
- •«Мати – Российский государственный технологический университет имени к.Э. Циолковского»
- •Расчет и конструирование прямоугольных резисторов и резисторов типа меандр тонкопленочных гис и микросборок
- •Введение
- •1.Краткие теоретические сведения по конструированию резисторов гис
- •Проводниковые материалы
- •2. Цель лабораторной работы
- •3. Описание лабораторной работы и порядок ее выполнения
- •3.1. Расчет прямоугольного резистора
- •Характеристики материалов для пленочных резисторов
- •3.2. Расчет резистора типа "меандр"
- •4.Содержание отчета
- •5. Контрольные вопросы к лабораторной работе
- •6. Литература
- •Содержание
МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение
Высшего профессионального образования
«Мати – Российский государственный технологический университет имени к.Э. Циолковского»
Кафедра «Управление инновациями»
Расчет и конструирование прямоугольных резисторов и резисторов типа меандр тонкопленочных гис и микросборок
Методические указания к лабораторной работе по курсу
«Основы микроэлектроники»
Составитель: Епанешникова И.К.
Москва
УДК 621.385
ББК 32.844.1
Епанешникова И.К. РАСЧЕТ И КОНСТРУИРОВАНИЕ ПРЯМОУГОЛЬНЫХ РРЕЗИСТОРОВ И РЕЗИСТОРОВ ТИПА МЕАНДР ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ГИС И МИКРОСБОРОК. Методические указания к лабораторной работе по курсу «Основы проектирования электронных средств» М.: «МАТИ - РГТУ им.К.Э.Циолковского», 2014 – 12 с.
Лабораторная работа посвящена изучению вопросов конструирования и расчета тонкопленочных резисторов ГИС.
Конструктивный расчет тонкопленочных резисторов заключается в определении формы, геометрических размеров и минимальной площади, занимаемой резисторами на подложке. Конструкцию резистора определяют по значению коэффициента формы. Порядок дальнейшего расчета зависит от формы резистора. Предложен расчет резистора прямоугольной формы, резистора типа "меандр" и резисторов повышенной точности с дискретной и лазерной подгонкой.
Введение
Гибридные ИМС (ГИС) представляют собой комбинацию пленочных пассивных электрорадиоэлементов с миниатюрными бескорпусными дискретными активными приборами, расположенными на общей диэлектрической подложке.
В настоящее время накоплен достаточный опыт в технологии микроэлектронных изделий, для того, что бы определить, какой из конструктивно - технологических вариантов больше всего соответствует данному типу схемы.
Наиболее подходит для изготовления по тонкопленочной технологии микросхемы, в которых число пассивных элементов намного превосходит число активных элементов. Большинство логических схем содержат значительное количество активных элементов, поэтому для их изготовления лучше использовать технологию полупроводниковых ИС. В тоже время и аналоговые схемы, состоящие обычно из множества пассивных компонентов и лишь нескольких транзисторов, лучше всего выполнять в виде гибридных ИС.
Основными конструктивными элементами и компонентами тонкопленочных ГИС являются: подложка, пленочные резисторы и конденсаторы, проводники и контактные площадки, навесные бескорпусные п/п приборы и микросхемы, навесные бескорпусные компоненты, корпус.
1.Краткие теоретические сведения по конструированию резисторов гис
Пленочные резисторы располагают на поверхности диэлектрической подложки. Конструктивно он состоит из резистивной пленки, имеющей определенную конфигурацию, и контактных площадок. При выборе материалов резистивной пленки рекомендуется стремиться к тому, что бы все резисторы одной подложки были выполнены из одного резистивного материала с одним и тем же удельным поверхностным сопротивлением ρs.
Удельное поверхностное сопротивление ρs пленки или любого другого слоя, например, диффузионного играет важную роль в расчетах, связанных с сопротивлением элементов различных конфигураций.
Рассмотрим квадрат резистивной пленки с удельным объемным сопротивлением ρo, толщиной d , со стороной l , шириной в, т.е. площадью поперечного сечения S, через которую протекает электрический ток.
Тогда из известного выражения:
(1)
можно получить выражение для удельного поверхностного сопротивления слоя ρs резистивного материала:
(2)
где
- коэффициент формы резистора, заметим,
что сопротивление квадрата резистивной
пленки не зависит от размеров квадрата.
Именно поэтому для характеристики
резистивного слоя используют величину
удельного объемного сопротивления ρо,
отнесенного к толщине слоя, то есть
удельное поверхностное сопротивление
ρs,
измеряемое в омах на квадрат поверхности.
В этом случае сопротивление можно
представить как произведение удельного
поверхностного сопротивления на число
квадратов со стороной b,
укладывающихся по длине этой полоски.
В
случае если
,
а так же в том случае, если в схеме имеются
резисторы с номиналом ниже 200 Ом, все
резисторы разбиваются на группы,
выполняемые из разных материалов. Первым
наносится резистивный материал с высоким
удельным сопротивлением, а затем - с
низким.
Расчет коэффициента формы Кф резистора производится по формуле:
(3)
Рекомендуется ρs выбирать таким, чтобы Кф>1. Допускается для низкоомных резисторов, имеющих большой допуск, коэффициент формы меньше 1, но не менее 0,2.
По значению Кф выбирают форму пленочного резистора. При использовании свободной маски и 0,2 <Кф<20 резисторы имеют прямоугольную форму (рис.1а, б), при Кф>20 резистор состоит из последовательно соединенных резисторов. При использовании контактной маски или фотолитографии и при 0,2 <Кф<50 резисторы имеют прямоугольную форму, а при Кф>50 резисторы выполняются в виде "меандра" (рис 1в) илииз последовательно соединенных резисторов (рис 1г).
При масочном методе изготовления резисторов, изображенных на рис.1 в, г, расстояния между соседними резисторными полосками a должно быть не менее 300 мкм, длина резистивных участков 1 не должна превышать расстояние а более чем в 10 раз для обеспечения необходимой жесткости свободной маски.
Контактные площадки следует располагать с противоположных сторон резистора для устранения погрешности сопротивления проводящего и резистивного слоев (неточности при совмещении не изменяют длину резисторов).
а)
Кф > 1
б) 0,2 < Кф < 1
Рис.1. Типовые конструкции пленочных резисторов
Конструктивный расчет тонкопленочных резисторов заключается в определении формы, геометрических размеров и минимальной площади, занимаемой резисторами на подложке. Для резисторов, имеющих Кф > 1, расчет базируется на определении расчетной ширины резистора, а затем определяют длину резистора.
При расчете резисторов типа меандр необходимо учитывать искажение электрического поля в изгибах, где плотность тока неравномерна.
С этой целью конструкцию резистора типа меандр (рис. 2) представляют в виде последовательно соединенных прямолинейных участков и изгибов:
(4)
где Rизг - сопротивление изгиба;
m - число изгибов;
1пр - длина прямолинейного участка;
n - число звеньев меандра.
Для изгиба под прямым углом (рис.3а) Rизг“Г” =2.55* ρs ; для П-образного изгиба (рис. 3б) Rизг“П” =4* ρs
В качестве резистивных материалов тонкопленочных резисторов используют чистые металлы и сплавы с высоким электрическим сопротивлением, а также специальные резистивные материалы - керметы, состоящие из частиц металла и диэлектрика (например, Сг и SiO) (табл. 1, 2). Сплавы имеют большее значение ρs по сравнению с пленками чистых металлов. На основе керметов получают высокоомные резисторы. Однако в связи с тем, что свойства керметных пленок в сильной степени зависят от технологических факторов, резисторы имеют плохую воспроизводимость номиналов и больший ТКС по сравнению с металлическими. Используется также большая группа металлооксидных сплавов системы хром-кремний, легированных небольшими добавками железа, кобальта, никеля и др., которые при сравнительно малом ТКС и высокой стабильности и воспроизводимости ρs, дают широкий диапазон номиналов. Наиболее часто используют сплавы PC-3001 и PC-3710.
Таблица 1