Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

ЛР2 Усилитель бегущей волны УБВ на основе волн пространственного заряда

.docx
Скачиваний:
0
Добавлен:
28.01.2026
Размер:
266.63 Кб
Скачать

МИНОБРНАУКИ РОССИИ

Санкт-Петербургский государственный

электротехнический университет

«ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина)

Кафедра ФЭТ

Кондрашов не читай пож

отчет

по лабораторной работе №2

по дисциплине «Микро- и наноэлектроника»

Тема: УСИЛИТЕЛЬ БЕГУЩЕЙ ВОЛНЫ НА ОСНОВЕ ВОЛН ПРОСТРАНСТВЕННОГО ЗАРЯДА

Студенты гр.

Преподаватель

Кондрашов А.В.

Санкт-Петербург

202X

Цель работы

Изучение основных закономерностей распространения и усиления волн пространственного заряда (ВПЗ) в тонкопленочных полупроводниковых структурах (ТПС) с отрицательной дифференциальной подвижностью (ОДП), исследование влияния геометрических и электрофизических параметров структуры на частотные характеристики усилителя бегущей волны (УБВ).

Основные положения

Эффект нарастания волн пространственного заряда в полупроводниковых структурах с ОДП, возникающей, например, в сильных электрических полях в материалах типа GaAs, лежит в основе работы усилителя бегущей волны.

Рис. 1. Поперечное сечение УБВ на ВПЗ

Схематически структура УБВ изображена рис. 1. УБВ состоит из эпитаксиальной пленки GaAs n-типа проводимости, выращенной на полуизолирующей подложке. На поверхности эпитаксиальной пленки нанесен слой диэлектрика 4 и сформированы омические контакты 1, 6, создающие дрейфовый поток электронов вдоль пленки, контакты в виде барьеров Шоттки (БШ), выполняющие функцию преобразования электромагнитной волны в волну пространственного заряда на входной БШ 2 и обратное преобразование на выходном БШ 5; управляющий электрод 3 для управления характером границы потока носителей заряда посредством подачи на него соответствующего потенциала.

Усиление на УБВ реализуется за счет нарастания ВПЗ, распространяющейся от входного к выходному БШ в среде, обладающей ОДП. Свойства такой среды определяются зависимостью средней скорости дрейфа электронов от напряженности электрического поля v(Е) (рис. 2).

Рис. 2. Зависимость средней скорости дрейфа электронов от напряженности электрического поля

При E > Ecr (Ecr = 3500 В/см для GaAs) коэффициент анизотропии отрицателен:

где – дифференциальная подвижность ; – статическая подвижность ( ).

Анализ распространения и усиления ВПЗ проведем для активной области УБВ. Дисперсионное уравнение для волн пространственного заряда в такой структуре может быть записано в самой общей форме:

где D = D – модель жесткой границы, – модель свободной границы, – параметр, – релаксационная частота в диэлектрике.

В этих формулах: q – заряд электрона, , – диэлектрические проницаемости соответственно диэлектрической и полупроводниковой пленок: νe – скорость дрейфа: – подвижность электронов; n – концентрация электронов; 2a – толщина пленки; ω – круговая частота; – коэффициент анизотропии, – поперечное волновое число, характеризующее распределение физических величин по толщине пленки и связанное с продольным волновым числом соотношением:

Анализ дисперсионного уравнения проводится последовательным приближением по коэффициенту диффузии D. В нулевом приближении полагаем D = 0. при этом решение получаем в следующем виде:

где n – номер моды.

Делая допущение о малости постоянной затухания (нарастания) волны по сравнению с фазовой постоянной, т. е. , можно показать, что , т. е. все моды в пленке имеют одинаковую фазовую скорость, равную скорости дрейфа электронов. Постоянная нарастания находится из дисперсионного уравнения на основании равенства с учетом выражений для и виде

Учет влияния диффузии проводится в первом приближении при условии слабой диффузии – такой, что , где . В этом случае дисперсионное уравнение дает два решения – для прямой и обратной волн:

Влияние диффузии проявляется двояко. Во-первых, она создает для каждой моды обратную (диффузионную) волну, распространяющуюся навстречу дрейфу электронов за счет процесса диффузии и сильно затухающую, так как обычно . Во-вторых, диффузия влияет на постоянные распространения прямых волн, существующих при D = 0. При этом слабая диффузия практически не возмущает фазовой скорости прямых волн, оставляя их вырожденными, т. е. . За счет диффузии изменяется лишь постоянная затухания (нарастания) волны, при этом – различным образом в зависимости от характера границы потока со стороны диэлектрика.

Если за счет потенциала на металле поток оттеснен от верхнего края полупроводниковой пленки, то граница является свободной. Если поток электронов не оттеснен от края пленки, то граница является жесткой. В соответствии с характером границы будут различаться граничные условия при решении дисперсионного уравнения. Нормированные постоянные затухания (нарастания) в первом приближении равны:

– для жесткой границы потока:

– для свободной границы потока:

Для усиливаемых волн (α0 < 0) в режиме ОДП ( < 0) второе слагаемое в этих формулах положительно. Это означает, что диффузия существенным образом снижает усиление в области высоких частот: если при D = 0 каждая волна имеет на высоких частотах αmax, то при D = 0 диффузия подавляет усиление на высоких частотах и тем самым ограничивает частотный диапазон.

При исследовании процессов усиления ВПЗ, а также при разработке конструкции и топологии УБВ, обеспечивающего усиление сигнала в широкой полосе частот, необходимо знать зависимость частотной характеристики усиления от таких параметров полупроводниковой пленки, как коэффициент анизотропии , концентрация носителей заряда n, толщина пленки 2а. коэффициент диффузии D. Погонный коэффициент усиления G1:

G1 = 8.68|α| [дБ/мкм].

Обработка результатов эксперимента

1. Построение передаточной характеристики УБВ G(ω)

Представим результаты изучения влияния толщины пленки (табл. 1), расстояния между входной и выходной антеннами (табл. 2) и концентрации донорной примеси (табл. 3) на АЧХ усилителя. Во всех опытах , . Графики см. на рис. 3-5.

Табл. 1. Влияние значения толщины пленки на АЧХ УБВ

(d = 10,81 мм, N = 1 1020 см-3)

a, мкм

3,5

5,5

8,5

ω, ГГц

G, о. е.

G, дБ

G, о. е.

G, дБ

G, о. е.

G, дБ

3

77,291

37,763

77,294

37,763

77,295

37,763

4

77,286

37,762

77,292

37,763

77,295

37,763

6

77,283

37,762

77,287

37,762

77,293

37,763

8

77,255

37,759

77,28

37,761

77,29

37,762

10

77,232

37,756

77,271

37,760

77,286

37,762

12

77,204

37,753

77,26

37,759

77,282

37,762

14

77,171

37,749

77,247

37,758

77,276

37,761

16

77,133

37,745

77,232

37,756

77,27

37,760

18

77,089

37,740

77,214

37,754

77,263

37,759

20

77,041

37,734

77,195

37,752

77,255

37,759

Табл. 2. Влияние расстояния между входной и выходной антеннами на АЧХ УБВ (a = 3,5 мкм, N = 1 1020 см-3)

d, мм

11

6

1

ω, ГГц

G, о. е.

G, дБ

G, о. е.

G, дБ

G, о. е.

G, дБ

3

78,643

37,913

42,896

32,648

7,149

17,085

4

78,639

37,913

42,894

32,648

7,149

17,085

6

78,626

37,911

42,887

32,647

7,148

17,084

8

78,607

37,909

42,877

32,644

7,146

17,081

10

78,584

37,907

42,864

32,642

7,144

17,079

12

78,555

37,903

42,848

32,639

7,141

17,075

14

78,521

37,900

42,83

32,635

7,138

17,072

16

78,483

37,896

42,809

32,631

7,135

17,068

18

78,438

37,891

42,785

32,626

7,131

17,063

20

78,389

37,885

42,758

32,620

7,126

17,057

Табл. 3. Влияние концентрации донорной примеси на АЧХ УБВ

(a = 3,5 мкм, d = 10,81 мм)

N

2 ⋅ 1020 см-3

6 ⋅ 1020 см-3

10 ⋅ 1020 см-3

ω, ГГц

G, о. е.

G, дБ

G, о. е.

G, дБ

G, о. е.

G, дБ

3

154,569

43,782

463,708

53,325

772,847

57,762

4

154,56

43,782

463,681

53,324

772,802

57,761

6

154,535

43,781

463,605

53,323

772,674

57,760

8

154,499

43,779

463,407

53,319

772,495

57,758

10

154,453

43,776

463,359

53,318

772,265

57,755

12

154,397

43,773

463,19

53,315

771,984

57,752

14

154,33

43,769

462,991

53,311

771,652

57,748

16

154,254

43,765

462,761

53,307

771,269

57,744

18

154,167

43,760

462,501

53,302

770,836

57,739

20

154,07

43,754

462,211

53,297

770,352

57,734

Рис. 3. Влияние толщины пленки на АЧХ УБВ

Рис. 4. Влияние расстояния между входной и выходной антеннами на АЧХ УБВ

Рис. 5. Влияние концентрации донорной примеси на АЧХ УБВ

Таким образом, изменяемые параметры влияют на АЧХ усилителя.

Замечено, что с увеличением частоты входного сигнала в исследуемом диапазоне (3 – 20 ГГц) усиление всегда снижается в пределах 0,01-0,04 дБ.

Увеличение толщины пленки позволяет минимизировать снижение усиления с ростом частоты, но не определяет величину усиления в единицах дБ. Эффект может быть связан с уменьшением влияния диффузии, подавляющей усиление на высоких частотах, на более толстую структуру.

Увеличение расстояния между входной и выходной антеннами существенно повышает коэффициент усиления УБВ. Это можно объяснить удлинением области, проходимой волной в структуре с отрицательной дифференциальной подвижностью электронов.

Похожим образом усиление определяет концентрация электронов: чем выше их количество, тем эффективнее работает УБВ.

2. Исследование влияния толщины пленки и модели жесткой границы на коэффициент усиления УБВ

В табл. 4 и на рис. 6 представим зависимость G(a) на трех разных частотах при прочих неизменных параметрах (опытах , , d = 10,81 мм, N = 5 ⋅ 1020 см-3).

Табл. 4. Влияние толщины пленки на коэффициент усиления УБВ

ω, ГГц

3

10

20

a, мкм

G, о. е.

G, дБ

G, о. е.

G, дБ

G, о. е.

G, дБ

0,5

384,99

51,709

370,705

51,381

2,813

8,983

1

386,088

51,734

382,439

51,651

370,805

51,383

2

386,362

51,740

385,455

51,719

382,49

51,652

4

386,43

51,741

386,209

51,736

385,481

51,720

6

386,443

51,742

386,347

51,740

386,031

51,732

8

386,447

51,742

386,394

51,741

386,221

51,737

9

386,448

51,742

386,407

51,741

386,272

51,738

10

386,449

51,742

386,416

51,741

386,308

51,739

Рис. 6. Влияние толщины пленки на коэффициент усиления УБВ

Сравним влияние диффузии на АЧХ для моделей жесткой и свободной границ потока.

Модель жесткой границы: поток электронов не оттеснен от края полупроводниковой пленки.

Модель свободной границы: за счет потенциала на металле поток оттеснен от верхнего края пленки.

Диффузия (D ≠ 0) существенно снижает усиление в области высоких частот.

Дисперсионное уравнение для волн пространственного заряда в активной области УБВ в общей форме:

где D = D – модель жесткой границы, – модель свободной границы. По формулам можно прийти к выводу, что модель свободной границы при отрицательном коэффициенте анизотропии позволяет добиться меньшего D, а значит, меньшей диффузии на высоких частотах, что уменьшит просадку АЧХ.

Определим также, для какой границы потока (жесткой и свободной) можно достичь максимального усиления на более высоких частотах.

Так как диффузия ограничивает частотный диапазон УБВ, для усиливаемых волн в режиме ОДП ( < 0) желательно D = 0, чтобы каждая волна имела на высоких частотах αmax. Минимальный коэффициент диффузии возможен в модели свободной границы.

Подберем значения концентрации носителей заряда и толщины структуры УБВ, обеспечивающие усиление 40 дБ на частоте до 15 ГГц при расстоянии между антеннами 5 мм и = -0.1 (рис. 7).

G = 100,006 о. е. = 40 дБ,

ω = 9,12 ГГц,

N = 2,8 ⋅ 1020 см-3,

a = 2,90 мкм.

Рис. 7. Подбор параметров УБВ в программе

Выводы

В лабораторной работе было проведено исследование влияние геометрических и электрофизических параметров усилителя бегущей волны на его частотные характеристики. Получены различные АЧХ усилителя в зависимости от значений толщины пленки, расстояния между входной и выходной антеннами и концентрации донорной примеси.

Дана интерпретация особенностям графиков ВАХ с точки зрения физических процессов.

Также было исследовано влияние толщины пленки на коэффициент усиления, рассмотрены модели жесткой и свободной границ.

Спроектирована модель УБВ, обеспечивающей усиление 40 дБ, с некоторыми заданными параметрами.