
- •Физическая электроника Введение
- •Тема: Основы зонной теории твердых тел
- •1. Зоны разрешенных значений энергии в кристалле
- •2. Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •2.1. Число состояний в зоне
- •2.2. Связь заполнения зон с электрическими свойствами твердых тел
- •2.3. Поведение электронов во внешнем электрическом поле
- •3. Собственные полупроводники
- •4. Локальные уровни в запрещенной зоне
- •4.1. Донорные уровни
- •4.2. Акцепторные уровни
- •Тема: Статистика электронов и дырок в полупроводниках и металлах
- •1. Функция распределения в статистике Ферми-Дирака:
- •Функцию плотности состояний
- •Функцию распределения
- •2. Функция плотности состояний
- •3. Концентрация электронов и дырок в полупроводнике
- •3.1. Концентрация электронов в полупроводнике
- •3.2. Концентрация дырок в полупроводнике
- •4. Положение уровня Ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных полупроводниках
- •5. Статистика электронов в примесных полупроводниках
- •5.1. Донорный полупроводник
- •5.2. Акцепторный полупроводник
- •5.3. Закон действующих масс
- •5.4. Сильно легированные полупроводники
- •5.5. Компенсированные полупроводники
- •6. Статистика электронов в металлах
- •Тема: Неравновесные носители заряда в полупроводниках
- •1. Равновесные и неравновесные носители заряда (определение)
- •2. Время жизни. Скорости генерации и рекомбинации
- •3. Уравнение непрерывности
- •Диффузия и дрейф неравновесных носителей
- •4.1. Введение
- •4.2. Эффективный коэффициент диффузии
- •4.3. Стационарное распределение неравновесных носителей за слоем генерации
- •4.4. Максвелловское время релаксации
- •Тема: Электронная эмиссия Введение
- •1. Поверхностный потенциальный барьер для электронов в металле (Работа выхода)
- •2. Формула для плотности тока термоэлектронной эмиссии (Формула Ричардсона-Дешмена)
- •В ывод формулы для тока насыщения
- •3. Эффект Шоттки
- •4. Автоэлектронная эмиссия
- •5. Фотоэлектронная эмиссия
- •5.1. Основные закономерности. Формула Эйнштейна для фотоэффекта
- •5.2. Фотоэлектронная эмиссия из металлов
- •5.3. Фотоэлектронная эмиссия из диэлектриков и полупроводников
- •6. Вторичная электронная эмиссия
- •Тема: Электронные лампы
- •Двухэлектродные вакуумные лампы (диоды)
- •Вольт-амперная характеристика (вах) диода
- •Параметры диодов
- •Трехэлектродные лампы (триоды)
- •Внутреннее уравнение лампы
- •Недостатки триодов
- •Тетроды и пентоды
- •Тема. Электрический ток в газах
- •1. Ионизация газов. Упругие и неупругие столкновения
- •2. Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия
- •3. Скорости генерации и рекомбинации
- •Несамостоятельный разряд в газе
- •5. Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации
- •6. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •7. Лавинный разряд. Явление усиления тока при наличии ионизирующего соударения
- •8. Самостоятельный разряд
- •8.1. Лавинный разряд при объемной ионизации электронами и гамма-процессах на катоде
- •8.2. Зажигание самостоятельного разряда
- •8.2.1. Условия зажигания самостоятельного разряда
- •8.2.2. Процесс развития самостоятельного разряда
- •8.2.3. Развитие и установление самостоятельного разряда
- •8.2.4. Напряжение зажигания самостоятельного разряда
- •8.3. Формы самостоятельного разряда
- •8.3.1. Тлеющий разряд
- •8.3.2. Дуговой разряд
- •8.3.3. Коронный разряд
- •8.3.4. Искровой разряд
- •Тема: Движение электрона в электрических и магнитных полях
- •Электронная оптика
- •Движение электрона в однородном электрическом поле
- •3. Электростатическая электронная линза
- •1) Линзы-диафрагмы
- •2) Бипотенциальные линзы
- •3) Одиночные линзы
- •4. Магнитные линзы
- •Тема: Электронная микроскопия
- •Устройство электронного микроскопа
- •2. Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
5.5. Компенсированные полупроводники
Часто в полупроводниках одновременно присутствуют и доноры и акцепторы в сопоставимых количествах. Такие полупроводники называются компенсированными.
Рассмотрим случай полной компенсации, когда Nd = Na.
При T = 0 электроны занимают низшие состояния, каковыми в данном случае являются акцепторные уровни – электроны с донорных уровней переходят на акцепторные уровни.
При Т > 0 в зоне проводимости появляются электроны, активированные из валентной зоны (или с акцепторного уровня). Такой полупроводник (полностью компенсированный) ведет себя как собственный полупроводник.
В случае, когда Nd > Na, при Т = 0 все акцепторные уровни заняты электронами и поэтому они не могут принимать электроны из валентной зоны.
В этом случае, однако, часть состояний Nd–Na донорных уровней остается занятой электронами. Последние при Т > 0 активируются так же, как активируются электроны в донорном полупроводнике. Такой полупроводник ведет себя как полупроводник n-типа с концентрацией доноров, равной разности Nd – Na.
В случае, когда Na > Nd, полупроводник ведет себя так же, как акцепторный полупроводник с концентрацией акцепторов (Na – Nd).
На самом же деле, при низких температурах все-таки существуют некоторые отличия в положении уровня Ферми и в концентрациях носителей по сравнению с некомпенсированными полупроводниками.
6. Статистика электронов в металлах
Электроны в металлах, как известно, заполняют верхнюю зону только частично. При температуре Т = 0 К электроны занимают все нижние состояния зоны проводимости (по одному на состояние). Верхним уровнем является уровень Ферми. Зададимся вопросом: чему равна энергия уровня Ферми при Т = 0 К? Для ответа на него запишем формулу для общего числа электронов (концентрации) в виде:
так
как при Т = 0 К в пределах интегрирования
(Ec
E
EF)
функция
.
В металлах функция плотности состояний g(E) имеет вид
(2)
почти по всей зоне проводимости, а mn ≈ me (me – масса свободного электрона). Пусть Ec = 0, тогда (2) перепишется в виде
.
(2’)
Подставив (2’) в (1), после взятия интеграла получим
.
(3)
Откуда для энергии Ферми будем иметь
.
(4)
Зная EF
– максимальную
энергию электронов в металле при T
= 0 K,
можно вычислить максимальную
скорость электрона vmax,
исходя из формулы для кинетической
энергии электрона
:
.
(5)
Эта
скорость vmax
≈ 106
м/с (!) (И
это при
0 К!). Как уже
было сказано ранее,
при
0 К. Состояние электронного газа при
таком условии называется вырожденным.
Вообще состояние электронного газа
любого материала (не только металлов,
но и полупроводников) с
является вырожденным.
При T > 0 К электроны с уровней в интервале энергии ~ kT около уровня Ферми переходят на более высокие уровни. Так как условие kT << EF выполняется всегда (при Tкомн величина kT ≈ 0,025эВ, а EF ≈ 5эВ), энергия изменяется только у небольшой части электронов вблизи ЕF. Положение уровня Ферми при T > 0 K найдем из условия неизменности концентрации от температуры:
Этот интеграл, к сожалению, не может быть представлен в виде аналитической функции. Приближенно из него получается, что
где EF(0) – энергия Ферми при Т = 0 К.
Согласно (7) энергия Ферми очень слабо зависит от температуры, Так, например, при комнатной температуре изменение EF составляет всего ≈10-3 %. Согласно (7) уровень Ферми несколько понижается с температурой, Это происходит потому, что плотность состояний g(E) увеличивается с E.
Полученные выражения справедливы для одновалентных металлов, у которых валентные электроны заполняют лишь одну энергетическую зону. В многовалентных металлах (когда валентные электроны заполняют две и более зоны) ситуация сложнее. Однако и там электронный газ является вырожденным и его состояние очень слабо меняется с температурой.