
- •Физическая электроника Введение
- •Тема: Основы зонной теории твердых тел
- •1. Зоны разрешенных значений энергии в кристалле
- •2. Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •2.1. Число состояний в зоне
- •2.2. Связь заполнения зон с электрическими свойствами твердых тел
- •2.3. Поведение электронов во внешнем электрическом поле
- •3. Собственные полупроводники
- •4. Локальные уровни в запрещенной зоне
- •4.1. Донорные уровни
- •4.2. Акцепторные уровни
- •Тема: Статистика электронов и дырок в полупроводниках и металлах
- •1. Функция распределения в статистике Ферми-Дирака:
- •Функцию плотности состояний
- •Функцию распределения
- •2. Функция плотности состояний
- •3. Концентрация электронов и дырок в полупроводнике
- •3.1. Концентрация электронов в полупроводнике
- •3.2. Концентрация дырок в полупроводнике
- •4. Положение уровня Ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных полупроводниках
- •5. Статистика электронов в примесных полупроводниках
- •5.1. Донорный полупроводник
- •5.2. Акцепторный полупроводник
- •5.3. Закон действующих масс
- •5.4. Сильно легированные полупроводники
- •5.5. Компенсированные полупроводники
- •6. Статистика электронов в металлах
- •Тема: Неравновесные носители заряда в полупроводниках
- •1. Равновесные и неравновесные носители заряда (определение)
- •2. Время жизни. Скорости генерации и рекомбинации
- •3. Уравнение непрерывности
- •Диффузия и дрейф неравновесных носителей
- •4.1. Введение
- •4.2. Эффективный коэффициент диффузии
- •4.3. Стационарное распределение неравновесных носителей за слоем генерации
- •4.4. Максвелловское время релаксации
- •Тема: Электронная эмиссия Введение
- •1. Поверхностный потенциальный барьер для электронов в металле (Работа выхода)
- •2. Формула для плотности тока термоэлектронной эмиссии (Формула Ричардсона-Дешмена)
- •В ывод формулы для тока насыщения
- •3. Эффект Шоттки
- •4. Автоэлектронная эмиссия
- •5. Фотоэлектронная эмиссия
- •5.1. Основные закономерности. Формула Эйнштейна для фотоэффекта
- •5.2. Фотоэлектронная эмиссия из металлов
- •5.3. Фотоэлектронная эмиссия из диэлектриков и полупроводников
- •6. Вторичная электронная эмиссия
- •Тема: Электронные лампы
- •Двухэлектродные вакуумные лампы (диоды)
- •Вольт-амперная характеристика (вах) диода
- •Параметры диодов
- •Трехэлектродные лампы (триоды)
- •Внутреннее уравнение лампы
- •Недостатки триодов
- •Тетроды и пентоды
- •Тема. Электрический ток в газах
- •1. Ионизация газов. Упругие и неупругие столкновения
- •2. Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия
- •3. Скорости генерации и рекомбинации
- •Несамостоятельный разряд в газе
- •5. Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации
- •6. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •7. Лавинный разряд. Явление усиления тока при наличии ионизирующего соударения
- •8. Самостоятельный разряд
- •8.1. Лавинный разряд при объемной ионизации электронами и гамма-процессах на катоде
- •8.2. Зажигание самостоятельного разряда
- •8.2.1. Условия зажигания самостоятельного разряда
- •8.2.2. Процесс развития самостоятельного разряда
- •8.2.3. Развитие и установление самостоятельного разряда
- •8.2.4. Напряжение зажигания самостоятельного разряда
- •8.3. Формы самостоятельного разряда
- •8.3.1. Тлеющий разряд
- •8.3.2. Дуговой разряд
- •8.3.3. Коронный разряд
- •8.3.4. Искровой разряд
- •Тема: Движение электрона в электрических и магнитных полях
- •Электронная оптика
- •Движение электрона в однородном электрическом поле
- •3. Электростатическая электронная линза
- •1) Линзы-диафрагмы
- •2) Бипотенциальные линзы
- •3) Одиночные линзы
- •4. Магнитные линзы
- •Тема: Электронная микроскопия
- •Устройство электронного микроскопа
- •2. Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
5.2. Акцепторный полупроводник
Формулы для энергии Ферми и концентрации носителей в полупроводниках p-типа получают аналогично. Они имеют тот же вид, что и для донорных полупроводников, если сделать замену Nc → Nv, Eud → Eua, Ec–EF → EF–Ev. Зависимость EF(T), будет выглядеть следующим образом:
Зависимость lnp=f(1/T) совершенно аналогична кривой lnn=f(1/T) для донорного полупроводника.
5.3. Закон действующих масс
Как для собственных, так и для примесных невырожденных полупроводников произведение концентраций электронов и дырок есть постоянная величина, не зависящая от степени легирования:
Формула
называется
законом
действующих масс.
Произведение
концентрации электронов и дырок
в полупроводнике не
зависит от степени его легирования (Nd
или Nа),
а зависит
только
от температуры.
Оно равно квадрату концентрации
электронов
(или дырок
)
в собственном полупроводнике.
Из закона действующих масс следует, что в примесных полупроводниках в области примесной проводимости концентрация неосновных носителей (дырок – в донорном полупроводнике) оказывается намного меньше, чем в собственном полупроводнике. Это на примере n-полупроводника объясняется следующим образом. Установление равновесной концентрации определяется не только генерацией носителей, то есть тепловым возбуждением электронов с донорных уровней, но и их рекомбинацией. Когда в зоне проводимости появляется большое число электронов с донорных уровней, освобожденные уровни в валентной зоне гораздо быстрее занимаются электронами, чем в собственном полупроводнике, что приводит к резкому уменьшению концентрации дырок.
Отметим, что закон действующих масс справедлив только для невырожденных полупроводников.
5.4. Сильно легированные полупроводники
С увеличением степени легировании, кривая lnn от 1/T в областях примесной проводимости смещается параллельно вверх (см. формулу (10)). Так же параллельно вверх смещается зависимость lnn от 1/T в области истощения примеси, где n не зависит от температуры (в зоне плато).
После достижения
некоторого значения Nd,
наклон зависимости начинает уменьшаться
(
),
а затем и вообще становится
равным нулю
(
).
Уменьшение наклона начинается тогда,
когда волновые функции электронов на
соседних примесях начинают перекрываться,
и вместо локальных уровней примеси,
возникает примесная
энергетическая зона.
В этом случае запрещенная зона – щель
между примесной зоной и зоной проводимости
(валентной зоной для p-полупроводника)
уменьшается
по ширине.
Поэтому наклон прямой lnn(1/T)
уменьшается,
поскольку уменьшается энергия ионизации
примеси Еиd.
Наконец, при еще большей концентрации
примеси примесная зона сливается
с зоной проводимости (с валентной зоной
для p-полупроводника),
энергия
ионизации примеси становится равной
нулю (Еиd
= 0)
и наклон зависимости lnn(1/T)
(или lnp(1/T))
становится нулевым.
На рисунке справа приведена зависимость плотности состояний g(E) при слиянии примесной зоны и зоны проводимости. Образуется хвост плотности состояний.
Отметим, что из-за большого радиуса электронных орбит “лишних” электронов примесный уровень размывается в зону при сравнительно больших межпримесных расстояниях.
В сильнолегированных полупроводниках электронный газ является вырожденным. Однако и в сильнолегированных полупроводниках при приближении к температуре Ti уровень Ферми переходит в запрещенную зону, в результате чего электронный газ становится так же, как и в слаболегированных полупроводниках, невырожденным.