Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

ФОМНЭ 5 дз

.docx
Скачиваний:
0
Добавлен:
21.03.2026
Размер:
54.77 Кб
Скачать

МИНОБРНАУКИ РОССИИ

САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ

ЭЛЕКТРОТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ

«ЛЭТИ» ИМ. В. И. УЛЬЯНОВА (ЛЕНИНА)

Кафедра микро- и наноэлектроники

ОТЧЕТ

по домашнему заданию №5

по дисциплине «Физические основы микро и наноэлектроники»

Тема: термическое вакуумное напыление.

Вариант 3

Студент гр. 0182 ______________ Бронников Д. Д.

Преподаватель ______________ Рассадина А. А.

Санкт-Петербург

2021

Рассчитать зависимость толщины напыляемой пленки d от расстояния от центра подложки L для испарителя малой площади и для точечного испарителя и отношение толщины пленки в центре подложки d0 к толщине пленки d на удалении L от центра.

Cu - Распыляемый материал p=8,93*103 кг/м3

1,0 – Масса распыляемого материала - г

h=300 – Расстояние испаритель – подложка – мм

L, м

0

0,05

0,1

0,15

0,2

0,25

0,3

Зависимость толщины напыляемой пленки d от расстояния от центра подложки L для испарителя малой площади (испаритель, у которого размеры поверхности испарения малы по сравнению с расстоянием от этой поверхности до подложки), расположенного на расстоянии h от подложки, будет определяться как:

.

Для точечного испарителя:

,

где   плотность напыляемого материала; Me  общее количество испаренного вещества.

Для практических целей гораздо удобнее пользоваться отношением толщины пленки в центре подложки d0 к толщине пленки d на удалении L от центра, т.к. такое соотношение определяет неравномерность полученной пленки по толщине:

 для испарителя с малой площадью

 для точечного испарителя

d от расстояния от центра подложки L.

1 строка – для малой площади испарителя

2 стока – для точечного испарителя

Отношения толщины пленки в центре подложки d0 к толщине пленки d на удалении L от центра.

Вывод: Метод термического вакуумного напыления дает неравномерную по толщине пленку: чем дальше от центра подложки и чем ближе к её периферии, тем тоньше будет получаться пленка. У точечного испарителя распределение более равномерное. Также, сравнив процессы термического вакуумного напыления для испарителя малой площади и точечного испарителя получим, что при небольших размерах подложки толщина напыления и испарителя с малой площадью в разы больше толщины напыления с точечного испарителя => точечный испаритель = наитончайшая пленка.

Соседние файлы в предмете Физические основы микроэлектроники