ЛР2 Усилитель бегущей волны УБВ на основе волн пространственного заряда
.docxМИНОБРНАУКИ РОССИИ
Санкт-Петербургский государственный
электротехнический университет
«ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина)
Кафедра ФЭТ
Кондрашов не читай пож
отчет
по лабораторной работе №2
по дисциплине «Микро- и наноэлектроника»
Тема: УСИЛИТЕЛЬ БЕГУЩЕЙ ВОЛНЫ НА ОСНОВЕ ВОЛН ПРОСТРАНСТВЕННОГО ЗАРЯДА
Студенты гр. |
|
|
|
|
|
Преподаватель |
|
Кондрашов А.В. |
Санкт-Петербург
202X
Цель работы
Изучение основных закономерностей распространения и усиления волн пространственного заряда (ВПЗ) в тонкопленочных полупроводниковых структурах (ТПС) с отрицательной дифференциальной подвижностью (ОДП), исследование влияния геометрических и электрофизических параметров структуры на частотные характеристики усилителя бегущей волны (УБВ).
Основные положения
Эффект нарастания волн пространственного заряда в полупроводниковых структурах с ОДП, возникающей, например, в сильных электрических полях в материалах типа GaAs, лежит в основе работы усилителя бегущей волны.
Рис. 1. Поперечное сечение УБВ на ВПЗ
Схематически структура УБВ изображена рис. 1. УБВ состоит из эпитаксиальной пленки GaAs n-типа проводимости, выращенной на полуизолирующей подложке. На поверхности эпитаксиальной пленки нанесен слой диэлектрика 4 и сформированы омические контакты 1, 6, создающие дрейфовый поток электронов вдоль пленки, контакты в виде барьеров Шоттки (БШ), выполняющие функцию преобразования электромагнитной волны в волну пространственного заряда на входной БШ 2 и обратное преобразование на выходном БШ 5; управляющий электрод 3 для управления характером границы потока носителей заряда посредством подачи на него соответствующего потенциала.
Усиление на УБВ реализуется за счет нарастания ВПЗ, распространяющейся от входного к выходному БШ в среде, обладающей ОДП. Свойства такой среды определяются зависимостью средней скорости дрейфа электронов от напряженности электрического поля v(Е) (рис. 2).
Рис. 2. Зависимость средней скорости дрейфа электронов от напряженности электрического поля
При E > Ecr (Ecr = 3500 В/см для GaAs) коэффициент анизотропии отрицателен:
где
– дифференциальная подвижность
;
– статическая подвижность (
).
Анализ распространения и усиления ВПЗ проведем для активной области УБВ. Дисперсионное уравнение для волн пространственного заряда в такой структуре может быть записано в самой общей форме:
где
D
= D
– модель жесткой границы,
– модель свободной границы,
–
параметр,
–
релаксационная частота в диэлектрике.
В
этих формулах: q
– заряд электрона,
,
– диэлектрические проницаемости
соответственно диэлектрической и
полупроводниковой пленок: νe
– скорость дрейфа:
– подвижность электронов; n
– концентрация электронов; 2a
– толщина пленки; ω – круговая частота;
– коэффициент анизотропии,
– поперечное волновое число, характеризующее
распределение физических величин по
толщине пленки и связанное с продольным
волновым числом
соотношением:
Анализ дисперсионного уравнения проводится последовательным приближением по коэффициенту диффузии D. В нулевом приближении полагаем D = 0. при этом решение получаем в следующем виде:
где n – номер моды.
Делая
допущение о малости постоянной затухания
(нарастания) волны по сравнению с фазовой
постоянной, т. е.
,
можно показать, что
,
т. е. все моды в пленке имеют одинаковую
фазовую скорость, равную скорости дрейфа
электронов. Постоянная нарастания
находится из дисперсионного уравнения
на основании равенства
с учетом выражений для
и
виде
Учет
влияния диффузии проводится в первом
приближении при условии слабой диффузии
– такой, что
,
где
.
В этом случае дисперсионное уравнение
дает два решения – для прямой и обратной
волн:
Влияние
диффузии проявляется двояко. Во-первых,
она создает для каждой моды обратную
(диффузионную) волну, распространяющуюся
навстречу дрейфу электронов за счет
процесса диффузии и сильно затухающую,
так как обычно
.
Во-вторых, диффузия влияет на постоянные
распространения прямых волн, существующих
при D
= 0. При этом слабая диффузия практически
не возмущает фазовой скорости прямых
волн, оставляя их вырожденными, т. е.
.
За счет диффузии изменяется лишь
постоянная затухания (нарастания) волны,
при этом – различным образом в зависимости
от характера границы потока со стороны
диэлектрика.
Если за счет потенциала на металле поток оттеснен от верхнего края полупроводниковой пленки, то граница является свободной. Если поток электронов не оттеснен от края пленки, то граница является жесткой. В соответствии с характером границы будут различаться граничные условия при решении дисперсионного уравнения. Нормированные постоянные затухания (нарастания) в первом приближении равны:
– для жесткой границы потока:
– для свободной границы потока:
Для усиливаемых волн (α0 < 0) в режиме ОДП ( < 0) второе слагаемое в этих формулах положительно. Это означает, что диффузия существенным образом снижает усиление в области высоких частот: если при D = 0 каждая волна имеет на высоких частотах αmax, то при D = 0 диффузия подавляет усиление на высоких частотах и тем самым ограничивает частотный диапазон.
При исследовании процессов усиления ВПЗ, а также при разработке конструкции и топологии УБВ, обеспечивающего усиление сигнала в широкой полосе частот, необходимо знать зависимость частотной характеристики усиления от таких параметров полупроводниковой пленки, как коэффициент анизотропии , концентрация носителей заряда n, толщина пленки 2а. коэффициент диффузии D. Погонный коэффициент усиления G1:
G1 = 8.68|α| [дБ/мкм].
Обработка результатов эксперимента
1. Построение передаточной характеристики УБВ G(ω)
Представим
результаты изучения влияния толщины
пленки (табл. 1), расстояния между входной
и выходной антеннами (табл. 2) и концентрации
донорной примеси (табл. 3) на АЧХ усилителя.
Во всех опытах
,
.
Графики см. на рис. 3-5.
Табл. 1. Влияние значения толщины пленки на АЧХ УБВ
(d = 10,81 мм, N = 1 ⋅ 1020 см-3)
a, мкм |
3,5 |
5,5 |
8,5 |
||||
ω, ГГц |
G, о. е. |
G, дБ |
G, о. е. |
G, дБ |
G, о. е. |
G, дБ |
|
3 |
77,291 |
37,763 |
77,294 |
37,763 |
77,295 |
37,763 |
|
4 |
77,286 |
37,762 |
77,292 |
37,763 |
77,295 |
37,763 |
|
6 |
77,283 |
37,762 |
77,287 |
37,762 |
77,293 |
37,763 |
|
8 |
77,255 |
37,759 |
77,28 |
37,761 |
77,29 |
37,762 |
|
10 |
77,232 |
37,756 |
77,271 |
37,760 |
77,286 |
37,762 |
|
12 |
77,204 |
37,753 |
77,26 |
37,759 |
77,282 |
37,762 |
|
14 |
77,171 |
37,749 |
77,247 |
37,758 |
77,276 |
37,761 |
|
16 |
77,133 |
37,745 |
77,232 |
37,756 |
77,27 |
37,760 |
|
18 |
77,089 |
37,740 |
77,214 |
37,754 |
77,263 |
37,759 |
|
20 |
77,041 |
37,734 |
77,195 |
37,752 |
77,255 |
37,759 |
|
Табл. 2. Влияние расстояния между входной и выходной антеннами на АЧХ УБВ (a = 3,5 мкм, N = 1 ⋅ 1020 см-3)
d, мм |
11 |
6 |
1 |
||||
ω, ГГц |
G, о. е. |
G, дБ |
G, о. е. |
G, дБ |
G, о. е. |
G, дБ |
|
3 |
78,643 |
37,913 |
42,896 |
32,648 |
7,149 |
17,085 |
|
4 |
78,639 |
37,913 |
42,894 |
32,648 |
7,149 |
17,085 |
|
6 |
78,626 |
37,911 |
42,887 |
32,647 |
7,148 |
17,084 |
|
8 |
78,607 |
37,909 |
42,877 |
32,644 |
7,146 |
17,081 |
|
10 |
78,584 |
37,907 |
42,864 |
32,642 |
7,144 |
17,079 |
|
12 |
78,555 |
37,903 |
42,848 |
32,639 |
7,141 |
17,075 |
|
14 |
78,521 |
37,900 |
42,83 |
32,635 |
7,138 |
17,072 |
|
16 |
78,483 |
37,896 |
42,809 |
32,631 |
7,135 |
17,068 |
|
18 |
78,438 |
37,891 |
42,785 |
32,626 |
7,131 |
17,063 |
|
20 |
78,389 |
37,885 |
42,758 |
32,620 |
7,126 |
17,057 |
|
Табл. 3. Влияние концентрации донорной примеси на АЧХ УБВ
(a = 3,5 мкм, d = 10,81 мм)
N |
2 ⋅ 1020 см-3 |
6 ⋅ 1020 см-3 |
10 ⋅ 1020 см-3 |
||||
ω, ГГц |
G, о. е. |
G, дБ |
G, о. е. |
G, дБ |
G, о. е. |
G, дБ |
|
3 |
154,569 |
43,782 |
463,708 |
53,325 |
772,847 |
57,762 |
|
4 |
154,56 |
43,782 |
463,681 |
53,324 |
772,802 |
57,761 |
|
6 |
154,535 |
43,781 |
463,605 |
53,323 |
772,674 |
57,760 |
|
8 |
154,499 |
43,779 |
463,407 |
53,319 |
772,495 |
57,758 |
|
10 |
154,453 |
43,776 |
463,359 |
53,318 |
772,265 |
57,755 |
|
12 |
154,397 |
43,773 |
463,19 |
53,315 |
771,984 |
57,752 |
|
14 |
154,33 |
43,769 |
462,991 |
53,311 |
771,652 |
57,748 |
|
16 |
154,254 |
43,765 |
462,761 |
53,307 |
771,269 |
57,744 |
|
18 |
154,167 |
43,760 |
462,501 |
53,302 |
770,836 |
57,739 |
|
20 |
154,07 |
43,754 |
462,211 |
53,297 |
770,352 |
57,734 |
|
Рис. 3. Влияние толщины пленки на АЧХ УБВ
Рис. 4. Влияние расстояния между входной и выходной антеннами на АЧХ УБВ
Рис. 5. Влияние концентрации донорной примеси на АЧХ УБВ
Таким образом, изменяемые параметры влияют на АЧХ усилителя.
Замечено, что с увеличением частоты входного сигнала в исследуемом диапазоне (3 – 20 ГГц) усиление всегда снижается в пределах 0,01-0,04 дБ.
Увеличение толщины пленки позволяет минимизировать снижение усиления с ростом частоты, но не определяет величину усиления в единицах дБ. Эффект может быть связан с уменьшением влияния диффузии, подавляющей усиление на высоких частотах, на более толстую структуру.
Увеличение расстояния между входной и выходной антеннами существенно повышает коэффициент усиления УБВ. Это можно объяснить удлинением области, проходимой волной в структуре с отрицательной дифференциальной подвижностью электронов.
Похожим образом усиление определяет концентрация электронов: чем выше их количество, тем эффективнее работает УБВ.
2. Исследование влияния толщины пленки и модели жесткой границы на коэффициент усиления УБВ
В табл. 4 и на рис. 6 представим зависимость G(a) на трех разных частотах при прочих неизменных параметрах (опытах , , d = 10,81 мм, N = 5 ⋅ 1020 см-3).
Табл. 4. Влияние толщины пленки на коэффициент усиления УБВ
ω, ГГц |
3 |
10 |
20 |
||||
a, мкм |
G, о. е. |
G, дБ |
G, о. е. |
G, дБ |
G, о. е. |
G, дБ |
|
0,5 |
384,99 |
51,709 |
370,705 |
51,381 |
2,813 |
8,983 |
|
1 |
386,088 |
51,734 |
382,439 |
51,651 |
370,805 |
51,383 |
|
2 |
386,362 |
51,740 |
385,455 |
51,719 |
382,49 |
51,652 |
|
4 |
386,43 |
51,741 |
386,209 |
51,736 |
385,481 |
51,720 |
|
6 |
386,443 |
51,742 |
386,347 |
51,740 |
386,031 |
51,732 |
|
8 |
386,447 |
51,742 |
386,394 |
51,741 |
386,221 |
51,737 |
|
9 |
386,448 |
51,742 |
386,407 |
51,741 |
386,272 |
51,738 |
|
10 |
386,449 |
51,742 |
386,416 |
51,741 |
386,308 |
51,739 |
|
Рис. 6. Влияние толщины пленки на коэффициент усиления УБВ
Сравним влияние диффузии на АЧХ для моделей жесткой и свободной границ потока.
Модель жесткой границы: поток электронов не оттеснен от края полупроводниковой пленки.
Модель свободной границы: за счет потенциала на металле поток оттеснен от верхнего края пленки.
Диффузия (D ≠ 0) существенно снижает усиление в области высоких частот.
Дисперсионное уравнение для волн пространственного заряда в активной области УБВ в общей форме:
где D = D – модель жесткой границы, – модель свободной границы. По формулам можно прийти к выводу, что модель свободной границы при отрицательном коэффициенте анизотропии позволяет добиться меньшего D, а значит, меньшей диффузии на высоких частотах, что уменьшит просадку АЧХ.
Определим также, для какой границы потока (жесткой и свободной) можно достичь максимального усиления на более высоких частотах.
Так как диффузия ограничивает частотный диапазон УБВ, для усиливаемых волн в режиме ОДП ( < 0) желательно D = 0, чтобы каждая волна имела на высоких частотах αmax. Минимальный коэффициент диффузии возможен в модели свободной границы.
Подберем значения концентрации носителей заряда и толщины структуры УБВ, обеспечивающие усиление 40 дБ на частоте до 15 ГГц при расстоянии между антеннами 5 мм и = -0.1 (рис. 7).
G = 100,006 о. е. = 40 дБ,
ω = 9,12 ГГц,
N = 2,8 ⋅ 1020 см-3,
a = 2,90 мкм.
Рис. 7. Подбор параметров УБВ в программе
Выводы
В лабораторной работе было проведено исследование влияние геометрических и электрофизических параметров усилителя бегущей волны на его частотные характеристики. Получены различные АЧХ усилителя в зависимости от значений толщины пленки, расстояния между входной и выходной антеннами и концентрации донорной примеси.
Дана интерпретация особенностям графиков ВАХ с точки зрения физических процессов.
Также было исследовано влияние толщины пленки на коэффициент усиления, рассмотрены модели жесткой и свободной границ.
Спроектирована модель УБВ, обеспечивающей усиление 40 дБ, с некоторыми заданными параметрами.
