+Е



























МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Московский государственный Институт Электроники и Математики
(Технический университет)
Кафедра электроники и электротехники
КУРСОВОЙ ПРОЕКТ
«КМОП-инвертор»
по дисциплине “ ЭЛЕКТРОНИКА И ЭЛЕКТРОТЕХНИКА ”
Выполнила: Аронова О.Д., С-43
Руководитель: Орехов Е.В.
Москва 2010
Задание:
1) описать принцип работы схемы;
2) выбрать и описать технологию изготовления схемы;
3) нарисовать структуру транзистора;
4) рассчитать параметры элементов схемы;
5) с помощью SPICE рассчитать:
А) передаточную характеристику схемы: UВЫХ (UВХ); по ней – уровни логи-
ческого нуля (U0) и единицы (U1), запас помехоустойчивости;
Б) потребляемый ток: IПОТР (UВХ);
В) переходную характеристику схемы: UВЫХ (t); по ней – времена задержек
и фронтов переключения, максимальную рабочую частоту схемы (fmax);
6) статическую и динамическую потребляемую мощность;
7) нарисовать топологию всей схемы (в масштабе);
8) сравнить в аналогами, выпускаемыми промышленностью (из справочников).
Исходные данные:
КМОП-схема «НЕ», минимальный размер 5 мкм, толщина окисла 50 нм
Принцип работы:
n-канального транзистора с индуцированным каналом
При подаче на затвор транзистора положительного напряжения, называемого пороговым, происходит формирование канала между n+ областями стока и истока при помощи притянутых носителей тока, имеющих отрицательный заряд – электронов, и отталкивания носителей, имеющих положительный заряд – «дырок» , транзистор открывается. При падении напряжения на затворе U<Uпор канал исчезает и транзистор закрывается.
p-канального транзистора с индуцированным каналом
При подаче на затвор транзистора отрицательного напряжения, называемого пороговым, происходит формирование канала между p+ областями стока и истока при помощи притянутых носителей тока, имеющих положительный заряд – «дырок», и отталкивания носителей, имеющих отрицательный заряд – электронов , транзистор открывается. При увеличении напряжения на затворе U>Uпор канал исчезает и транзистор закрывается.
Схемы КМОП-инвертора


Технология изготовления

-
Нанесение слоя окисла

-
Имплантация атомов примеси (В)

-
Имплантация атомов примеси (P)

-
Имплантация атомов примеси (В) в большой концентрации

-
Имплантация атомов примеси (P) в большой концентрации

-
Наращивание нового слоя окиси, вытравливание места под «барьер»

-
Наращивание барьера из окисла

-
Нанесение слоя поликремния

-
Вытравливание «окошка» для имплантации. Имплантация примеси (В) в большой концентрации (создание р-канального транзистора)

10. Вытравливание «окошка» для имплантации. Имплантация примеси (Р) в большой концентрации (создание n-канального транзистора)

-
Покрытие слоем окисла областей затвора (тех, на которых остался слой поликремния). Напыление слоя алюминия
Разрез схемы

Р
2
1
3
0
Текст входного файла
*cmos
.model N NMOS (LEVEL=3 W=1.5e-5 L=5e-6 AD=7.65e-11 AS=7.65e-11 +PS=4.02e-5 PD=4.02e-5 VTO=1.6 kp=2.69e-5 LD=1e-6 TOX=50n +NSUB=5e14 +Cj=2.16e-7 Cjsw=2.16e-13 CGSO=6.73e-11
+CGDO=3.36e-15 CGBO=9.17e-1 +xj=1u UO=400)
.model P PMOS (LEVEL=3 W=3e-5 L=5e-6 AD=1.53e-10 AS=1.53e-10
+ PS=7.02e-5 PD=7.02e-5 VTO=-1.6 kp=1.34e-5 LD=1e-6 TOX=50n +NSUB=5e17 + Cj=7.05e-8 Cjsw=7.05e-14 CGSO=6.73e-11
+ CGDO=6.73e-11 CGBO=1.83e-9
+ xj=1u UO=200)
M1n 3 1 0 0 N
M2p 2 1 3 2 P
V1p 2 0 5
V2in 1 0 0
.dc V2in 0 5 0.001
.end
Передаточная характеристика(статический режим)
Uout(Uin)
Vn0
Vn1
Un+
Un-





Uлог0=0 В Напряжение логического нуля
Uлог1=5 В Напряжение логическо единицы
Vn0=2,35 B Пороги переключения
Vn1=4,5 B
Un+= Vn0 - Uлог0=2,1 B Помехоустойчивость по положительной помехе
Un-= Vn1 – Uлог1=2,65 В Помехоустойчивость по отрицательной помехе
Ток потребления

Ip0=Ip1=0 (в статическом режиме)
Переходная характеристика (динамический режим)
Схема
1
2
4
3
0
5
Входной файл:
*cmos tran
.model N NMOS (LEVEL=3 W=1.5e-5 L=5e-6 AD=7.65e-11 AS=7.65e-11 +PS=4.02e-5 PD=4.02e-5 VTO=1.2756 kp=2.69e-5 LD=1e-6 TOX=50n +NSUB=5e14 Cj=2.16e-7 Cjsw=2.16e-13 CGSO=6.73e-11 CGDO=3.36e-15 +CGBO=9.17e-11 xj=1u UO=400)
.model P PMOS (LEVEL=3 W=3e-5 L=5e-6 AD=1.53e-10 AS=1.53e-10 +PS=7.02e-5 PD=7.02e-5 VTO=-1.2756 kp=1.34e-5 LD=1e-6 TOX=50n +NSUB=5e15 Cj=7.05e-8 Cjsw=7.05e-14 CGSO=6.73e-11 CGDO=6.73e-11 +CGBO=1.83e-9 xj=1u UO=200)
M1n 3 1 0 0 N
M1p 2 1 3 2 P
M2n 4 3 0 0 N
M2p 2 3 4 2 P
M3n 5 4 0 0 N
M3p 2 4 5 2 P
V1p 2 0 5
V2in 1 0 PULSE(0V 5V 1ns 1ns 1ns 50ns 100ns)
.tran 1ns 200ns
.end

t01 t10


Время задержки:
t01=1нс
t10=0,9нс
tз= (t01+ t10)/2
tз=1 нс
Продолжительность фронтов
tф+=1,3 нс
tф-=1,3 нс
Максимальная рабочая частота
Fmax=0,6*(tф++ tф-)=0,23*109 Гц
Потребляемая мощность
- статическая
Pст=Eп*(I0+ I1)/2
Pст=0
-динамическая
Рдин=Ссум*Eпит^2*Fmax
Pдин=1.14*10-4 Вт
Сравнение с выпускаемыми аналогами
Образец – К176ЛП1
|
Микросхема/ Параметр сравнения |
К176ЛП1 |
Спроектированная схема |
|
Напряжение питания |
3-15 В |
5 В |
|
Мощность потребления |
4*10-7 Вт |
1.14*10-4 Вт |
|
Время задержки |
50 нс |
1 нс |
Вывод: спроектированная микросхема отличается высоким энергопотреблением, но работает с очень маленьким временем задержки
Литература
-
Рябов Никита Иванович «Методическое пособие к выполнению курсового проекта по дисциплине “ Электроника и электротехника ”»
-
В. В. Ракитин «Интегральные схемы на КМОП-транзисторах»
-
М.Ф. Пономарев Б.Г. Коноплев «Конструирование и расчет микросхем и микропроцессоров»
