Метод нанесения центрифугированием
31
Метод нанесения пульверизацией
1 – область разрежения;
2 – сопло; 3 – форсунка;
4 – регулирующая игла;
5 – распыляющий газ;
6 – подача фоторезиста
32
Нанесение фоторезиста в электростатическом поле
1 – форсунка;
2 – кольцевой электрод;
3- подложка;
4 - столик
33
Схема нанесения сухого пленочного фоторезиста
1 – пленочный фоторезист; 2 – медное покрытие; 3 – диэлектрическое основание; 4 – светонепроницаемая
лавсановая пленка; 5 – защитная полиэтиленовая пленка; 6 – накатывающий валик
34
Нанесение спреем по высокой топографии - SUSS AltaSpray system
Успешное покрытие пленкой резиста подложек со сложной топографией
Delta 80 может обрабатывать тонкие и хрупкие пластины до 8 дюймов ( 200 мм) или подложки до 6х6 дюймов (150х150 мм) Уникальный дизайн камеры нанесения обеспечивает значительно лучшую равномерность нанесения по сравнению с центрифугами с открытой чашей. В то же время Delta может сократить потребление резистов до 60% (на примере BCB). Delta обеспечивает отличное покрытие высокой топографии.
Особая конструкция крышки исключает турбулентные потоки в мини-камере над обрабатываемой пластиной, что дает равномерное и постоянно по толщине покрытие без дефектов, обычно присущих центрифугированию (рикошетных отражений, брызг, дорожек, эффектов «кометы», плохого покрытия углов квадратных и прямоугольных подложек).
Благодаря насыщенной растворителем атмосфере внутри камеры не проявляется эффект «сухой кожи» на слое резиста. Прекрасные результаты достигаются независимо от слоя резиста – как на толстых, так и на тонких. Сравните обычное нанесение с нанесением при помощи GYRSET:
Схема совмещения и экспонирования
Маска
Фоторезист на подложке