МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Санкт-Петербургский государственный
электротехнический университет
«ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина)
Кафедра МНЭ
отчет
по лабораторной работе №2
по дисциплине «Электротехническое материаловедение »
Тема: ИССЛЕДОВАНИЕ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ СВОЙСТВ
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ МАТЕРИАЛОВ
Студент гр. 4404 |
|
Комарницкий М.С. |
Преподаватель |
|
Самсыгин П.Ф. |
Санкт-Петербург
2026
Цель работы.
Сравнение температурных зависимостей сопротивления полупроводников с различной шириной запрещенной зоны; определение ширины запрещенной зоны и энергии ионизации легирующих примесей в материалах.
Основные понятия и определения
Полупроводники — это материалы с электронной электропроводностью, которые по своему удельному сопротивлению занимают промежуточное положение между проводниками и диэлектриками. Условный диапазон удельных сопротивлений составляет 10−5 . . . 108 Ом·м.
Характерной особенностью является сильная зависимость проводимости от температуры, освещения и концентрации примесей. В зависимости от чистоты они делятся на:
Собственные (содержание примесей не более 10−9 . . . 10−8%);
Примесные (свойства определяются легирующими элементами).
Генерация носителей заряда
При температуре 𝑇 = 0 К полупроводник не обладает электропроводностью, так как все валентные электроны участвуют в ковалентных связях. Энергия, необходимая для разрыва связи, соответствует ширине запрещенной зоны Δ.
При 𝑇 > 0 К за счет тепловых флуктуаций происходит процесс термогенерации пар носителей: электронов 𝑛𝑖 в зоне проводимости и дырок 𝑝𝑖 в валентной зоне. Концентрация собственных носителей определяется соотношением:
Для управления типом проводимости вводят примеси: доноры (создают уровни вблизи дна зоны проводимости) или акцепторы (вблизи потолка валентной зоны). Энергия ионизации примесей Δ значительно меньше Δ.
Подвижность носителей и проводимость
Направленное движение носителей под действием поля называется дрейфом. Плотность тока дрейфа:
𝑗 = 𝑞𝑛𝜇𝐸 = 𝛾𝐸
где 𝜇 — подвижность носителей. Она определяется механизмами рассеяния:
На тепловых колебаниях решетки (𝜇 ∼ 𝑇−3/2) — доминирует при высоких температурах.
На ионизированных примесях (𝜇 ∼ 𝑇3/2) — преобладает при низких температурах.
Исследуемые материалы
В рамках работы проводится анализ материалов с существенно различающейся шириной запрещенной зоны (данные при 300 К):
InSb (Антимонид индия): Δ= 0, 18 эВ — узкозонный материал;
Ge (Германий): Δ= 0, 66 эВ;
Si (Кремний): Δ= 1, 12 эВ;
SiC (Карбид кремния): Δ= 2, 90 эВ — широкозонный материал.
Обработка результатов.
1) Рассчитаем удельное сопротивления исследуемых полупроводниковых материалов, а также удельные проводимости образцов.
Результаты расчётов занесём в таблицу 1.
Таблица 1. Удельные сопротивления и проводимости исследуемых материалов.
ρ, Ом*м |
|
|
|
|
γ эксп, См/м |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Si |
Ge |
SiC |
InSb |
|
Si |
Ge |
SiC |
InSb |
1.14066667 |
- |
0.003468 |
- |
|
0.8766803 |
- |
288.350634 |
- |
0.0948 |
- |
0.0029124 |
- |
|
10.5485232 |
- |
343.359429 |
- |
0.0384 |
- |
0.0024144 |
- |
|
26.0416667 |
- |
414.181577 |
- |
0.0322 |
- |
0.0016452 |
- |
|
31.0559006 |
- |
607.828835 |
- |
0.0158 |
114 |
0.0012288 |
- |
|
63.2911392 |
0.00877193 |
813.802083 |
- |
0.01246667 |
81.1333333 |
0.0010896 |
- |
|
80.2139037 |
0.01232539 |
917.767988 |
- |
0.0092 |
64.8 |
0.0010872 |
- |
|
108.695652 |
0.0154321 |
919.793966 |
- |
0.00766667 |
45.4 |
0.0008928 |
- |
|
130.434783 |
0.02202643 |
1120.07168 |
- |
0.0062 |
33 |
0.0008064 |
- |
|
161.290323 |
0.03030303 |
1240.07937 |
- |
0.00473333 |
20.8 |
0.0007752 |
- |
|
211.267606 |
0.04807692 |
1289.98968 |
- |
0.00426667 |
13 |
0.000642 |
- |
|
234.375 |
0.07692308 |
1557.6324 |
- |
2. По данным таблицы 1 построим температурные зависимости удельной
проводимости полупроводников, откладывая по оси абсцисс параметр T−1,
а по оси ординат – экспериментальные значения ln γ эксп. (Рисунок 1).
Рисунок
1.
3) Рассчитаем концентрации собственных носителей заряда в полупроводниках. Результаты занесём в таблицу 2.
Таблица 2. Концентрации собственных носителей заряда в полупроводниках.
|
Si |
Ge |
SiC |
InSb |
ni = pi, м^-3 |
6.64E+15 |
2.26E+19 |
7.29E+00 |
1.49E+22 |
4) Рассчитаем значения собственной удельной проводимости в проводниках. Результаты занесём в таблицу 3.
Таблица 3. Значения собственной удельной проводимости в проводниках.
γ i, См/м |
1.91E-04 |
2.09E+00 |
5.37E-20 |
1.87E+04 |
5) Рассчитаем ∆Эпр и nэксп для полупроводников. Результаты занесём в таблицу 4.
T1 = |
298 |
|
|
|
T2 = |
368 |
|
|
|
|
Si |
Ge |
SiC |
InSb |
n эксп (T1), м^-3 |
3.04E+19 |
- |
3.92E+22 |
- |
n эксп (T2), м^-3 |
8.14E+21 |
8.29E+17 |
2.12E+23 |
- |
ΔЭ пр, Дж |
2.42E-19 |
- |
7.30E-20 |
- |
Вывод.
В ходе лабораторной работы были исследованы электрические свойства полупроводниковых материалов с различной шириной запрещённой зоны. На основе полученных экспериментальных и расчётных данных подтверждено, что удельная проводимость полупроводников существенно зависит от температуры: с ростом температуры проводимость увеличивается, что связано с увеличением концентрации носителей заряда за счёт термогенерации.
Сравнение материалов показало, что ширина запрещённой зоны оказывает решающее влияние на их электрические свойства: узкозонные полупроводники (например, InSb) обладают значительно большей проводимостью и концентрацией носителей заряда по сравнению с широкозонными (например, SiC). Это также подтверждается рассчитанными значениями собственной проводимости и концентрации носителей.
Построенные температурные зависимости в координатах lnγ от T⁻¹ имеют линейный характер, что соответствует теоретическим представлениям и позволяет определить энергетические параметры, такие как ширина запрещённой зоны и энергия ионизации примесей.
Таким образом, результаты работы согласуются с теорией полупроводников и демонстрируют влияние температуры и энергетической структуры на проводимость материалов.
