Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Практики / ПР_3_Kremniy_kak_osnovnoy_material_sovremennoy_mikroelektroniki

.docx
Скачиваний:
0
Добавлен:
14.09.2026
Размер:
91 Кб
Скачать
☆

Кремний как основной материал современной микроэлектроники: свойства и технологии получения (свойства, использование)

Кремний (Si) - основной материал современной микроэлектроники благодаря сочетанию уникальных свойств, доступности сырья и отработанных технологий производства. Он лежит в основе большинства электронных устройств - от смартфонов и серверов до солнечных панелей и микропроцессоров.

Поговорим о некоторых свойствах кремния:

  • Полупроводниковые свойства. 

Кремний - полупроводник с шириной запрещённой зоны около 1,12 эВ при комнатной температуре. Это позволяет использовать его для создания транзисторов, диодов и интегральных схем. 

  • Кубическая кристаллическая решётка типа алмаза. 

Параметр решётки — 0,543 нм.

  • Стабильный оксидный слой (SiO₂) на поверхности.

Выполняет изолирующие и маскирующие функции, что важно для планарной МОП-технологии (технологии, связанные с производством и применением полевых транзисторов со структурой «металл — оксид — полупроводник»).

  • Высокая температурная стабильность

Работает в диапазоне от комнатной температуры до 150–200 °C

  • Доступность сырья.

Кремний — второй по распространённости элемент в земной коре после кислорода. В природе он чаще всего встречается в виде диоксида кремния (SiO₂), например, в кварце и песке.

Рассмотрим технологии получения кремния:

  • Получение технического (металлургического) кремния. 

Сырьём служит чистый диоксид кремния, который восстанавливают углеродом в печах при температуре около 1700 °C. В результате получается технический кремний с чистотой около 99,9%. 

  • Очистка кремния для микроэлектроники.

Для достижения необходимой чистоты кремний хлорируют, получая соединения состава SiCl₄ и SiCl₃H. Эти хлориды очищают от примесей различными способами (например, перегонкой и диспропорционированием), а затем восстанавливают чистым водородом при температурах от 900 до 1200 °C.

  • Получение монокристаллов

Для выращивания монокристаллов высокой чистоты используют метод Чохральского (затвердевание атомов жидкой фазы на границе раздела жидкость/кристалл при постепенном вытягивании кристалла из расплава) и метод зонной плавки (суть метода зонной плавки заключается в том, что расплавленная область, получаемая методом индукционного высокочастотного нагрева, медленно движется вдоль всего кремниевого слитка. Примеси при этом не кристаллизируются, а стараются остаться в расплавленной области. Таким образом, после прохождения зоны расплава кристалл очищается от примесей.

Применение кремния в современной микроэлектронике

  • Основа для интегральных микросхем, процессоров, модулей памяти, контроллеров

  • Материал для транзисторов

Они являются ключевыми элементами электронных устройств. Транзисторы могут функционировать как усилители или переключатели, управляя потоками электрического тока. 

  • Компонент диодов

Используются в выпрямителях, стабилизаторах напряжения и других устройствах.

  • Материал для солнечных элементов

Кремний преобразует солнечную энергию в электрическую.