
- •Физическая электроника Введение
- •Тема: Основы зонной теории твердых тел
- •1. Зоны разрешенных значений энергии в кристалле
- •2. Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •2.1. Число состояний в зоне
- •2.2. Связь заполнения зон с электрическими свойствами твердых тел
- •2.3. Поведение электронов во внешнем электрическом поле
- •3. Собственные полупроводники
- •4. Локальные уровни в запрещенной зоне
- •4.1. Донорные уровни
- •4.2. Акцепторные уровни
- •Тема: Статистика электронов и дырок в полупроводниках и металлах
- •1. Функция распределения в статистике Ферми-Дирака:
- •Функцию плотности состояний
- •Функцию распределения
- •2. Функция плотности состояний
- •3. Концентрация электронов и дырок в полупроводнике
- •3.1. Концентрация электронов в полупроводнике
- •3.2. Концентрация дырок в полупроводнике
- •4. Положение уровня Ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных полупроводниках
- •5. Статистика электронов в примесных полупроводниках
- •5.1. Донорный полупроводник
- •5.2. Акцепторный полупроводник
- •5.3. Закон действующих масс
- •5.4. Сильно легированные полупроводники
- •5.5. Компенсированные полупроводники
- •6. Статистика электронов в металлах
- •Тема: Неравновесные носители заряда в полупроводниках
- •1. Равновесные и неравновесные носители заряда (определение)
- •2. Время жизни. Скорости генерации и рекомбинации
- •3. Уравнение непрерывности
- •Диффузия и дрейф неравновесных носителей
- •4.1. Введение
- •4.2. Эффективный коэффициент диффузии
- •4.3. Стационарное распределение неравновесных носителей за слоем генерации
- •4.4. Максвелловское время релаксации
- •Тема: Электронная эмиссия Введение
- •1. Поверхностный потенциальный барьер для электронов в металле (Работа выхода)
- •2. Формула для плотности тока термоэлектронной эмиссии (Формула Ричардсона-Дешмена)
- •В ывод формулы для тока насыщения
- •3. Эффект Шоттки
- •4. Автоэлектронная эмиссия
- •5. Фотоэлектронная эмиссия
- •5.1. Основные закономерности. Формула Эйнштейна для фотоэффекта
- •5.2. Фотоэлектронная эмиссия из металлов
- •5.3. Фотоэлектронная эмиссия из диэлектриков и полупроводников
- •6. Вторичная электронная эмиссия
- •Тема: Электронные лампы
- •Двухэлектродные вакуумные лампы (диоды)
- •Вольт-амперная характеристика (вах) диода
- •Параметры диодов
- •Трехэлектродные лампы (триоды)
- •Внутреннее уравнение лампы
- •Недостатки триодов
- •Тетроды и пентоды
- •Тема. Электрический ток в газах
- •1. Ионизация газов. Упругие и неупругие столкновения
- •2. Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия
- •3. Скорости генерации и рекомбинации
- •Несамостоятельный разряд в газе
- •5. Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации
- •6. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •7. Лавинный разряд. Явление усиления тока при наличии ионизирующего соударения
- •8. Самостоятельный разряд
- •8.1. Лавинный разряд при объемной ионизации электронами и гамма-процессах на катоде
- •8.2. Зажигание самостоятельного разряда
- •8.2.1. Условия зажигания самостоятельного разряда
- •8.2.2. Процесс развития самостоятельного разряда
- •8.2.3. Развитие и установление самостоятельного разряда
- •8.2.4. Напряжение зажигания самостоятельного разряда
- •8.3. Формы самостоятельного разряда
- •8.3.1. Тлеющий разряд
- •8.3.2. Дуговой разряд
- •8.3.3. Коронный разряд
- •8.3.4. Искровой разряд
- •Тема: Движение электрона в электрических и магнитных полях
- •Электронная оптика
- •Движение электрона в однородном электрическом поле
- •3. Электростатическая электронная линза
- •1) Линзы-диафрагмы
- •2) Бипотенциальные линзы
- •3) Одиночные линзы
- •4. Магнитные линзы
- •Тема: Электронная микроскопия
- •Устройство электронного микроскопа
- •2. Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
5. Статистика электронов в примесных полупроводниках
В примесных полупроводниках электроны могут переходить в зону проводимости не только из валентной зоны, но и с донорных уровней. Дырки же могут возникать при переходе электронов из валентной зоны на акцепторные уровни.
Получим выражение для концентрации электронов на примесном уровне Eпр, считая, что примесь только одного сорта:
где
Nпр
– концентрация примесных атомов с
энергией Eпр,
g – величина, связанная со степенью
вырождения уровня Eпр.
Для доноров
,
а для акцепторов g
=2.
5.1. Донорный полупроводник
Будем рассматривать полупроводники с малой концентрацией примеси, которые при комнатной температуре являются невырожденными полупроводниками.
Рассмотрим сначала низкие температуры.
Если в полупроводник введена донорная примесь с концентрацией Nd и с малой энергией ионизации Eиd, то при низких температурах число электронов, попавших в зону проводимости с донорных уровней, будет значительно превышать число электронов, возбужденных из валентной зоны. В этом случае переходами из валентной зоны можно будет пренебречь. Так сейчас и поступим. Тогда число электронов в зоне проводимости n будет равно числу ионизированных доноров, то есть числу свободных мест на донорных уровнях Nd+ :
Для невырожденного полупроводника для n имеем:
а число свободных мест на донорных уровнях Nd+ согласно (1) с учетом того, что теперь Nпр= Nd, а Епр=Еd, равно:
Приравняв n согласно (3) и Nd+ согласно (4), получим:
Рассмотрим область очень низких температур, когда EF–Ed >> kT. В этом случае единицей в знаменателе правой части уравнения (5) можно пренебречь и тогда формула (5) перепишется
откуда
При T → 0 EF → (Ec+Ed)/2, то есть уровень Ферми стремится к середине между дном зоны проводимости Ес и уровнем Ed. Заметим, что при T → 0, Nd+ → 0, как это видно из (4), то есть доноры (как это и должно быть при абсолютном нуле температуры) не ионизированы.
При повышении температуры от 0 К, согласно (6) уровень Ферми сначала поднимается, так как при низких температурах знаменатель дроби под логарифмом меньше числителя. Поэтому второй член в (6) больше нуля (во первых) и увеличивается с увеличением температуры T (во вторых). Однако при дальнейшем повышении температуры, уровень Ферми, достигнув максимума, начинает понижаться (принимаем это без доказательства) и при некоторой температуре T = Ts пересекает донорный уровень Ed. Но при T ≈ Ts пользоваться уравнением (6) уже нельзя, так как оно было получено при условиях EF–Ed >> kT или Nd+ << Nd, которые теперь не выполняются. Действительно, из (4) следует, что при совпадении уровня Ферми с уровнем Ed мы имеем Nd+ = Nd/3. В этом случае величину EF следует определять из более общего уравнения (5).
Найдем температуру Ts из условий: EF = Ed и Nd+ = Nd/3:
.
(7)
Отсюда, учитывая, что Ec – Ed = Eud, получаем
.
(8)
Температура
Ts
называется температурой
истощения примеси.
Из этого выражения видно, что, чем
больше Eud,
тем выше Ts.
Температура истощения примеси зависит
также и от Nd.
А именно, чем
больше Nd,
тем больше Ts.
Физическая причина этого заключается
в том, что, чем больше концентрация
донорной примеси Nd,
тем больше
вероятность захвата
(возврата) электронов из зоны проводимости
на донорные уровни и чтобы достичь
истощения примеси при б
льших
Nd,
необходимо поднимать температуру до
более высоких значений.
Обычно температура истощения примеси невелика. Так, для примеси в германии Eud =0,01 эВ и Nd =1016 см-3, Ts = 30 К.
Теперь получим
концентрацию электронов в зоне
проводимости при
очень низких температурах.
Для этого выражение для EF
(уравнение 6) подставим в уравнение (3)
(
):
.
(9)
Прологарифмировав (9), получим:
Зависимость
(логарифмическая) первого слагаемого
в выражении (10) от температуры гораздо
более слабая, чем второго, поэтому
зависимость ln
n
от 1/T
в области низких температур приблизительно
линейная с угловым коэффициентом
.
Рассмотрим теперь область истощения примеси (T ~ TS). При небольшом превышении температуры над TS практически все электроны переходят с донорных уровней в зону проводимости (в этом случае fпр(Eпр)=0 и Nd+ = Nd). Тогда
При
этом, поскольку Nd
не зависит от температуры, концентрация
электронов n
тоже
является температурной константой
(см. рисунок: плато на зависимости
).
Найдем энергию Ферми в этой области температур из условия (11):
.
(12)
Она равна
Величина Nc
(число состояний зоны проводимости),
увеличивается с повышением температуры,
и уже при T
= TS,
Nc
> Nd.
Поэтому слагаемое
в (13) имеет отрицательный
знак и
увеличивается по модулю с повышением
температуры, а уровень
Ферми понижается.
Рассмотрим область собственной проводимости. При высоких температурах в концентрацию электронов будут вносить заметный вклад электроны, возбуждаемые из валентной зоны. Концентрация электронов снова начнет расти (область 3 на рисунке) и, в конце концов, станет практически равной концентрации ni в собственном полупроводнике (см. графики зависимостей lnn от 1/T и EF от Т). За температуру перехода к собственной проводимости Ti принимают температуру, при которой ni совпадает с концентрацией электронов в донорном полупроводнике в области истощения Nd:
откуда, согласно
получаем:
.
Отсюда
Согласно (15), чем шире запрещенная зона Eg и чем больше Nd, тем выше Ti. При Nd=1016 см-3 в германии Ti =480K. Значение Ti определяет предельную температуру работы большинства полупроводниковых приборов.