4 курс 1 семетр / КПЭ ФОГ / Задание / Задание на РГР

Задание на РГР по дисциплине

«Концентрированные потоки энергии и физические основы их генерации»

Технологические режимы нанесения покрытий варьируются в зависимости от получаемого соединения

Ргаза = 2×10^-4 – 10^-3мм рт.ст.

U_п = 80 - 180 В;

Т_ст = 300 К;

Т_п = 350 – 550°С;

I_р = 80 – 300 А.

№ задания Соединение NiSi Ni2Si TiB Ti2B TiC ZrB ZrB2 ZrC ZrN Cr4B Cr2B Cr5B3 CrB Cr3B4 CrB2 Cr7C3 Cr3C2

№ задания Соединение Cr2N CrN Mo2B Mo3B2 MoB Mo2B5 MoB2 Mo2N Mo2C MoC W2B W2B5 W2C WC W2N WN Nb3B2

№ задания Соединение NbB Nb3B4 NbB2 Nb2N NbN NiN NbC TiSi TiSi2 ZrSi CrSi MoSi2 Mo3Si WSi2 NbSi2 Nb4Si

Необходимо определить:

1. Ионный ток насыщения ;

2. Толщина двойного слоя определяемая дебаевским радиусом экранирования ;

3. Потоки ионов металла и молекулярного газа в произвольной точке на единицу площади в единицу времени , ;

4. Энергия выделяемая на поверхности конденсации за единицу ;

5. Количество газа, вступившего в реакцию с металлом ;

6. Содержание неметалла С_x в соединении;

7. Пороговое значение потенциала подложки ;

8. За счет изменения режимов обеспечить получение покрытия заданного стехиометрического состава.