягивание флюса в зазоры.
4.При переходе на бессвинцовые припои повышение температуры пайки вызывает карбонизацию флюса, что снижает его растворимость.
5.Повышение надежности и стабильности работы электронных модулей требует совершенствования процессов очистки от ионных загрязнений.
6.Ручная очистка органическими растворителями приводит к значительному количеству брака, травматизму, выбросам паров растворителей в атмосферу и загрязнению окружающей среды. Основной недостаток спиртов: их пожаро- и взрывоопасность. Хлорированные углеводороды токсичны, обладают канцерогенным и мутагенным действием, образуют смог и требуют утилизации отходов методом захоронения. Хладоны разрушают озоновый слой и усиливают парниковый эффект.

Моющие растворы
Должны удовлетворять следующим требованиям:
1.Иметь возможно большую величину поверхностного натяжения для проникновения в зазоры,
2.Обладать высокой активностью по отношению к загрязняющим веществам,
3.Удалять как органические, так и неорганические полярные загрязнения.
По очистительной способности и химическому составу подразделяются на:
-гидрофобные, которые не смешиваются с водой и удаляют органические загрязнения ( канифоль, жиры) и в меньше степени полярные загрязнения (органические растворители),
-гидрофильные на основе водных растворов ПАВ и МРС фаз для удаления полярных загрязнений.

Очистка в водных растворах ПАВ
Органические растворители токсичны и требуют регенерации после
отмывки. |
|
Водные растворы ПАВ эффективно растворяют |
загрязнения с |
поверхности плат при струйной и УЗ очистке. Стоимость 11,5 евро/ л. Однако ПАВ постепенно истощаются (срок работы 2 смены) и образуют
жесткие связи с частицами загрязнений (белый налет на поверхности

МРС технология очистки
|
Промывочные жидкости с микрофазами |
||
|
по технологии Micro Phase Cleaning MPC |
||
|
отрывают загрязнения от поверхности и |
||
|
перемещают их в водную среду, не |
||
|
образуя жестких связей с ними. Далее |
||
|
загрязнения |
удаляют из |
моющего |
|
раствора механическими |
фильтрами. |
|
: |
Промывочная |
жидкость |
постоянно |
регенерируется и не истощается. Промывочная жидкость VIGON по МРС технологии компании Zestron имеет срок работы 180 смен, стоимость 25,6 евро/л и безопасность 0-0-0 при применении.

Сравнение работы ПАВ и МРС

Оборудование струйной отмывки модулей
Моющая жидкость подается на поверхность модулей под давлением 0,2-0,4 МПа, температура до 50 С/
Кассеты для размещения электронных модулей при групповой отмывке

Ультразвуковая очистка
•Воздействие УЗ полей на жидкие среды вызывает в них процессы
кавитации, а также макро- и микропотоки в объеме жидкости, прилегающей к излучаемой поверхности ванны. Захлопывание кавитационных газовых полостей сопровождается образованием ударных микроволн, давления в которых могут достигать (1–5) •108 Па. Такие микроудары разрушают не только оксидные пленки и загрязнения на обрабатываемой поверхности изделий, но и в определенной степени изменяют морфологию поверхности.
•Микро- и макропотоки способствуют удалению загрязнений и ускорению процесса очистки микрорельефной поверхности. Обусловленные кавитацией динамические и тепловые эффекты, возникновение микро– и макропотоков, определяют интенсификацию процесса удаления загрязнений со сложно профилированных поверхностей изделий под действием УЗ поля.

Физика ультразвуковых волн в жидкости
•В жидкостях имеют место только продольные колебания, т.к. жидкая среда не имеет упругости формы. Звуковые волны малой амплитуды
|
описываются уравнением |
д2 y |
|
c2 |
д2 y |
|
|
|
|
|
|||
• |
|
дt2 |
дx2 |
(1) |
||
|
|
|
|
•где у – смещение частицы, х – координата частицы, t – время, с – скорость звука в среде.
•Решением уравнения (1) является уравнение плоской волны:
• у = Asin(wt – кх), |
(2) |
•где А - амплитуда, w - круговая частота; к - волновое число,
•к = w/c = 2 λ – длина УЗ волны.