- •Физическая электроника Введение
- •Тема: Основы зонной теории твердых тел
- •1. Зоны разрешенных значений энергии в кристалле
- •2. Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •2.1. Число состояний в зоне
- •2.2. Связь заполнения зон с электрическими свойствами твердых тел
- •2.3. Поведение электронов во внешнем электрическом поле
- •3. Собственные полупроводники
- •4. Локальные уровни в запрещенной зоне
- •4.1. Донорные уровни
- •4.2. Акцепторные уровни
- •Тема: Статистика электронов и дырок в полупроводниках и металлах
- •1. Функция распределения в статистике Ферми-Дирака:
- •Функцию плотности состояний
- •Функцию распределения
- •2. Функция плотности состояний
- •3. Концентрация электронов и дырок в полупроводнике
- •3.1. Концентрация электронов в полупроводнике
- •3.2. Концентрация дырок в полупроводнике
- •4. Положение уровня Ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных полупроводниках
- •5. Статистика электронов в примесных полупроводниках
- •5.1. Донорный полупроводник
- •5.2. Акцепторный полупроводник
- •5.3. Закон действующих масс
- •5.4. Сильно легированные полупроводники
- •5.5. Компенсированные полупроводники
- •6. Статистика электронов в металлах
- •Тема: Неравновесные носители заряда в полупроводниках
- •1. Равновесные и неравновесные носители заряда (определение)
- •2. Время жизни. Скорости генерации и рекомбинации
- •3. Уравнение непрерывности
- •Диффузия и дрейф неравновесных носителей
- •4.1. Введение
- •4.2. Эффективный коэффициент диффузии
- •4.3. Стационарное распределение неравновесных носителей за слоем генерации
- •4.4. Максвелловское время релаксации
- •Тема: Электронная эмиссия Введение
- •1. Поверхностный потенциальный барьер для электронов в металле (Работа выхода)
- •2. Формула для плотности тока термоэлектронной эмиссии (Формула Ричардсона-Дешмена)
- •В ывод формулы для тока насыщения
- •3. Эффект Шоттки
- •4. Автоэлектронная эмиссия
- •5. Фотоэлектронная эмиссия
- •5.1. Основные закономерности. Формула Эйнштейна для фотоэффекта
- •5.2. Фотоэлектронная эмиссия из металлов
- •5.3. Фотоэлектронная эмиссия из диэлектриков и полупроводников
- •6. Вторичная электронная эмиссия
- •Тема: Электронные лампы
- •Двухэлектродные вакуумные лампы (диоды)
- •Вольт-амперная характеристика (вах) диода
- •Параметры диодов
- •Трехэлектродные лампы (триоды)
- •Внутреннее уравнение лампы
- •Недостатки триодов
- •Тетроды и пентоды
- •Тема. Электрический ток в газах
- •1. Ионизация газов. Упругие и неупругие столкновения
- •2. Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия
- •3. Скорости генерации и рекомбинации
- •Несамостоятельный разряд в газе
- •5. Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации
- •6. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •7. Лавинный разряд. Явление усиления тока при наличии ионизирующего соударения
- •8. Самостоятельный разряд
- •8.1. Лавинный разряд при объемной ионизации электронами и гамма-процессах на катоде
- •8.2. Зажигание самостоятельного разряда
- •8.2.1. Условия зажигания самостоятельного разряда
- •8.2.2. Процесс развития самостоятельного разряда
- •8.2.3. Развитие и установление самостоятельного разряда
- •8.2.4. Напряжение зажигания самостоятельного разряда
- •8.3. Формы самостоятельного разряда
- •8.3.1. Тлеющий разряд
- •8.3.2. Дуговой разряд
- •8.3.3. Коронный разряд
- •8.3.4. Искровой разряд
- •Тема: Движение электрона в электрических и магнитных полях
- •Электронная оптика
- •Движение электрона в однородном электрическом поле
- •3. Электростатическая электронная линза
- •1) Линзы-диафрагмы
- •2) Бипотенциальные линзы
- •3) Одиночные линзы
- •4. Магнитные линзы
- •Тема: Электронная микроскопия
- •Устройство электронного микроскопа
- •2. Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
3. Концентрация электронов и дырок в полупроводнике
3.1. Концентрация электронов в полупроводнике
Концентрация электронов равна:
(11)
Епот – энергия потолка зоны проводимости. Интегрирование в (11) производится по зоне проводимости. В полупроводнике интегрирование можно распространить до бесконечности (∞), так как при E>EF с ростом энергии функция f(E) быстро спадает, а g(E), хоть и растет, но растет очень медленно. Тогда концентрация электронов будет равна:
Если уровень Ферми расположен глубоко в запрещенной зоне, то (E–EF) >> kT и электронный газ зоны проводимости будет невырожденным (f(E)=C·exp(–E/kT)). В этом случае и сам полупроводник называется невырожденным.
Полная функция распределения электронов по энергиям невырожденного газа примет вид:
.
(13)
Из
(13) следует, что распределение частиц
по энергиям ~
.
Оно зависит от температуры газа. Для
невырожденного газа функция B(E)
достигает максимума при E
= kT/2
и быстро спадает при E
> kT.
Проинтегрируем
,
где B(E)
возьмем в виде ур. (13) для невырожденного
полупроводника, и получим:
(14)
где коэффициент пропорциональности
(15)
называется эффективным числом или плотностью состояний, приведенных ко дну зоны проводимости, или, иначе, числом состояний зоны проводимости.
Для невырожденного полупроводника величина Ec–EF положительная. Поэтому, чем ниже уровень Ферми (то есть, чем меньше EF), тем меньше электронов в зоне проводимости.
3.2. Концентрация дырок в полупроводнике
Вероятность того, что состояние с энергией E не занято электроном, а, следовательно, занято дыркой, равна:
Газ дырок валентной зоны будет невырожденным, если (EF – E) >> kT. Тогда
где
.
Из (18) видно, что вероятность заполнения (заселенность) состояний валентной зоны дырками убывает экспоненциально вглубь валентной зоны (при движении вдоль оси энергии влево). Полное число дырок (концентрация дырок) p получим, проинтегрировав fp(E)g(E)dE по энергии:
где
– называется числом состояний валентной
зоны.
Если условие невырожденности того или иного газа не выполняется, то вычисление интегралов типа (12) и (19) для концентрации частиц проводят численным методом.
4. Положение уровня Ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных полупроводниках
Положение уровня Ферми в собственных полупроводниках можно найти из условия равенства количества электронов в зоне проводимости ni количеству дырок в валентной зоне pi:
где индекс i – обозначает принадлежность к собственному полупроводнику.
Приравняв n (формула (14)) к p (формула (19)), будем иметь:
EFi – энергия уровня Ферми в собственном полупроводнике.
Отсюда, используя соотношение EFi – EV = Eg – (Ec – EFi), получим
или
За счет того, что
mp
≠ mn,
уровень
Ферми несколько сдвинут относительно
середины запрещенной зоны. Если бы массы
дырки и электрона были равны: mp
= mn,
то уровень Ферми был бы расположен точно
посередине запрещенной зоны. Как видно
из (21), при T = 0 он, действительно, расположен
посередине запрещенной зоны. Если T >
0, то при mp
> mn
логарифм ln
–
отрицательная величина и уровень Ферми
сдвигается вверх,
а при mn
> mp
логарифм ln
–
положительная величина и уровень Ферми
сдвигается вниз.
Поскольку, как правило, разница между
mp
и
mn
небольшая,
то этим сдвигом как правило пренебрегают.
Тогда
Ec – EFi = EFi – EV = Eg/2.
Получим концентрацию свободных носителей в собственном полупроводнике:
Отсюда видно, что концентрация носителей заряда в собственном полупроводнике определяется шириной запрещенной зоны Eg и температурой. Причем зависимость ni (или pi) от температуры очень резкая. Так, для германия с Eg = 0,66 эВ, увеличение температуры от 100 до 600 К приводит к повышению ni на 17 порядков.
Прологарифмировав (22), получим:
Так
как
зависит от температуры гораздо слабее,
чем 1/T,
график зависимотсти lnni
от 1/T
представляет собой приблизительно
прямую линию
с угловым коэффициентом – Eg/2k.
