
- •Исследование свойств и характеристик полупроводниковых структур
- •140205, 140211, 140604, 140605, 140606, 140607, 140608, 210106
- •Даются описание лабораторных установок, порядок выполнения работы, задания и краткие сведения из теории.
- •Редактор э.Б. Абросимова
- •Цель работы
- •Классификация полупроводниковых материалов
- •Электропроводимость полупроводников Собственная проводимость полупроводников
- •Примесная проводимость полупроводников
- •Простые полупроводниковые материалы Германий
- •Кремний
- •Контактные явления
- •Электронно-дырочный переход при воздействии внешнего электрического поля
- •Переход металл-полупроводник
- •Невыпрямляющий (омический) переход
- •Выпрямляющий переход
- •Полупроводниковые приборы
- •Полупроводниковые диоды
- •Биполярный транзистор
- •Диодные включения транзисторов
- •Содержание работы
- •Описание лабораторной установки
- •Описание програмного интерфейса Основное меню
- •Панель инструментов
- •Окно измерений
- •Меню настройки
- •Порядок выполнения работы
- •Обработка результатов
- •Часть I «Исследование диодных структур» содержит:
- •Часть II «Исследование транзисторных структур» содержит:
- •Контрольные вопросы
- •Список литературы
Контактные явления
В ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ МАТЕРИАЛАХ
Различают два вида контактных явлений в полупроводниках:
- электронно-дырочный переход;
- переход металл-полупроводник.
ЭЛЕКТРОННО-ДЫРОЧНЫЙ ПЕРЕХОД
Область на границе двух полупроводников с различными типами электропроводности называется электронно-дырочной или р-n-переходом.
Электронно-дырочный переход является рабочим элементом большинства полупроводниковых приборов (диодов, транзисторов, тиристоров и т.д.) и интегральных микросхем.
Электронно-дырочный переход
при отсутствии внешнего электрического поля
В каждом из полупроводников р- и n-типов, объединенных в общую структуру, заряды совершают беспорядочное тепловое движение. В результате происходит их диффузия из одного полупроводника в другой. Как и при любой другой диффузии, например в газах и жидкостях, носители заряда перемещаются из области с большей концентрации в область с меньшей. Так из области полупроводника р-типа дырки диффундируют область полупроводника n-типа, а электроны из n-области в р-область (рис. 5). Концентрации основных и неосновных носителей, обусловливающие диффузию, изображены на графике (рис. 5).
Движение заряженных частиц под действием градиента концентрации называется диффузией, а обусловленный этим движением ток называется диффузионным.
Диффузия основных носителей (электронов и дырок) создает ток, состоящий из двух составляющих
Iдиф= Inдиф +Ipдиф
В результате диффузии носителей по обе стороны границы раздела создаются объемные заряды.
Дырки, пришедшие в область n, рекомбинируют с электронами, что
Рис. 5. р-n-переход при отсутствии внешнего электрического поля
|
приводит к созданию в пограничной области объемного заряда положительного знака, образованного главным образом положительно заряженными ионами атомов донорной примеси и, в небольшой степени, - пришедшими в эту область дырками. Подобно этому в области р возникает отрицательный объемный заряд, образованный отрицательно заряженными ионами акцепторной примеси и, отчасти, пришедшими сюда электронами. Между образовавшимися объемными зарядами возникает так называемая контактная разность потенциалов (рис. 5):
Таким образом, в p-n-переходе возникает потенциальный барьер, препятствующий |
диффузионному переходу носителей. Высота барьера равна контактной разности потенциалов и не превышает для германия 0,7В, а для кремния 1,1В. В результате чего диффузионный ток убывает. Одновременно с диффузионным перемещением основных носителей происходит и обратное движение неосновных носителей под действием электрического поля контактной разности потенциалов.
Движение носителей заряда под действием электрического поля называют дрейфом, а ток - током дрейфа.
В данном случае дырки из n-области перемещаются в p-область, а электроны из p-области в n-область. Дрейфовый ток тоже имеет две составляющие
Iдр= Inдр +Ipдр.
В установившемся режиме диффузионные и дрейфовые токи равны между собой, а полный ток перехода
Iпер= Iдиф +Iдр.
Следует отметить, что область р-n-перехода, обедненная подвижными носителями, обладает повышенным сопротивлением и называется запирающим слоем.