Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Оптические методы исследований наноматериалов и наносистем. Методические указания к лабораторным занятиям по дисциплине «Материаловедение наноматериал

.pdf
Скачиваний:
2
Добавлен:
07.09.2026
Размер:
1 Мб
Скачать
☆
МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ
БЮДЖЕТНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ
ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ
«ЛИПЕЦКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ»
Кафедра нанотехнологий
НАНОМАТЕРИАЛОВ И НАНОСИСТЕМ
МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ
к лабораторным занятиям по дисциплине
«Материаловедение наноматериалов и наносистем»
Н.В. Тарасова
Липецк
Липецкий государственный технический университет
2017
УДК 620.3(07)
Т191
Оптические методы исследований наноматериалов и наносистем [Текст]: метод. указ. к лабораторным занятиям по дисциплине «Материаловедение наноматериалов и наносистем» / Н.В. Тарасова. – Липецк: Изд-во Липецкого государственного технического университета, 2017. – 24 с.
Т191
Рецензент – Коваленко О.А.
Тарасова, Н.В.
Методические указания содержат теоретические сведения о физических
основах оптического метода контроля структуры материалов, в том числе микроскопии высокого разрешения – сканирующей ближнепольной и конфокальной оптической микроскопии, правила проведения металлографического анализа черных и цветных сплавов, порядок выполнения и оформления результатов лабораторных работ. Предназначены для студентов направления подготовки «Наноинженерия».
Табл. 3. Ил. 15. Библиогр.: 6 назв.
© ФГБОУ ВО «Липецкий государственный
технический университет», 2017
3
1. Методические рекомендации
Выбирая метод исследования материала, специалисты могут руковод­ствоваться различными принципами. Один из важнейших заключается в сле­дующем: на начальном этапе не стоит игнорировать простые методы, применяя сразу же более тонкие и дорогостоящие. Начинать целесообразно с наиболее простых методов. Иногда макроисследование, выполненное невооруженным глазом, оказывается гораздо более эффективным, чем тонкие исследования, для реализации которых применяют, например, методы электронной и атомной си­ловой микроскопии. Информация о характере излома, полученная невооружен­ным глазом или с использованием лупы, часто является более ценной, чем при применении приборов, обладающих более высокой разрешающей способно­стью. Если же метод макроисследования не позволяет ответить на все вопросы, интересующие исследователя, то в этом случае имеет смысл перейти на более глубокий масштабный уровень и использовать соответствующий метод, обес­печивающий более высокое разрешение элементов структуры.
Важнейшим и наиболее часто применяемым методом структурных иссле­дований является оптическая металлография. Металлографические микроскопы позволяют исследовать такие детали структуры металлических материалов, как зерна, неметаллические включения, относительно крупные частицы второй фа­зы, поры, трещины. Эти детали определяют уровень важнейших механических свойств материалов. В настоящее время ни одно серьезное металловедческое исследование не выполняется без применения оптической микроскопии.
Наиболее типичными для метода оптической микроскопии являются за­дачи определения размеров зерен в однофазных материалах (например, размер зерна феррита или зерна аустенита в сталях), типа и содержания неметалличе­ских включений в металлах и сплавах, объемной доли фаз в двух- и многофаз­ных системах, карбидной неоднородности в инструментальных сталях и др.
Объектами для проведения металлографических исследований служат шлифы. Существуют различные методы их изготовления. Однако в общем слу-
4
чае технология изготовления шлифов предусматривает такие стадии, как шли-
Глаз
Окуляр
Полупрозрачная
пластина
Объектив
Вспомогательные
линзы
Апертурная
диафрагма
Коллекторная
линза
Источник
света
Полевая
диафрагма
Образец
Рис. 1. Принципиальная схема металлографического микроскопа
фование рабочей поверхности, ее последующее полирование и травление. Цель двух первых операций заключается в получении гладкой, ровной поверхности. Шлифование выполняется с применением различных абразивных материалов (шлифовальных кругов, абразивных шкурок, абразивных порошков). Полиро­вание шлифов может осуществляться механически (тонкими абразивными шкурками, полировальными пастами), химически и электрохимически.
Принципиальная схема металлографического микроскопа показана на рис. 1. Подготовленный специальным образом шлиф помещают перпендику­лярно оптической оси микроскопа в плоскости, совпадающей с передней глав­ной фокальной плоскостью объектива. Шлиф освещается проходящим через объектив почти параллельным оптической оси пучком света, который форми­руется посредством осветительной системы. В осветительную систему входят источник света (лампа), коллекторная линза, апертурная и полевая диафрагмы, вспомогательные линзы, полупрозрачная пластина. Количество линз в оптиче­ских микроскопах может достигать от 10 до 12. В зависимости от расположения в микроскопе линзы представляют собой объективы, окуляры или промежуточ­ную оптическую систему.
5
Световые лучи, отраженные от ровных участков поверхности шлифа, по­падают в объектив. Лучи, отраженные от микронеровностей в объектив не по­падают. Конечное изображение формируется окуляром. Ровные участки шлифа, перпендикулярные оптической оси микроскопа, на конечном изображении ока­зываются светлыми, а участки, наклоненные к оси, – темными. Благодаря этому выявляются границы зерна, частицы второй фазы, поры, другие элементы структуры материала.
Увеличение микроскопа равно произведению соответствующих увеличе­ний объектива и окуляра. Основное увеличение обеспечивается объективом. Увеличение объектива может достигать 100 крат. Увеличение окуляра обычно не превышает 20 крат. Для точного определения увеличения микроскопа ис­пользуется специальная пластинка, называемая объект-микрометром.
Максимальная разрешающая способность оптического микроскопа соот­ветствует условию
d = λ/2n sinα = λ/2A, (1)
где λ – длина волны света;
n – показатель преломления среды между объектом и объективом (для воз- духа n = 1);
α – угловая апертура объектива, равная половине угла, под которым виден зрачок объектива из точки предмета, лежащей на оптической оси.
Величина А = n sinα, называется числовой апертурой объектива. Число­вую апертуру объектива можно увеличить, заполняя пространство между объ­ективом и исследуемым шлифом иммерсионным маслом. В качестве иммерси­онной среды обычно используют кедровое масло, имеющее показатель прелом­ления п ~ 1,52. Для работы с иммерсионными средами используют специальные иммерсионные объективы.
Угловая апертура α практически не бывает больше ~ 72°. Таким образом, максимальное значение sinα ~ 0,95, следовательно, максимальное значение чис­ловой апертуры для «сухого» объектива составляет А = 1·0,95 = 0,95, а для им-
6
мерсионного объектива А = 1,52·0,95 = 1,44. Для освещения объектов в метал­лографических микроскопах наиболее часто применяется белый свет. Длина волны λ для него принимается равной 0,55 мкм. Следовательно, максимальная разрешающая способность металлографического микроскопа равна:
d ≈ 0,55/2/1,44 ≈ 0,2 мкм.
При выполнении металлографических исследований необходимо пра­вильно выбрать увеличение микроскопа. Увеличение N называют полезным, если разрешаемые детали структуры можно наблюдать под углом зрения 2÷4 мин. Полезное увеличение находится в пределах
N ≈ 500A ÷ 1000A. (2)
С учетом максимального значения числовой апертуры можно определить максимальное полезное увеличение металлографического микроскопа. Оно со­ставляет примерно 1500 крат. Применение увеличений, превышающих 1000A, нецелесообразно, поскольку оно не дает новых деталей в изображении структу­ры, а лишь приводит к ухудшению качества изображения.
При выполнении металлографических исследований объектив выбирают, исходя из необходимого полезного увеличения микроскопа N. Величину N опре­деляют из выражения N = 200/d', где d' – минимальный размер интересующих исследователя деталей структуры, мкм; 200 – разрешаемое расстояние для глаза наблюдателя, мкм. Зная величину N, можно по формуле (2) определить соответ­ствующую числовую апертуру A и выбрать объектив, а затем окуляр.
Уравнение (1) показывает, что разрешение тем лучше, чем меньше длина волны используемого света. Предельные разрешающие способности микроско­пов в видимом и УФ-излучении являются недостаточными для прямой визуали­зации наноструктур. Улучшить разрешение оптического микроскопа можно с использованием таких методик, как конфокальные и ближнепольные оптиче­ские методы.
В ближнепольной оптической микроскопии используются принципы по­строения изображения объекта, которые позволяют преодолеть трудности, свя-
7
занные с дифракцией света, и реализовать пространственное разрешение на
А
А
0
64
47
128
WakP
tr
Источник света
высокой интенсивности
Поверхность образца
λ
1
d<λ
1
λ
2
Рис. 2. Принцип действия ближнеполевого оптического микроскопа (схема). Длина волны
света, падающего на образец (λ2) намного меньше, чем длина волны источника света λ1
уровне 10 нм и лучше. В основе работы данного прибора используется явление прохождения света через субволновые диафрагмы – отверстия с диаметром много меньше длины волны падающего излучения (рис. 2).
При прохождении света через субволновое отверстие наблюдается ряд особенностей: электромагнитное поле в области диафрагмы имеет сложную
структуру. Непосредственно за отверстием на расстояниях менее 100
распола-
гается так называемая ближняя зона, в которой электромагнитное поле суще­ствует, в основном, в виде эванесцентных (не распространяющихся) мод, лока­лизованных вблизи поверхности диафрагмы. В области расстояний более
100
располагается дальняя зона, в которой наблюдаются лишь излучательные
моды. Мощность излучения за субволновой диафрагмой в дальней зоне может быть оценена по формуле
, (3)
где k – волновой вектор,
W0 – плотность мощности падающего излучения.
Оценки показывают, что для излучения с длиной волны порядка 500 нм и диафрагмы с отверстием ~ 5 нм мощность излучения в дальней зоне составляет по порядку величин 10
–10
от мощности падающего излучения. Однако, если по-
8
местить исследуемый объект непосредственно за отверстием в ближней зоне, то вследствие взаимодействия эванесцентных мод с образцом часть энергии элек­тромагнитного поля переходит в излучательные моды, интенсивность которых может быть зарегистрирована оптическим фотоприемником.
В методе сканирующей ближнепольной оптической микроскопии образец подсвечивается в ближнем поле светом выбранной длины волны, выходящем из щели диаметром несколько десятков нанометров (рис. 2), образованной на кон­це одномодового вытянутого оптоволокна, покрытого алюминием для предотв­ращения потерь излучения, гарантирующего сфокусированный луч от нако­нечника. Зонд обычно зафиксирован, а образец при сканировании перемеща­ется с помощью пьезоэлектрических приводов. Расстояние зонд–образец можно точно контролировать через обратную связь, что позволяет получать не только оптическое (с разрешением менее 100 нм), но и топографическое изображение (изображение смещения наконечника). Наиболее распространенным режимом съемки изображения является флюоресценция, но также используются: УФ­видимое излучение, ИК и рамановские методы – позволяют получать с помо­щью ближнепольной микроскопии химические данные.
Таким образом, ближнепольное изображение формируется при сканиро­вании исследуемого образца диафрагмой с субволновым отверстием и реги­стрируется в виде распределения интенсивности оптического излучения в зави­симости от положения диафрагмы. Контраст на изображениях определяется процессами отражения, преломления, поглощения и рассеяния света, которые, в свою очередь, зависят от локальных оптических свойств образца.
Конфокальная сканирующая оптическая микроскопия состоит в фокуси­ровании сигнала изображения на апертуре детектора в плоскости, сопряженной с фокальной плоскостью объектива. Как показано на рис. 3, эффективно это приводит к отбору сигналов только с фокальной плоскости объектива. Это дает оптические срезы изображения образца, которые можно использовать для ко­личественных топографических измерений.
9
В основном металлографические исследования проводятся с использова-
Рис. 4. Отражение лучей от различных элементов структуры исследуемого объекта
при реализации метода светлопольного изображения
Лазер
Полупрозрачное
зеркало
Детектор
Апертура в конфокальной
точке линзы
Сканирующая платформа
Образец
Рис. 3. Принципиальная схема сканирующего конфокального оптического микроскопа
нием светлопольного (вертикального) освещения. При использовании этого ме­тода топографические детали исследуемой структуры обнаруживаются за счет рассеяния света за пределы объектива (рис. 4). Эти детали (как выступы, так и углубления) на формируемом изображении выглядят более темными. Те участ­ки поверхности, которые отражают свет в объектив микроскопа на изображе­нии, являются светлыми. Для дополнительного повышения контрастности при­меняют другие виды освещения, такие как, методы косого или темнопольного освещения, исследование материала в поляризованном свете, методы фазового контраста, интерференционного контраста.
10
Метод косого освещения основан на использовании лучей, не параллель-
Объект с углублением на исследуемой поверхности
Расстояние
Расстояние
Расстояние
Светлое
поле
Темное
поле
Косое
освещение
Рис. 5. Особенности изменения интенсивности светового сигнала при наблюдении
объекта с углублением (вытравленной границей зерна) при использовании
методов светлого поля, темного поля и косого освещения
ных оптической оси системы. Повышение контраста при этом обусловлено уве­личением роли дифрагированных на разных элементах структуры лучей и обра­зованием теней от рельефа поверхности объекта. Поэтому косое освещение ре­комендуется применять при достаточно резком рельефе поверхности шлифа.
Метод темнопольного освещения основан на том, что объектив выключа­ется из системы осветителя. Для освещения объекта применяется специальный конденсор темного поля. В этом случае прямые лучи через объектив не прохо­дят. Изображение формируется рассеянными лучами. При использовании мето­да темнопольного изображения гладкие участки выглядят темными, а рельеф­ные – светлыми и яркими. По отношению к светлопольному изображению тем­нопольное является обратным. Особенности формирования контраста при ис­пользовании методов светлого поля, темного поля и косого освещения изобра­жены на рис. 5.
Многие металлические фазы и неметаллические включения являются оп­тически анизотропными. Поэтому в ряде случаев при проведении металлогра­фических исследований целесообразно использовать поляризованный свет. Для
Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]