Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
ФОЭ-И-23,24 бн 2014 г / Электроника УрТИСИ Копи.ppt
Скачиваний:
189
Добавлен:
11.04.2015
Размер:
11.32 Mб
Скачать

Литография

Разрешающая способность.

Она оценивается максимальным числом линий раздельно воспроизводимых в маске в пределах 1 мм. Принципиальным ограничительным фактором является дифракция света. Нельзя получить линию толщиной менее длины волны λ света.

Для повышения разрешающей способности применяют:

-Освещение ультрафиолетовым светом,

-Рентгеновская литография.

-Электронно-лучевая литография.

474

3.БИПОЛЯРНЫЕ СТРУКТУРЫ

ВИМС применяются в основном транзисторы n-p-n-типа. Их особенность в интегральном исполнении состоит в наличии дополнительных областей, изолирующей их от общей полупроводниковой подложки.

Все выводы от областей транзистора располагаются в одной плоскости на поверхности подложки. Такая структура называется планарной.

349

3.1 Структура эпитаксиально-планарного транзистора

Транзистор выполнен на высокоомной подложке ртипа. Локальной диффузией донорных примесей создается скрытый слой n+-типа.

Диффузией бора через маску формируют изолирующую область р+-типа окружающую коллекторную область n-типа.

В пленке диоксида кремния , покрывающей поверхность кристалла, создают контактные отверстия через которые напылением пленки алюминия формируют контакты к эмиттеру, коллектору, базе, подложке.

476

Структура эпитаксиально-планарного транзистора

 

Э

Б

К

Al

SiO2

р+

n+

р

n+

р+

 

 

 

 

n

 

 

 

 

n+

 

 

 

р-

 

 

 

Si

 

477

МНОГОЭМИТТЕРНЫЕ ТРАНЗИСТОРЫ

Многоэмиттерные транзисторы n-p-n-типа отличаются от обычных тем, что в их базовой области р-типа создают несколько эмиттерных областей n+-типа.

Основная область применения МЭТ – цифровые микросхемы транзисторно-транзисторной логики (ТТЛ).

к

Б

э

Б

э

к

 

478

ТРАНЗИСТОРЫ С ДИОДОМ ШОТКИ

Э

Б

К

Al

SiO2

n+

р

n+

 

 

 

 

n

 

 

р+

n+

 

р+

 

р-

 

 

Si

 

 

 

К

 

 

 

Б

 

 

 

 

 

Э

 

479

 

 

 

 

РЕЗИСТОРЫ

В микросхемах в качестве резисторов применяются базовые высокоомные слои р-типа. Изопланарная структура может быть следующей.

В

В

Al SiO2

р

n+

n

n

n+

Si

р-

480

КОНДЕНСАТОРЫ Структура МДП-конденсатора может быть следующей.

Одной из обкладок является n+-слой, другой – слой металла (алюминий), а диэлектриком – слой диоксида кремния

В

В Al SiO2

р

n

 

 

р-

Si

 

 

482

При создании интегральной схемы памяти МОП -транзисторы с плавающим затвором очень

часто выполняются в едином технологическом цикле в паре с обычным МОП-транзистором с управляющим затвором.

И2

С2

И1

З

С1

p+-

p -

p+-

 

р+-

 

n-

 

 

 

483

В последние годы разработан новый элемент

 

флэш- памяти, названный StrataFlash, в котором

 

в одном элементе памяти хранятся два бита.

 

Это достигается тем, что в плавающем затворе

 

транзистора определяется не только наличие

 

или отсутствие заряда, но и измеряется его

 

абсолютная величина (а в случае необходимости

 

— и его знак) по нескольким заданным

 

значениям. В частности, записывая и затем

 

определяя четыре значения величины заряда,

 

можно хранить в одном элементе два бита

 

информации.

484